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[发明专利]一种用于X射线的透镜制造方法以及透镜-CN202310442930.1在审
发明人：孟立民;叶雁;杜亮亮;钱伟新;安然 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G21K1/06 文献下载
摘要：本发明涉及光学元器件，具体涉及一种用于X射线的透镜制造方法，还涉及一种透镜，包括以下步骤：选择中间层基底材料，将该基底材料制备为基片；进行镀膜，镀膜时选择不同材料依次逐层镀膜，以在基片两侧形成对称的逐层不同材料的膜层；完成镀膜后形成块体，沿平行于镀膜层或基片的平行面方向钻孔，使块体一侧形成弧面，形成弧面块体；将弧面块体的弧面进行打磨抛光，形成透镜。本发明在实现X射线折射聚焦的同时，通过引入不同折射率材料，形成复合材料透镜，采用本方法，通过圆形剖面实现X射线无球差聚焦，同时降低加工难度。
一种用于射线透镜制造方法以及

[外观设计]雕塑（水滴）-CN202130655673.1有效
发明人：虞金龙;姚杰;张雳龑;吴筱怡;施惠珠;缪宇;戚寅;邱璇;周世豪;韩君;钱伟新;陈勇 -专利权人：上海北斗星景观设计工程有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：雕塑（水滴）。2.本外观设计产品的用途：用于景观。3.本外观设计产品的设计要点：在于各视图所示的产品的形状、造型。4.最能表明设计要点的图片或照片：组合状态立体图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略组件1仰视图;本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略组件2仰视图;本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略组件3仰视图。
雕塑水滴

[实用新型]一种冲击波获取装置-CN202220373088.1有效
发明人：杜亮亮;钱伟新;孟立民;叶雁;祁双喜;程晋明 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G01H9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种冲击波获取装置，其中，冲击波获取装置包括两端开口的装配腔体，所述装配腔体的一端开口处固定设置有光学玻璃板，所述光学玻璃板远离所述装配腔体侧设置有应力发光片，且所述应力发光片远离所述光学玻璃板侧和所述装配腔体的外壁均设置有不透光的薄膜；所述装配腔体的另一端开口处固定设置有耦合光纤接头，且所述耦合光纤接头与所述光学玻璃板之间存在空隙。本实用新型的目的在于提供一种冲击波获取装置，用于将无形的冲击波转换为肉眼可见电信号，以便测试人员根据该电信号的波形、电信号的开始产生时间以及冲击波的开始产生时间实现冲击波到达时间的测试以及便于获得测试冲击波信号强弱的基础。
一种冲击波获取装置

[外观设计]雕塑（玉兰亭）-CN202130654645.8有效
发明人：虞金龙;姚杰;张雳龑;吴筱怡;施惠珠;缪宇;戚寅;邱璇;周世豪;韩君;钱伟新;陈勇 -专利权人：上海北斗星景观设计工程有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：雕塑（玉兰亭）。2.本外观设计产品的用途：用于景观。3.本外观设计产品的设计要点：在于各视图所示的产品的形状、造型。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
雕塑玉兰

[外观设计]雕塑（种子）-CN202130655663.8有效
发明人：虞金龙;姚杰;张雳龑;吴筱怡;施惠珠;缪宇;戚寅;邱璇;周世豪;韩君;钱伟新;陈勇 -专利权人：上海北斗星景观设计工程有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： 11-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：雕塑（种子）。2.本外观设计产品的用途：用于景观。3.本外观设计产品的设计要点：在于各视图所示的产品的形状、造型。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
雕塑种子

[发明专利]一种冲击波获取装置、冲击波测试系统及测试方法-CN202210169010.2在审
发明人：杜亮亮;钱伟新;孟立民;叶雁;祁双喜;程晋明 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01L5/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种冲击波获取装置、冲击波测试系统及测试方法，其中，冲击波获取装置包括两端开口的装配腔体，所述装配腔体的一端开口处固定设置有光学玻璃板，所述光学玻璃板远离所述装配腔体侧设置有应力发光片，且所述应力发光片远离所述光学玻璃板侧和所述装配腔体的外壁均设置有不透光的薄膜；所述装配腔体的另一端开口处固定设置有耦合光纤接头，且所述耦合光纤接头与所述光学玻璃板之间存在空隙。本发明的目的在于提供一种冲击波获取装置、冲击波测试系统及测试方法，在实现冲击波到达时间测试的同时，可以实现冲击波到达强度的测试，具备抗电磁干扰能力。
一种冲击波获取装置测试系统方法

