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- [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202310815275.X在审
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奥谷学;阿部博史
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株式会社斯库林集团
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2019-01-24
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2023-09-29
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理方法，基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持用具将基板保持为水平；液膜形成工序，通过向基板的上表面供给处理液，在基板的上表面形成处理液的液膜；液密加热工序，通过向设置在基板与基座之间的加热器单元与基板之间的空间供给热媒来使热媒充满空间，并且通过加热器单元加热热媒；开口形成工序，在通过液密加热工序加热基板使得基板的温度成为处理液的沸点以上的状态下，在基板上的液膜的中央区域形成开口；以及开口扩大工序，一边通过使基座旋转而使基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转，一边使开口扩展。液密加热工序在开口扩大工序的至少一部分的期间与开口扩大工序并行执行。
- 处理方法装置
- [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201910066183.X有效
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奥谷学;阿部博史
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株式会社斯库林集团
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2019-01-24
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2023-06-27
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理方法，基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持用具将基板保持为水平；液膜形成工序，通过向基板的上表面供给处理液，在基板的上表面形成处理液的液膜；液密加热工序，通过向设置在基板与基座之间的加热器单元与基板之间的空间供给热媒来使热媒充满空间，并且通过加热器单元加热热媒；开口形成工序，在通过液密加热工序加热基板使得基板的温度成为处理液的沸点以上的状态下，在基板上的液膜的中央区域形成开口；以及开口扩大工序，一边通过使基座旋转而使基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转，一边使开口扩展。液密加热工序在开口扩大工序的至少一部分的期间与开口扩大工序并行执行。
- 处理方法装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201780012577.6有效
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阿部博史;林豊秀;小林健司
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株式会社斯库林集团
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2017-02-27
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2023-03-24
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H01L21/304
- 基板处理装置具备：旋转基座，设置有保持基板的周缘的夹具构件；马达，使上述旋转基座旋转；加热器单元，位于被上述夹具构件保持的基板与上述旋转基座的上表面之间；处理液供给单元，朝向被上述夹具构件保持的基板的表面供给处理液；以及微波产生单元，从上述加热器单元向上述基板的下表面产生微波。上述微波产生单元也可包括：微波产生构件，包括设置于上述加热器单元的波导管；微波振荡器，设置于上述加热器单元的外部；以及同轴缆线，连接上述波导管与上述微波振荡器。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201810159654.7有效
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阿部博史;奥谷学;太田乔;吉原直彦
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株式会社斯库林集团
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2018-02-26
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2022-05-06
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H01L21/67
- 本发明的目的在于，在加热器与附着有处理液的基板的下表面接触加热时防止基板弯曲，从而能够均匀地加热基板的整个面。基板处理装置(1)的旋转基座(21)具备把持基板W的周缘的多个卡盘销(20)。加热器主体(60)配置在旋转基座(21)与由卡盘销(20)把持的基板(W)之间。在加热器主体(60)的上表面设置有多个气体嘴(61)。气体嘴(61)与非活性气体供给机构(68)和抽吸机构(69)连通，通过从气体嘴(61)喷出非活性气体来防止向加热器主体(60)下落的处理液进入气体嘴(61)，通过由气体嘴(61)抽吸能够使基板(W)均匀地吸附于加热器主体(60)的上表面。由此，防止基板弯曲，从而能够均匀地加热基板的整个面。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201711458281.5有效
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阿部博史;奥谷学;吉原直彦
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株式会社斯库林集团
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2017-12-28
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2022-02-08
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H01L21/02
- 本发明提供基板处理方法，包括：基板保持工序，使基板保持单元将基板保持为水平；密闭工序，在将保持有基板的基板保持单元收纳于腔室的内部空间的状态下密闭内部空间；液膜形成工序，对基板的上表面供给用于处理基板的上表面的处理液，在基板上形成处理液的液膜；加压工序，通过对内部空间供给气体，对内部空间加压直至内部空间的压力为高于大气压的第一压力；加热工序，加热基板，使得在内部空间的压力达到第一压力的状态下在液膜与基板之间形成处理液的蒸气层；液膜排除工序，通过一边维持在液膜与基板之间形成处理液的蒸气层的状态，一边对内部空间减压直至内部空间的压力为小于第一压力的第二压力，使处理液蒸发，从基板上排除液膜。
- 处理方法装置
- [发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN201811083916.2有效
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阿部博史;奥谷学;太田乔
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株式会社斯库林集团
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2018-09-17
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2022-01-14
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H01L21/67
- 本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。本发明的课题在于提供一种能够提高改变衬底表面的化学性质的改性处理液的反应性的技术。本发明的解决手段为对衬底W的表面进行处理的衬底处理方法，其包括下述工序：(a)一边使衬底W旋转一边向该衬底W的表面供给IPA并进行处理的第一溶剂供给工序S4；和(b)在第一溶剂供给工序S4之后供给硅烷化液体从而形成液膜的改性处理液供给工序S5；和(c)在第一溶剂供给工序S4及改性处理液供给工序S5中加热衬底W的工序。所述工序(c)为在改性处理液供给工序S5中对衬底W施加的每单位时间的热量H2大于在第一溶剂供给工序S4中对衬底W施加的每单位时间的热量H1的工序。
- 衬底处理方法装置
- [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201710850685.2有效
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吉原直彦;奥谷学;太田乔;阿部博史
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株式会社斯库林集团
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2017-09-20
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2022-01-04
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H01L21/67
- 本发明提供能由有机溶剂良好地处理基板，并使基板良好地干燥的基板处理方法和装置。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；基板旋转工序，使基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转；液膜形成工序，向基板的上表面供给处理上表面的第一有机溶剂，在上表面形成第一有机溶剂的液膜；蒸气供给工序，向具有与基板的下表面相向的相向面的加热器单元的相向面和下表面之间的空间，供给第二有机溶剂的蒸气；基板加热工序，与基板旋转工序和液膜形成工序并行，由第二有机溶剂的蒸气加热旋转状态的基板；基板干燥工序，在基板加热工序后，从基板排除第一有机溶剂的液膜，使基板停止旋转，在将基板与加热器单元接触的状态下，使基板的上表面干燥。
- 处理方法装置
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