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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]布气管-CN201520503229.7有效
发明人：徐根;李翼;颜春李;李伟;张诚;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种布气管，包括呈柱体状的管体，管体的外周壁上具有第一平面，第一平面沿管体的长度方向延伸，第一平面上加工有用于输送气体的第一凹槽，第一凹槽沿管体的长度方向延伸，管体的一端加工有与第一凹槽连通的进气通道，管体的外周壁上加工有多个与第一凹槽连通的出气孔；第一平面上可拆卸地连接有用于封堵第一凹槽的盖板。本实用新型的布气管可拆卸，从而可以定期对布气管进行喷砂处理和内壁的卫生处理，定期检查布气管内部的卫生情况，保证布气管内部的洁净度；盖板与管体可拆卸连接，不存在焊接等情况，因此布气管无藏污纳垢的可能。
气管

[实用新型]光掩膜版用涂胶卡盘-CN201520500799.0有效
发明人：张诚;李伟;李翼;颜春李;徐根;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体，卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件。采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件，故当光掩膜版装设于第一凹槽内时，由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。
光掩膜版用涂胶卡盘

[实用新型]玻璃基板用存储装置-CN201520504135.1有效
发明人：周学文;李伟;颜春李;徐根;张诚;李翼;宋小光 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种玻璃基板用存储装置，包括可移动的储存箱，储存箱内设有顶部开口的、用于存储玻璃基板的储存腔，储存箱上设有与储存腔连通以将储存腔内盛装的用于清洗玻璃基板的清洗液向外排出的排液口；储存腔内设有至少一组用于卡持玻璃基板的卡持件，每组卡持件包括两块相对设置的卡板，两块卡板的相对的面上各设有多条供玻璃基板的相对的两条侧边分别插入的第一卡槽。本实用新型的玻璃基板用存储装置方便移动，不会与储存箱发生碰撞，便于注水、排水、储水及卫生处理，不会存在不同型号的基板的交叉污染问题。
玻璃基板用存储装置

[实用新型]用于玻璃基板定位的定位块及前烘装置-CN201520503322.8有效
发明人：李翼;李伟;颜春李;徐根;张诚;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于玻璃基板定位的定位块及前烘装置，该定位块用于安装在热板上并托起玻璃基板，定位块包括用于插入热板的定位孔内的插脚以及连接于插脚顶端用于托举玻璃基板的垫块，垫块的顶面为平整的平面，垫块的底面面积大于插脚的顶面面积。定位块通过插脚插入热板的定位孔内安装在热板上，垫块的顶面为平整的平面以托起玻璃基板。由于玻璃基板是托举在垫块上，定位块安装后，可托举多种尺寸的玻璃基板。上述的用于玻璃基板定位的定位块适用于多种尺寸范围的玻璃基板，适用性较广，玻璃基板尺寸发生变化时，无需频繁重新安装定位块，提高了生产效率。
用于玻璃定位装置

[实用新型]匀胶机排风装置及匀胶机-CN201520396814.1有效
发明人：李翼;李伟;颜春李;徐根;张诚;周学文 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2015-06-10 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： B05C11/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种匀胶机排风装置及匀胶机，包括风机、排风管，所述风机与所述排风管相连，还包括至少一根软管和至少一个可调节阀门，其中，所述软管的一端与废胶槽底部相通，所述软管的另一端通过所述可调节阀门与所述排风管相通。本实用新型的匀胶机排风装置及匀胶机，通过可调节阀门来控制软管的关闭，从而来控制基片上面空气的流动，以此来调整光刻胶的干燥速度，使基片表面光刻胶的膜厚均匀性更佳，同时基片表面也不会产生变色不良的情况。
匀胶机排风装置匀胶机

[发明专利]新三层膜结构的光掩膜及其制备方法-CN201210379702.6有效
发明人：李弋舟;萧训山;徐根;李伟;颜春李 -专利权人：湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
申请日： 2012-09-27 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种新三层膜结构的光掩膜及其制备方法，新三层膜结构的光掩膜包括玻璃基片、阻挡层、遮光膜层及减反射膜层，所述阻挡层、遮光膜层及减反射膜层三层膜中至少有一层含有碳成分；在制备方法上，提供一个或多个Cr靶材，通过真空磁控溅射方法将阻挡层、遮光膜层及减反射膜层依次镀在玻璃基片上。本发明不仅解决因钠离子扩散造成的“凹陷”问题，而且相对现有技术的三层膜结构，本新三层膜结构的光掩膜能够确保蚀刻时间及良好的刻蚀速率；在制备过程中只需提供一种Cr靶材。
三层膜结构光掩膜及其制备方法

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