[实用新型]一种瞬态连续温度的单点测量系统-CN202123321236.X有效
发明人：杜亮亮;孟立民;钱伟新;安然;叶雁;袁红 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G01J5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种瞬态连续温度的单点测量方法及系统，该系统包括：光谱分光成像系统、条纹相机和计算机，所述光谱分光成像系统和条纹相机沿待测目标的辐射光传输的方向依次设置，所述计算机连接条纹相机，该系统利用光谱分光成像系统接收目标点发出的辐射光并色散成像至条纹相机的入射狭缝，条纹相机通过设置采集时间和扫描速度得到包含时间轴和光谱轴的二维数字图像传输至计算机；计算机通过标定的条纹相机探测器各像素对应的光谱和时间，通过已获取的数字图像的获得单点随时间变化的瞬态连续温度。本实用新型提供的方法及系统通过结合光谱分光成像系统和具有纳秒甚至皮秒时间分辨的条纹相机系统实现瞬态连续温度的单点测量。
一种瞬态连续温度单点测量系统

[发明专利]一种瞬态连续温度的单点测量方法及系统-CN202111614910.5在审
发明人：杜亮亮;孟立民;钱伟新;安然;叶雁;袁红 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G01J5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种瞬态连续温度的单点测量方法及系统，该系统包括：光谱分光成像系统、条纹相机和计算机，所述光谱分光成像系统和条纹相机沿待测目标的辐射光传输的方向依次设置，所述计算机连接条纹相机，该方法包括光谱分光成像系统接收目标点发出的辐射光并色散成像至条纹相机的入射狭缝，条纹相机通过设置采集时间和扫描速度得到包含时间轴和光谱轴的二维数字图像传输至计算机；计算机通过标定的条纹相机探测器各像素对应的光谱和时间，通过已获取的数字图像的获得单点随时间变化的瞬态连续温度。本发明提供的方法及系统通过结合光谱分光成像系统和具有纳秒甚至皮秒时间分辨的条纹相机系统实现瞬态连续温度的单点测量。
一种瞬态连续温度单点测量方法系统

[发明专利]一种同时分幅扫描超高速光电摄影系统-CN201310089490.2有效
发明人：温伟峰;李泽仁;李剑;刘宁文;张登洪;彭其先;钱伟新;畅里华;赵新才;何徽 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2013-03-20 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G03B39/00 文献下载
摘要：本发明公布了一种同时分幅扫描超高速光电摄影系统，所述系统包括中继成像单元、光学分光系统、扫描成像系统、分幅成像系统、精密延时及控制系统、高压供电及脉冲产生模块、控制计算机；被测目标通过中继成像单元和光学分光系统同时成像到扫描成像系统和分幅成像系统，通过精密延时及控制系统和高压供电及脉冲产生模块控制同步成像；本发明在超高速过程测试领域具有广阔的应用前景，完全能够为电磁内爆等离子体放电、受控核聚变、激光与物质相互作用、高压火花放电、材料微喷和界面不稳定性等纳秒到百纳秒时间范围超快过程的研究提供高质量的数字化图像。
一种时分扫描超高速光电摄影系统

[发明专利]一种基于广义变分最小化的少量投影CT图像重建方法-CN201310205376.1有效
发明人： 钱伟新;祁双喜;王健;王婉丽;李泽仁;程晋明;刘冬兵 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： G06T11/00 文献下载
摘要：本发明涉及图像处理领域，尤其涉及一种基于广义变分最小化的少量投影CT图像重建方法。本发明针对现有技术中存在的问题，提供基于广义变分最小化的少量投影CT图像重建算法，以减少CT重建时所需的投影数目,从而减少CT对人体的辐射剂量或CT扫描时间,适用于不完全投影数据CT图像重建问题。本发明通过建立CT扫描成像模型的投影矩阵形式，进而建立用于图像重建的优化模型；然后对图像重建的优化模型中的图像进行优化求解，得到重建数据；再建立广义变分最小化的图像修正模型，对重建模型的重建数据进行修正，获得修正后的重建图像；最后判断修正后的重建图像是否满足迭代停止准则等步骤实现，本发明应用于CT图像重建设计领域。
一种基于广义最小化少量投影 ct 图像重建方法

