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[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN200910208089.X无效
发明人：金柄郁;俞载元;郭恩珍;金云龙 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2009-10-27 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物的电路线宽均匀性、分辨率、显影对比度、粘合性优异，特别是感光速度、残膜率和耐热性优异。本发明涉及使用在液晶显示装置电路、半导体集成电路等的精细电路制造中的光致抗蚀剂组合物，更具体地说，本发明涉及含有如下物质的光致抗蚀剂组合物：a)碱溶性树脂；b)光敏性化合物；c)胶体状无机物；和d)有机溶剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]可用作保护膜的有机-无机复合体树脂组合物-CN200910007160.8有效
发明人：俞载元;郭恩珍;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2009-02-13 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本发明提供一种可用作保护膜的有机-无机复合体树脂组合物，所述组合物的耐化学性、绝缘性、平坦性、耐热性、透光率、粘接性等性能优异，并且涂膜固化后在因工艺温度变化所导致的基板收缩、膨胀等热变形方面以及在抗龟裂性和粘接性方面优异，适于作为液晶显示元件的保护膜用绝缘材料。基于本发明的有机-无机复合体树脂组合物的特征在于，所述组合物包含：(a)含有烯键式不饱和基团和芳烃基的聚脂肪族芳族倍半硅氧烷；(b)丙烯酸类共聚物，该共聚物是不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物与一种以上丙烯酸类不饱和化合物共聚得到的；(c)具有两个以上烯键式不饱和键的单体化合物以及(d)具有环氧基或烯键式不饱和键的硅类化合物。
可用保护膜有机无机复合体树脂组合

[发明专利]压印光刻用模板和应用该模板的压印光刻方法-CN200710187100.X无效
发明人：金柄郁;俞载元;申承协;李纪万;宋晙溶;李骐范;李原荣;李圣贤;郭恩珍;李命洙 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2007-11-23 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及压印光刻用模板和应用该模板的压印光刻方法，所述压印光刻用模板能够防止由压印光刻中出现的静电所产生的杂质的粘合以及下部图案的损毁，能够在基板上提供具有良好品质的图案，所述压印光刻方法是利用高分子树脂模的成型物制造工序，在该方法中，在利用高分子树脂的模板形成图案时，在具有图案形状的高分子树脂模的背面使用通过蒸镀等而含有导电体的透光率高的导电层作为背面支持体，从而抑制静电的产生。本发明的压印光刻用模板的特征在于，其包括高分子树脂模和具有透光性和传导性的背面支持体，所述高分子树脂模在一面形成有用于形成图案的凹凸，所述背面支持体附着于上述高分子树脂模的与形成有凸凹一面相反的面上。
压印光刻模板应用方法