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- [发明专利]铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法-CN202310028566.4在审
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童晨;吴海燕;陈桂红;孙元;韩成强
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昆山晶科微电子材料有限公司
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2023-01-09
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2023-05-26
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C23F1/26
- 本申请公开铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法，涉及蚀刻液领域。所述铬蚀刻液按重量份包括硝酸铈铵10‑45份、非氧化性酸2‑8份、过氧化氢3‑12份、稳定剂1‑3份、蚀刻抛光剂0.5‑1.5份、消泡剂0.2‑0.7份、去离子水50‑90份。所述铬蚀刻液的制备方法包括：将硝酸铈铵加入去离子水中充分溶解混匀，加入非氧化性酸、过氧化氢以及稳定剂，继续混合均匀，得到预混物A；将蚀刻抛光剂、消泡剂加入去离子水中，充分混合均匀，得到预混物B；将预混物A加入到预混物B中，混合均匀后，使用滤网进行过滤，即得到本发明提供的铬蚀刻液。本申请能够有效提高蚀刻反应速率，蚀刻后衬底表面平整光亮，提升了蚀刻质量，并且能够实现铬蚀刻液的回收再利用。
- 蚀刻制备方法回收
- [实用新型]一种蚀刻液包装瓶清洗设备-CN202221022809.0有效
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童晨;吴海燕;韩成强;孙元;陈桂红
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昆山晶科微电子材料有限公司
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2022-04-29
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2022-11-29
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B08B9/28
- 本实用新型公开了一种蚀刻液包装瓶清洗设备，属于蚀刻液生产技术领域，包括支架、设置在支架顶部的升降组件，设置在升降组件输出端上的放置组件以及用于冲洗包装瓶的清洗组件，放置组件包括安装盘、通过支撑杆设置在安装盘上方的挡板，安装盘上呈圆周阵列设有数个安装孔，挡板底部对应每个安装孔处设置有底部带有缓冲板的弹簧，清洗组件包括设置在放置座正下方的清洗盘以及呈圆周阵列在清洗盘上且与安装孔一一对应的高压清洗枪，本实用新型将包装瓶都扣在旋转盘上，用高压水枪对包装瓶内部进行高压冲洗，冲洗后的污水会自动随着瓶口流出，且在冲洗过程中包装瓶会产生晃动，增大瓶子冲洗面积，提高包装瓶的清洗效果。
- 一种蚀刻包装清洗设备
- [实用新型]一种IT用铝蚀刻液灌装系统-CN202123426386.7有效
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童晨;吴海燕;韩成强;孙元;陈桂红
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昆山晶科微电子材料有限公司
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2021-12-31
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2022-11-29
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B67C3/30
- 本实用新型公开了一种IT用铝蚀刻液灌装系统，包括底座，所述底座内部安装有输送带，所述底座上端面固定有支撑杆，所述支撑杆上端面固定有支撑板，所述支撑板上端面固定有顶板，所述顶板上端面固定有液槽，所述支撑板内腔开设有滑槽，所述滑槽内腔套接插设有滑块，两个所述滑块之间固定有升降板。本实用新型中，灌装头可以便捷的安装在套管内，同时套管的间距可以调节，使其多个灌装头之间的间距可以灵活改变，使其能够对多个罐装桶同时进行灌装作业，提高灌装作业，且灌装头与液槽之间连接的软管可以便捷拆卸，软管出现堵塞时能够轻松的更换，并且软管与灌装头连接处通过密封胶圈，可以防止铝蚀刻液的渗漏。
- 一种it蚀刻灌装系统
- [实用新型]一种IT用蚀刻液灌装设备-CN202221022828.3有效
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童晨;吴海燕;韩成强;孙元;陈桂红
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昆山晶科微电子材料有限公司
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2022-04-29
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2022-10-21
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B67C3/24
- 本实用新型公开了一种IT用蚀刻液灌装设备，属于灌装技术领域，包括灌装机架、输送带,灌装机架通过安装板设置有间距调节机构，间距调节机构包括设置在安装板上的中空滑槽，两对上下平行设置在中空滑槽内的滚珠丝杆以及驱动滚珠丝杆转动的电机，中空滑槽上下两侧设置有X轴导轨，每个滚珠丝杆上滑动设置有与X轴导轨连接的滑块，滑块上设置有带有视觉感应器的灌装枪，输送带对应灌装枪底部设置有导向定位机构，导向定位机构包括对称设置在输送带两侧的伸缩气缸以及设置在伸缩气缸输出端的导流板，导流板对应输送带运行方向的一端设置有挡停组件，本实用新型可以调整出灌注枪之间的间距，以适应不同尺寸瓶体的灌装需要。
- 一种it蚀刻灌装设备
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