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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基片处理系统和颗粒除去方法-CN202310048163.6在审
发明人： 长池宏史;佐藤直纪;小原真智;长田英之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-31 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够高效率地除去颗粒的基片处理系统和颗粒除去方法。颗粒除去动作具有下述工序：在将带电的至少一个带电部件载置在至少一个末端执行器上的状态下，在真空输送模块、基片处理模块、负载锁定模块和大气输送模块中的任一者的内部输送至少一个末端执行器。
处理系统颗粒除去方法

[发明专利]基板收纳容器、控制装置和异常探测方法-CN201810582590.1有效
发明人： 长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种检测基板收纳容器的内部的污染状态的基板收纳容器、控制装置和异常探测方法。所述基板收纳容器用于收纳基板，在所述基板收纳容器的内部具有能够检测污染状态的监测器，来检测所述基板收纳容器的内部的污染状态。
收纳容器控制装置异常探测方法

[发明专利]异常检测装置和异常检测方法-CN201210216909.1无效
发明人：中谷理子;大岭治树;纲本哲;长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-06-27 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供能够提高异常放电的判定精度、且降低数据处理的负荷的异常检测装置和异常检测方法。一种异常检测装置，具备：监视部，其监视载置于处理室（C）内的晶片（W）即等离子体处理后的晶片从脱离开始直到打开输送闸阀的动作，将所述动作规定为晶片脱离时的动作；取得部，在被规定的所述晶片脱离时的动作中，取得从定向耦合器输出的行波或反射波中的至少任一种高频信号，所述定向耦合器设置于对所述处理室内施加高频电力的高频电源和匹配器之间或设置于作为载置被处理体的载置台发挥作用的下部电极和所述匹配器之间；分析部，其分析取得的所述高频信号的波形图案；和异常判定部，其基于所述高频信号的波形图案的分析结果判定有无异常放电。
异常检测装置方法

[发明专利]微粒数测量方法-CN201110050811.9有效
发明人： 长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-03-02 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G01N15/10 文献下载
摘要：本发明提供一种能够准确地测量因特定的原因产生的微粒的数量的微粒数测量方法。通过玻璃窗(24)向主排气管(16)内照射激光(25)，利用光检测器(21)接收从与该激光(25)交叉的微粒(P1、P2)产生的散射光(L1、L2)，根据所接收的该散射光来测量微粒数时，将不移动的微粒(P2)视为附着于玻璃窗(24)的污垢，从在主排气管(16)内测量得到的微粒数中排除不移动的微粒(P2)的数量。
微粒测量方法

[发明专利]基板处理装置及其控制方法-CN200910145487.1有效
发明人：工藤智之;小泽润;中村博;风间和典;守屋刚;中山博之;长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-10-28 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
处理装置及其控制方法

[发明专利]减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置-CN200810128050.2有效
发明人：守屋刚;长池宏史;中山博之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-08-25 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置。为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
减压处理室内部件清洁方法装置

[发明专利]减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置-CN200610151435.1有效
发明人：守屋刚;长池宏史;中山博之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-08-25 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： B08B7/02 文献下载
摘要：为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
减压处理室内部件清洁方法装置

[发明专利]防止微粒附着装置和等离子体处理装置-CN200610151453.X无效
发明人：守屋刚;长池宏史;林辉幸;藤原馨 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-10-08 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
防止微粒附着装置等离子体处理

[发明专利]基板处理装置及其运行程序和控制方法、以及存储介质-CN200510118834.3有效
发明人：工藤智之;小泽润;中村博;风间和典;守屋刚;中山博之;长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-10-28 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
处理装置及其运行程序控制方法以及存储介质