[实用新型]一种同时分幅扫描超高速光电摄影系统-CN201320128414.3有效
发明人：温伟峰;李泽仁;李剑;刘宁文;张登洪;彭其先;钱伟新;畅里华;赵新才;何徽 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2013-03-20 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： G03B39/00 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种同时分幅扫描超高速光电摄影系统，所述系统包括：中继成像单元、光学分光系统、扫描成像系统、分幅成像系统、精密延时及控制系统、高压供电及脉冲产生模块、控制计算机；被测目标通过中继成像单元和光学分光系统同时成像到扫描成像系统和分幅成像系统，通过精密延时及控制系统和高压供电及脉冲产生模块控制同步成像；本实用新型在超高速过程测试领域具有广阔的应用前景，完全能够为电磁内爆等离子体放电、受控核聚变、激光与物质相互作用、高压火花放电、材料微喷和界面不稳定性等纳秒到百纳秒时间范围超快过程的研究提供高质量的数字化图像。
一种时分扫描超高速光电摄影系统

[实用新型]一种同轴度光学检测装置-CN201220673302.1有效
发明人：程晋明;钱伟新;祁双喜;李泽仁;刘冬兵;王婉丽;彭其先 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2012-12-10 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G01B11/27 文献下载
摘要：本实用新型涉及同轴度检测领域，尤其是一种同轴度光学检测装置。本实用新型所要解决的技术问题是：为了克服现有的圆杆同轴度采用接触式测量和测量精度较低的缺点，本实用新型提供一种基于非接触测量的高精度同轴度光学检测装置，该装置可以实现非接触测量，且测量精度较高。一种同轴度光学检测装置包括第一光学检测装置、第二光学检测装置、处理器，所述第一光学检测装置、第二光学检测装置分别检测基准圆杆与相向圆杆数字图像信号，所述第一光学检测装置、第二光学检测装置输出信号发送至处理器。本实用新型主要应用于同轴度检测领域。
一种同轴光学检测装置

[实用新型]一种危险目标源测量装置-CN201220669785.8有效
发明人：程晋明;钱伟新;祁双喜;李泽仁;刘冬兵;王婉丽;彭其先 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2012-12-07 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及非接触式测量领域，尤其是一种针对危险目标源测量装置。本实用新型为了克服现有技术中针对危险目标源测量中存在危险性或不方便直接测量的问题，提供一种危险目标源尺寸光学测量装置，本装置可以实现对危险目标源的远距离非接触式测量，大大降低对危险目标源尺寸测量的危险性或更为方便进行危险目标源间接测量。本实用新型包括光学测量装置、触发器、处理器，通过光学测量装置、触发器、处理器配合完成发明目的。本实用新型应用于非接触式测量领域。
一种危险目标测量装置

[实用新型]直穿式抗辐照X光数字相机-CN201220521591.3有效
发明人：程晋明;祁双喜;钱伟新;曹宇东;王伟;刘冬兵;王婉丽;李泽仁 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2012-10-12 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： G03B42/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种X光数字相机，尤其是涉及一种直穿式抗辐照X光数字相机。一种直穿式抗辐照X光数字相机，包括闪烁体、第一成像镜头、相机外壳、第一镜头卡口、可见光数字相机、X光防护玻璃，所述闪烁体置于相机外壳内壁一侧，所述第一成像镜头通过第一镜头卡口与可见光数字相机连接并放置于相机外壳内壁另一侧，所述可见光数字相机置于相机外壳内壁侧，第一成像镜头置于闪烁体一侧，所述X光防护玻璃放置于闪烁体与第一成像镜头之间。本装置是针对现有技术中问题，提供一种使得本装置结构紧凑并且可用于能量范围较宽X光照相的数字相机，同时也可用于X光能量较高的X光照相机。本实用新型主要应用于X光数字相机设计领域。
直穿式抗辐照数字相机

[发明专利]一种危险目标源尺寸光学测量方法及装置-CN201210521497.2有效
发明人：程晋明;钱伟新;祁双喜;李泽仁;刘冬兵;王婉丽;彭其先 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2012-12-07 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及非接触尺寸测量领域，尤其是一种针对危险目标源尺寸光学测量方法及装置。本发明为了克服现有技术中针对危险目标源测量中存在危险性或不方便直接测量的问题，提供一种危险目标源尺寸光学测量方法及装置，本方法及装置可以实现对危险目标源的远距离非接触式测量，大大降低对危险源尺寸测量的危险性或更为方便进行危险目标源间接测量，还可针对运动危险目标源进行测量，且测量精度较高，装置紧凑，可在野外作业。本发明通过光学测量装置测量L1、L2、D，处理得到实际危险目标源尺寸。本发明应用于非接触尺寸测量领域。
一种危险目标尺寸光学测量方法装置

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