专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]分光式红外辅助固态壳层制备装置-CN202310715875.9在审
  • 陈冠华;代飞;陶朝友;黎军;王凯;林伟;刘喜川 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2023-06-16 - 2023-09-19 - G21B1/13
  • 一种分光式红外辅助固态壳层制备装置,包括连接于制冷机冷头的球形腔体,球形腔体连接有用于充入传热介质的球形腔体充气管,球形腔体内设置有微球,微球连接有用于充入固态壳层物质的微球充气管,球形腔体上设置有光纤连接器,光纤连接器的后端连接有光纤,光纤连接器的前端安装有延伸至球形腔体内的导光柱,导光柱的前端安装有分光镜体,分光镜体的表面具有光学半透膜,球形腔体的内表面被制作成漫反射率达到95%以上的高漫反射表面,导光柱将光纤的红外激光以预定的入射角度导入分光镜体。由于分光结构将红外激光导入装有微球的球形腔体中,利用高漫射球形壁面的积分球效应,使红外激光对微球内固态壳层进行均匀加热,达到冰层均化效果。
  • 分光红外辅助固态制备装置
  • [发明专利]反射式红外辅助固态壳层制备装置-CN202310715872.5在审
  • 陈冠华;王凯;林伟;黎军;代飞;陶朝友;刘喜川 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2023-06-16 - 2023-09-05 - G21B1/13
  • 一种反射式红外辅助固态壳层制备装置,包括连接于制冷机冷头的球形腔体,球形腔体连接有用于充入传热介质的球形腔体充气管,球形腔体内设置有微球,微球连接有用于充入固态壳层物质的微球充气管,球形腔体的下方设置有光纤连接器,光纤连接器的下端安装有光纤,光纤连接器的上端安装有向上延伸至球形腔体内的导光柱,导光柱的上端连接有反射镜体,球形腔体的内表面、反射镜体的外表面被制作成漫反射率达到95%以上的高漫反射表面。由于采用反射结构将红外激光导入装有微球的球形腔体中,利用高漫射球形壁面的积分球效应,使红外激光对微球内固态壳层进行均匀加热,达到冰层均化效果。
  • 反射红外辅助固态制备装置
  • [发明专利]一种超低折射率SiO2-CN201811577518.6有效
  • 陶朝友;张林;邹鑫书 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2018-12-21 - 2022-05-03 - C03C17/25
  • 本发明公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法,所述制备方法为:先制备得到酸催化的SiO2溶胶A,然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B,最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。本发明的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快,由于制得的SiO2减反射膜中有酸催化SiO2纳米颗粒的存在,使得到的SiO2减反射膜相比于现有的SiO2减反射膜,机械性能更好,且透光率高,反应过程中无需引入任何有机硅烷或是对薄膜进行后处理即可得到超低折射率的SiO2薄膜。
  • 一种折射率siobasesub
  • [发明专利]深冷靶低温吸附抑制装置-CN202010586148.3有效
  • 黎军;雷海乐;代飞;王凯;林伟;漆小波;陶朝友;李喜波;刘元琼 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2020-06-24 - 2022-03-25 - G21B1/03
  • 本发明公开了一种深冷靶低温吸附抑制装置,包括悬臂基座、位于悬臂基座前方的常温固定屏、低温固定屏以及常温活动屏、低温活动屏,低温固定屏的与导冷杆的导冷面紧固连接进行冷量传递,低温活动屏的外部设置有加热块和温度传感器,低温活动屏的温度通过温度传感器反馈至用于设定控制整体温度的控温系统,控温系统通过控制加热块将温度精确控制在设定范围内。本发明将杂质气体及有机悬浮物进行常温隔离和低温冷凝,常温隔离通过在真空大环境下再制造出小真空腔室把外部真空大环境内的杂质气体及有机悬浮物进行隔离,低温冷凝是通过低温屏蔽、容线套和导冷杆等低温组件将进入常温内部的杂质气体及有机悬浮物冷凝下来并吸附于低温组件表面。
  • 深冷靶低温吸附抑制装置
  • [发明专利]一种双层复合SiO2-CN201810513506.0有效
  • 陶朝友;邹鑫书 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2018-05-25 - 2021-11-23 - C03C17/23