[发明专利]陶瓷喷镀部件及其制造方法、执行该方法的程序、存储介质-CN200510117628.0无效
发明人：守屋刚;中山博之;长池宏史;小林启悟;安田要 -专利权人：东京毅力科创株式会社;东华隆株式会社
申请日： 2005-11-07 - 公布日： 2006-05-17 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供能够确实地抑制水分的附着和脱离的陶瓷喷镀部件的制造方法、用于执行该方法的程序、存储介质以及陶瓷喷镀部件。将具有基质材料(210)和由喷镀形成在基质材料(210)表面的喷镀膜(220)的陶瓷喷镀部件(200)，在含有丙酮、乙醇、以及异丙醇中的至少1种的有机溶剂中浸渍规定时间，去除吸附在喷镀膜(220)上的有机物，并在压力为202.65kPa以上、相对湿度为90％以上的环境下，通过在温度为100～300℃左右的炉中加热1～24小时，对喷镀膜(220)的外表面进行水合处理。
陶瓷部件及其制造方法执行程序存储介质

[发明专利]处理装置及该处理装置内的颗粒除去方法-CN200510052917.7有效
发明人：守屋刚;长池宏史;中山博之;奥田喜久夫;岛田学 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-02-28 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：本发明提供一种能够降低颗粒对被处理体的污染的处理装置及去除该处理装置内的颗粒的方法。干蚀刻装置包括：对作为被处理体的晶片进行蚀刻处理而保持其内部为高真空的真空处理室、配设在真空处理室内的下部且兼作载置晶片载置台的下部电极、在真空处理室内与下部电极相对配设的上部电极、检测真空处理室的内壁温度的温度传感器、检测下部电极的温度的温度传感器、检测上部电极的温度的温度传感器、与上部电极连接并且向真空处理室导入规定气体的气体导入装置、以及根据真空处理室的内壁温度、下部电极的温度、以及上部电极的温度控制该规定的温度的控制装置。
处理装置颗粒除去方法

[发明专利]防止微粒附着装置和等离子体处理装置-CN200410080756.8无效
发明人：守屋刚;长池宏史;林辉幸;藤原馨 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-10-08 - 公布日： 2005-04-13 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
防止微粒附着装置等离子体处理

[发明专利]颗粒除去装置和颗粒除去方法及等离子体处理装置-CN200410064270.5有效
发明人：守屋刚;长池宏史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-08-23 - 公布日： 2005-04-06 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种可高效率地除去用等离子体处理产生的腔内的颗粒的、实用性高的颗粒除去技术。该颗粒除去装置具有包含带电用电极(72)、和控制带电用电极(72)的电位和电压施加定时的带电控制部分(74)的颗粒带电控制装置。该带电用电极(72)通过绝缘体(70)安装在等离子体蚀刻装置的腔(10)的内壁或喷头(38)的内壁面上。利用由该颗粒带电控制装置形成的离子层区域中的正离子，使颗粒带正电，将带正电的颗粒，移送至等离子体处理装置的排气口(24)侧，并排出至腔(10)的外面(排气装置(28)侧)。
颗粒除去装置方法等离子体处理

[发明专利]减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置-CN200410057032.1有效
发明人：守屋刚;长池宏史;中山博之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-08-25 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
减压处理室内部件清洁方法装置

[发明专利]等离子体处理装置、环形部件和等离子体处理方法-CN200410031210.3有效
发明人：佐佐木康晴;长池宏史;守屋刚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-02-06 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置、环形部件以及等离子体处理方法，利用等离子体进行处理，当执行相互不同的多个处理时实现装置公用化，在多个装置中执行相同处理时易统一装置之间的等离子体状态，利用由绝缘材料构成的环形部件环绕处理容器内的被处理基板，在此环形部件内设置用于调整等离子体源区的电极，构成为例如在对被处理基板执行第一处理时对该电极施加第一直流电压、在执行第二处理时对该电极施加第二直流电压，此时，由于对应于执行每一处理或相同处理的各装置通过施加合适的直流电压就可统一等离子体的状态，所以可实现装置公用化，并易对等离子体状态进行调整。
等离子体处理装置环形部件方法

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