专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]肽化合物的制造方法-CN202080055754.0在审
  • 长屋昭裕;半田道玄;三森雄二 - 日产化学株式会社
  • 2020-08-27 - 2022-03-18 - C07K1/06
  • 本发明的课题在于提供肽的高效率的制造方法。本发明提供肽的制造方法,其包括下述工序(1)及(2):(1)将式(I)表示的氨基酸或肽化合物的N末端保护基团除去的工序;及,(2)使N‑保护氨基酸或N‑保护肽与工序(1)中得到的C‑保护氨基酸或C‑保护肽的N末端缩合的工序。式(I)中,Y表示N‑保护氨基酸或N‑保护肽的残基,R1、R2及R3彼此独立地表示可具有取代基的脂肪族烃基(该脂肪族烃基中的1至5个亚甲基可以彼此独立地被选自由‑O‑、‑CO‑、‑N(R6)‑、‑N(R7)CO‑、‑CON(R8)‑组成的组中的结构替换)或可具有取代基的芳香族烃基,R6、R7及R8彼此独立地表示氢原子或C1‑6烷基,R1R2R3Si基中的碳原子的总数为18至80,R1R2R3SiCH2CH2基与Y中的氨基酸或肽残基的C末端键合。
  • 化合物制造方法
  • [发明专利]肽化合物的制造方法-CN201880063850.2在审
  • 长屋昭裕;半田道玄;安田直彦;吉野円香;小林丰;舛屋圭一 - 日产化学株式会社;肽梦想株式会社
  • 2018-10-03 - 2020-05-15 - C07K1/06
  • 本发明的课题在于提供肽的高效率的制造方法。包含下述工序(1)及(2)的肽的制造方法。(1)使式(II)表示的C‑保护氨基酸或C‑保护肽的N末端与N‑保护氨基酸或N‑保护肽缩合的工序:[式中,Y表示N末端无保护的氨基酸或N末端无保护的肽,R1、R2及R3各自独立地表示可具有取代基的脂肪族烃基、可具有取代基的芳香族烃基或‑OR4(R4表示可具有取代基的脂肪族烃基或可具有取代基的芳香族烃基。),R1、R2及R3中的2个可以与同它们键合的Si原子连接在一起形成5‑7元环,R1R2R3Si基中的碳原子的总数为8以上,R1R2R3Si基与Y中的氨基酸或肽的C末端键合。]。(2)除去工序(1)中得到的肽的N末端的保护基团的工序。
  • 化合物制造方法
  • [发明专利]高纯度的含氮杂环化合物的制造方法-CN201380040271.3有效
  • 橘山浩英;长屋昭裕;吉野弘展;日高生允 - 日产化学工业株式会社
  • 2013-09-27 - 2017-07-28 - C07D491/052
  • 本发明的课题是提供以高纯度制造含氮杂环化合物的方法。作为解决本发明课题的方法涉及包括以下的工序(a)和工序(b)的高纯度的化合物(A)的制造方法。工序(a)将包含化合物(A)和作为杂质的化合物(B)的混合物、与溶剂和金属盐进行混合,工序(b)将由工序(a)获得的混合溶液进行过滤,从而以溶液状态获得与工序(a)的混合物相比化合物(B)减少了的混合物,或者在该过滤之后进一步将溶剂蒸馏除去或进行晶析,从而获得与工序(a)的混合物相比化合物(B)减少了的混合物。[化1](式中,R1和R2各自独立地表示氢原子、C1‑6烷基等,R3表示氢原子、C1‑6烷基等,X表示氢原子等)。
  • 纯度杂环化合物制造方法

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