  • 本发明公开了一种双层复合SiO2减反射膜的制备方法,将硅源加入至无水乙醇、盐酸和水的混合液中,于室温下搅拌均匀后静置数天,得到酸催化的SiO2溶胶A;将硅源加入至无水乙醇、氨水和水的混合液中,于室温下搅拌均匀后静置数天,得到碱催化的SiO2溶胶B;将SiO2溶胶A和步骤2制得的SiO2溶胶B分别除酸和除氨,得到SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B1;将SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B按照质量比1∶4进行混合,将SiO2溶胶A和SiO2溶胶B1按照质量比2∶3进行混合,搅拌均匀后静置数天,分别得到复合溶胶S‑20%和S‑40%;在相对湿度环境<50%的环境下,将经过预处理的基底浸入复合溶胶S‑40%中进行镀膜,将镀膜的基底静置数分钟,再将基底浸入复合溶胶S‑20%中进行镀膜;最后将镀有双层膜的基底置于HMDS气氛中处理即可。
  • 一种双层复合siobasesub
  • [实用新型]磨削装置-CN201922194818.2有效
  • 刘喜川;代飞;林伟;陶朝友;李喜波;刘元琼;黎军;王凯;漆小波 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2019-12-10 - 2020-09-04 - B24B13/01
  • 本实用新型公开了一种磨削装置,包括磨具座、安装于磨具座的磨具固定夹孔之内的磨具,控制单元,磨具包括刀柄,刀柄的下端同轴设置有光杆段、外形开粗段、第一外形精修段、第二外形精修段、打孔精修段以及打孔切割开粗段,控制单元分别记录光杆段、外形开粗段、第一外形精修段、第二外形精修段、打孔精修段以及打孔切割开粗段的高度位置信息并控制磨具座根据指令在竖直方向移动。本实用新型的优点和有益效果在于:本装置在轴向精确定义相应刀具结构层次,多种加工功能集成在刀具上,特殊结构的外形精修段提供了极高的加工精度。
  • 磨削装置
  • [实用新型]小梯度低温氛围生成设备-CN201922195780.0有效
  • 刘喜川;代飞;黎军;李喜波;陶朝友;王凯;林伟;漆小波;刘元琼 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2019-12-10 - 2020-09-04 - F25B23/00
  • 一种小梯度低温氛围生成设备,包括前冷头和支架组合体,前冷头的前端连接于制冷机冷头、后端连接于支架组合体,支架组合体包括多个间隔设置并且导热系数依次递变的导冷分支,每个导冷分支上独立设置有温度传感器和加热块,导冷分支的末端连接有深冷腔,导冷分支的末端与深冷腔的接触面上设置用于增大接触面积并降低热阻的铟层,深冷腔内填充有气体,深冷腔的顶面和底面密封安装有液封玻片、侧面设置有诊断孔,诊断孔上安装诊断窗,诊断窗由多个曲率半径不同并沿水平轴线对称分布的基弧单元组成,各个基弧单元的边缘依次相连接为冷却气体提供流入空间,基弧单元具有共同的圆心且半径随中心角的增加而增加。
  • 梯度低温氛围生成设备
  • [实用新型]大梯度型低温环境制备装置-CN201922194819.7有效
  • 刘喜川;代飞;雷海乐;王凯;林伟;漆小波;李喜波;陶朝友;刘元琼 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2019-12-10 - 2020-09-04 - F25B23/00
  • 一种大梯度型低温环境制备装置,包括前冷头和支架组合体,前冷头的前端连接于制冷机冷头、后端连接于支架组合体,支架组合体包括多个间隔设置并且导热系数依次递变的导冷分支,每个导冷分支上独立设置有温度传感器和加热块,导冷分支的末端连接有深冷腔,导冷分支的末端与深冷腔的接触面上设置用于增大接触面积并降低热阻的铟层,深冷腔内填充有气体,深冷腔的顶面和底面密封安装有液封玻片、侧面设置有诊断孔,诊断孔上安装诊断窗,诊断窗由多个曲率半径不同并沿水平轴线对称分布的基弧单元组成,各个基弧单元的边缘依次相连接为冷却气体提供流入空间,基弧单元具有沿水平轴线分布的不同的圆心且半径随中心角的增加而增加。
  • 梯度低温环境制备装置
  • [发明专利]一种折射率可调的SiO2-CN201810513311.6有效
  • 陶朝友;张林;邹鑫书;严鸿维;袁晓东 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2018-05-25 - 2020-05-12 - G02B1/113
  • 本发明公开了一种折射率可调的SiO2减反射膜的制备方法,该制备方法将六甲基二硅胺烷与正硅酸乙酯同时作为原料加入反应液中合成SiO2溶胶,再采用浸渍提拉法在基底上镀碱催化的SiO2膜。本发明的制备方法能够一步制得折射率可大范围调控的SiO2薄膜,该制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快,制得的SiO2减反射膜透光率高,在高湿热环境中仍具有极为优异的稳定性。将六甲基二硅胺烷作为反应原料,不仅能够对薄膜微观结构进行调节,从而实现对薄膜折射率的调控;而且还能在六甲基二硅胺烷占比较大时,有效提高薄膜的机械强度(拉压强度)。
  • 一种折射率可调siobasesub

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