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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]机床的切削液供给装置-CN201811156039.7有效
发明人： 越石光 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： B23Q11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以简单的结构抑制机床的热位移的机床的切削液供给装置。该机床的切削液供给装置包括：机床(1)，其具有：构造体(10)，该构造体包括床身(11)、设于床身上的立柱(12)以及设于立柱的主轴头(13)；以及至少一个喷出口(Tb、16a、17a)，其喷出切削液；储存罐(2)，其储存向机床供给的切削液；至少一个切削液流路(3、4、5)，其连接储存罐和喷出口；以及至少一个泵(21、22、23)，其对切削液(F)进行加压以向切削液流路输送储存罐内的切削液，切削液流路穿过构造体的内部或外表面，并设置为切削液和构造体能够热交换。
机床切削供给装置

[发明专利]主轴异常检测装置-CN202010413405.3在审
发明人： 越石光 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： B23Q17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种主轴异常检测装置(50)，包括：第一传感器(71)，其用于测量机床(1)的主轴的振动；第二传感器(72)，其对安装于主轴的工具单元(TU)的轴摆动进行测量；以及计算机，其基于将第一传感器(71)的检测结果与主轴的振动的基准进行比较而获得的振动比较结果、以及将第二传感器(72)的检测结果与工具单元(TU)的摆动的基准进行比较而获得的摆动比较结果，进行主轴的异常判断。
主轴异常检测装置

[发明专利]管理装置以及管理系统-CN202010142165.8在审
发明人： 越石光;山本泰之 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明提供管理装置以及管理系统。管理装置具备：数据收集部，其至少收集第1机床加工后的工件的质量信息和其他机械的运行信息；解析部，其对第1机床的加工后的工件的质量信息与其他机械的运行信息的变化的相关关系进行解析；动作计划制定部，其基于解析部解析的相关关系，制定限制其他机械的动作的动作计划，以便在第1机床进行高品质加工时降低第1机床的环境温度的变化；以及动作指示部，其基于动作计划制定部制定的动作计划，对其他机械发出动作指示。
管理装置以及系统

[发明专利]管理装置和管理系统-CN202010081523.9在审
发明人： 越石光;山本泰之 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2020-02-06 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明的管理装置具备：数据收集部，其至少收集由第一机床加工后的工件的质量信息、其他机械的运转信息；解析部，其对由第一机床加工后的工件的质量信息与其他机械的运转信息之间的相关关系进行解析；动作计划制定部，其根据解析部解析出的相关关系，制定限制其他机械的动作的动作计划，以使得在第一机床进行高品质加工时减少传导到第一机床的振动；以及动作指示部，其根据动作计划制定部所制定的动作计划，向其他机械发出动作指示。
管理装置系统

[发明专利]流体喷射装置-CN201710749661.8在审
发明人： 越石光 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： B23Q11/10 文献下载
摘要：本发明提供流体喷射装置(20)，其具备安装于多关节机器人(16)的臂(88)的前端，且形成有用于朝向工具座(42)或工具(32)排出切削液的排出孔(90)的机械手(14)；以及控制装置(18)，其控制多关节机器人(16)的关节(70、72、74)，以便机械手(14)与沿主轴(30)的轴向(Z方向)使主轴(30)移动的进给动作同步地沿主轴(30)的轴向(Z方向)移动。
流体喷射装置

[发明专利]用于半导体处理的电子束增强解耦源-CN201280018081.7有效
发明人：约翰·帕特里克·霍兰;彼得·L·G·温特泽克;哈梅特·辛格;品川俊;越石光 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-04-10 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：半导体衬底处理系统包括处理室和限定为在所述处理室中支撑衬底的衬底支撑件。该系统还包括限定为与所述处理室分隔的等离子体室。所述等离子体室被限定来产生等离子体。该系统还包括流体连接所述等离子体室和所述处理室的多个流体传输通路。所述多个流体传输通路被限定来将所述等离子体的反应性成分从所述等离子体室供应到所述处理室。该系统进一步包括用于将电子注入到所述处理室中的电子注入设备以控制所述处理室内的电子能量分布以便进而控制所述处理室内的离子对自由基的密度比例。在一实施方式中，电子束源被限定来在所述衬底支撑件之上且跨越所述衬底支撑件传送电子束穿过所述处理室。
用于半导体处理电子束增强解耦源

[发明专利]多频电容耦合等离子体刻蚀腔-CN201610324272.6在审
发明人：阿列克谢·马拉赫塔诺夫;拉金德尔·德辛德萨;越石光;安德里亚斯·费舍尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2010-04-06 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： C23C16/509 文献下载
摘要：与气体联用的等离子体处理系统。该等离子体处理系统包括第一电极、第二电极、气体输入口、功率源和无源电路。所述气体输入口可操作地在所述第一电极和所述第二电极之间提供所述气体。所述功率源可操作地将在所述第一电极和所述第二电极之间的所述气体激发成等离子体。所述无源电路耦合于所述第二电极并被配置为调节所述第二电极的阻抗、电势和直流偏压中的一个或多个。所述无源射频电路包括与电感器并联设置的电容器。
电容耦合等离子体刻蚀

[发明专利]旋转轴中心位置测量用夹具以及旋转轴中心位置测量方法-CN201510791607.0在审
发明人： 越石光 -专利权人：发那科株式会社
申请日： 2015-11-17 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： B23Q17/00 文献下载
摘要：本发明提供旋转轴中心位置测量用夹具。旋转轴中心位置被测定的旋转台具备设置于机床的工作台上并供工件载置的回转板、使该回转板旋转的旋转驱动装置以及设置于与该旋转驱动装置对置的位置并支撑该回转板的旋转轴支撑装置。为了测定旋转轴中心位置，使用将在两端具备球状的基准体的棒状部件配置于上述旋转台的回转板上的夹具。
旋转轴中心位置测量夹具以及测量方法

[发明专利]多频电容耦合等离子体刻蚀腔-CN201080017815.0无效
发明人：阿列克谢·马拉赫塔诺夫;拉金德尔·德辛德萨;越石光;安德里亚斯·费舍尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2010-04-06 - 公布日： 2012-02-29 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：与气体联用的等离子体处理系统。该等离子体处理系统包括第一电极、第二电极、气体输入口、功率源和无源电路。所述气体输入口可操作地在所述第一电极和所述第二电极之间提供所述气体。所述功率源可操作地将在所述第一电极和所述第二电极之间的所述气体激发成等离子体。所述无源电路耦合于所述第二电极并被配置为调节所述第二电极的阻抗、电势和直流偏压中的一个或多个。所述无源射频电路包括与电感器并联设置的电容器。
电容耦合等离子体刻蚀

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