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[发明专利]基板处理设备及使用其的基板处理方法-CN200910160136.8有效
发明人：李荣植;金基铉;赵弘济;林官泽;李在敬 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-07-12 - 公布日： 2009-12-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个相反方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
处理设备使用方法

[发明专利]用于导电材料的蚀刻剂及薄膜晶体管阵列面板的制造方法-CN200510117515.0有效
发明人：朴弘植;姜成昊;赵弘济 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-11-02 - 公布日： 2006-05-10 - 主分类号： C23F1/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于制造薄膜晶体管(TFT)阵列面板的方法，包括：在绝缘基片上形成具有栅电极的栅极线；在栅极线上顺序沉积栅极绝缘层及半导体层；在栅极绝缘层及半导体层上形成漏电极和具有源电极的数据线；并形成连接至漏电极的像素电极。这些元件可以使用含有65wt％至75wt％的磷酸、0.5wt％至15wt％的硝酸、2wt％至15wt％的醋酸、0.1wt％至8.0wt％的钾化合物、以及去离子水的蚀刻剂通过光蚀刻形成。TFT阵列面板的各个元件可以在类似的条件下形成有本发明的蚀刻剂的图样，这简化了制造工艺并节约了成本，并使得TFT元件具有良好的剖面。
用于导电材料蚀刻薄膜晶体管阵列面板制造方法

[发明专利]铟氧化物层的蚀刻剂组合物及使用它的蚀刻方法-CN200510106764.X有效
发明人： 赵弘济;李承傭;李俊雨;李在连;千承焕;崔容硕;朴英哲;金珍洙;金圭祥;崔东旭;林官泽 -专利权人：三星电子株式会社;东友半导体株式会社
申请日： 2005-08-25 - 公布日： 2006-03-22 - 主分类号： C09K13/04 文献下载
摘要：一种用于除去铟氧化物层的蚀刻剂，包括主氧化剂硫酸，诸如H₃PO₄、HNO₃、CH₃COOH、HClO₄、H₂O₂和混合物A的辅助氧化剂，含有铵－基材料的蚀刻抑制剂及水，其中所述混合物A由过一硫酸钾(2KHSO₅)、硫酸氢钾(KHSO₄)和硫酸钾(K₂SO₄)按5∶3∶2的比例混合得到。这种蚀刻剂可以除去铟氧化物层需要去除的部分，而不破坏光刻胶图案或铟氧化物层下面的各层。
氧化物蚀刻组合使用方法

[发明专利]基板处理设备及使用其的基板处理方法-CN200510083347.8有效
发明人：李荣植;金基铉;赵弘济;林官泽;李在敬 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-07-12 - 公布日： 2006-01-25 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。
处理设备使用方法

[发明专利]用于布线的蚀刻剂、利用该蚀刻剂制造布线的方法、包含该布线的薄膜晶体管阵列面板及其制造方法-CN02828720.7有效
发明人：朴弘植;姜聖哲;赵弘济 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2002-09-18 - 公布日： 2005-06-08 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：根据本发明的制造薄膜晶体管阵列面板的方法在绝缘基片上形成栅极布线。该栅极布线包含多条栅极线和与栅极线连接的多个栅极。依次形成半导体层及栅极绝缘层并在其上形成数据布线。该数据布线包括与栅极线交叉的多条数据线、与数据线连接并置于栅极附近的多个源极、及相对于栅极位于源极对面的多个漏极。沉积钝化层并对钝化层进行制作布线图案，以形成至少露出漏极的多个接触孔。在钝化层上沉积由银或银合金组成的导电层，利用包含硝酸铁、硝酸、乙酸、六亚甲基四胺、及去离子水的蚀刻剂对导电层制作布线图案，以形成与漏极电连接的多个反射层。
用于布线蚀刻利用制造方法包含薄膜晶体管阵列面板及其

[发明专利]金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法-CN02828517.4有效
发明人：朴弘植;姜聖哲;赵弘济;朴爱娜;朴俸沃;郑敞午 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2002-07-24 - 公布日： 2005-06-01 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法，通过涂布含金属的有机金属络合物形成有机金属层。通过光掩模将该有机金属层曝光，并且显像以形成金属图案。
金属图案形成方法利用薄膜晶体管阵列面板制造

[发明专利]生产用溶液供给系统及方法-CN200410078042.3无效
发明人： 赵弘济;金珍洙;姜聖哲 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2004-09-20 - 公布日： 2005-03-23 - 主分类号： B05B9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种生产用溶液供给系统以及用于方便地供给生产用溶液的方法。生产用溶液供给装置在可控的温度下将生产用溶液提供给用于通过多个喷头将生产用溶液喷射到基片上的处理装置。将生产用溶液通过通道输送到喷头，在一个实施例中，其可包括管道装置。通道可方便地利用连接管、热传感器、及管道装置控制温度，以便从多个喷头喷射的生产用溶液的温度基本等于最初从生产用溶液供给装置供给的生产用溶液的温度。
生产溶液供给系统方法

[发明专利]用于光致抗蚀剂的剥离组合物-CN03100735.X无效
发明人：朴弘植;姜圣哲;赵弘济;朴爱娜 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2003-01-16 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及用于光致抗蚀剂的TFT－LCD高性能剥离剂组合物，并且更具体地是涉及用于抗蚀剂的剥离剂组合物，包含20％至60％重量的单乙醇胺、15％至50％重量的N，N－二甲基乙酰胺、15％至50％重量的卡必醇以及0.1％至10％重量的没食子酸。本发明还提供了用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物，包含20％至60％重量的单乙醇胺、15％至50％重量的N，N－二甲基乙酰胺、15％至50％重量的卡必醇。本发明的用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物在应用于TFT－LCD生产过程时，显著地降低了剥离时间。而且其因为具有良好的剥离能力也不会留下杂质颗粒，并且因为能够省略硬焙烤和磨光过程，所以能够简化门处理，降低了成本。此外，当其应用在使用银(Ag)作为反射/透射层的过程时，提供了纯银层的耐腐蚀能力和剥离能力。
用于光致抗蚀剂剥离组合