专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于发电机组的低压缸转子的支撑及盘车结构-CN202321025178.2有效
  • 冉启渝;张朝权;许根超;贺晓光;卫志栋;王保强 - 上海电气电站设备有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-09-26 - F01D25/28
  • 本实用新型涉及一种用于发电机组的低压缸转子的支撑及盘车结构,设置在轴承箱内部,低压缸转子下方,支撑及盘车结构包括两个滚轮托架和第一支撑板;两个滚轮托架对称设置,并通过第一支撑板连接;支撑及盘车结构还包括两个底板;两个底板固定在轴承箱内部;两个滚轮托架分别固定在对应的两个底板上;两个滚轮托架和对应的两个底板之间均设有垫片;滚轮托架包括转轴、滚柱轴承和第三支撑板;第三支撑板与底板连接;转轴内嵌设置在第三支撑板的顶端;滚柱轴承设置在第三支撑板的顶端,内腔设置有转轴。解决了发电机作调相机运行时汽轮机的低压缸转子的支撑和盘车的问题,可支撑低压缸转子和盘车,为机组作发电机或调相机的快速模式转换提供便利。
  • 一种用于发电机组低压转子支撑结构
  • [发明专利]光电器件及其制备方法-CN202111664757.7在审
  • 洪佳婷;敖资通;芦子哲;贺晓光;黄盼宁 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-12-31 - 2023-07-14 - H10K50/16
  • 本申请提供一种光电器件及其制备方法。光电器件的制备方法包括以下步骤:提供一含有底电极的衬底;在底电极上制备结构层,结构层包括电子功能层,对电子功能层进行α射线辐照。本申请通过采用具有高能量但穿透能力极低的α射线对电子功能层进行辐照,α射线的电离辐射造成电子功能层的表面效应,能达成电子功能层损伤退火的目的,降低光电器件驱动时的电子注入能力,促进器件内部电荷平衡,从而提高器件的效率和工作寿命,同时也能降低对光电器件的损伤。
  • 光电器件及其制备方法
  • [发明专利]一种发光器件的后处理方法-CN202111642480.8在审
  • 贺晓光;芦子哲;黄子健;洪佳婷 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-12-29 - 2023-07-14 - H10K71/00
  • 本申请公开了一种发光器件的后处理方法,所述后处理方法是在预设的时间范围内对完成制备的发光器件进行通电处理和间断式的光照处理,通电处理能够降低发光器件中各个层因阻值不均匀而产生的能势差异,从而促进载流子注入平衡,间断式光照处理能够有效控制发光器件的内光电效应水平,防止出现因发光器件的内光电效应水平过高而损伤发光层的问题,促进发光器件的载流子注入平衡,从而有效地提高了发光器件的光电性能,并延长了发光器件的使用寿命,有效缩短了发光器件的整个制作周期。
  • 一种发光器件处理方法
  • [实用新型]用于发光器件测试的测试装置-CN202223397179.8有效
  • 贺晓光;洪佳婷 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2022-12-14 - 2023-06-27 - G01J1/04
  • 本申请提供一种用于发光器件测试的测试装置。通过在检测腔中安装多孔支撑件,当待测试器件放置在多孔支撑件上时,由于多孔支撑件自身具有多个空隙,且吸气组件连通在多孔支撑件的底部;使得检测腔中的气流自上而下流进吸气组件,进而使得待测试器件的四周的气体也被向下吸走,且待测试器件表面的杂质在自身重力作用下会竖直向下掉落,其掉落方向与检测腔中气流流向一致,进而提高了吸气组件对待测试器件表面杂质的吸取效果以减少待测试器件表面的杂质数量,从而提高了测试组件的测试准确性;且还降低了杂质飘出盒体的几率,从而避免了测试人员吸入杂质,提高了测试的安全性。
  • 用于发光器件测试装置
  • [发明专利]一种发光二极管的制备方法-CN202111500737.6在审
  • 贺晓光;芦子哲;洪佳婷 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-12-09 - 2023-06-13 - H10K71/00
  • 本申请实施例公开了一种发光二极管的制备方法,涉及显示技术领域,该制备方法包括:提供底电极;以及在底电极上形成结构层,利用冲击波冲击结构层。本申请提供的发光二极管的制备方法利用冲击波冲击器件,利用冲击波的冲击作用使器件中的相邻的结构层之间的层间隙减小,可以提高相邻的结构层的材料之间的互融度,降低相邻的结构层之间的层间势垒,减少器件因为层间隙导致的漏电流,改善器件的载流子传输平衡,进而提高器件的性能。
  • 一种发光二极管制备方法
  • [发明专利]电子器件的后处理方法、装置、计算机设备及存储介质-CN202111234054.0在审
  • 洪佳婷;敖资通;芦子哲;贺晓光 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-10-22 - 2023-04-25 - G01R19/08
  • 本申请实施例提供了一种电子器件的后处理方法、装置、计算机设备及存储介质,通过获取目标电子器件在标准后处理参数下的标准电流密度数据,从而确定了后处理进行后处理的决策依据,然后,基于标准后处理参数对目标电子器件进行后处理,并监测目标电子器件的实际电流密度数据,实现了对目标电子器件后处理状态的实时监测,提高了对后处理的监测效率,最后,在实际电流密度数据与标准电流密度数据的相似度满足预设条件时,控制目标电子器件停止后处理,本申请通过实时对电子器件后处理的状态进行监测,保证了获取到具有相近的较佳性能的电子器件,减少在电子器件制备阶段以及后处理阶段带来的性能差异,提高了电子器件的良品率。
  • 电子器件处理方法装置计算机设备存储介质
  • [发明专利]电流密度测量方法-CN202110747457.9在审
  • 洪佳婷;敖资通;芦子哲;贺晓光 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-07-02 - 2023-04-14 - G01R19/08
  • 本申请公开了一种电流密度测量方法,其中,获取被测发光器件,确定该被测发光器件的理论发光区域,并确定该理论发光区域的导电面积,获取被测发光器件的工作电流,并根据理论发光区域的导电面积和被测发光器件的工作电流,计算得到被测发光器件的工作电流密度。以此,本申请通过探测出被测发光器件实际的导电面积,并利用该导电面积计算得到被测发光器件的工作电流密度,相较于相关技术直接将理论发光区域的面积作为导电面积计算得到工作电流密度,具有更高的准确度。
  • 电流密度测量方法
  • [发明专利]一种溶液注入方法及其应用-CN202111176218.9在审
  • 洪佳婷;敖资通;芦子哲;贺晓光 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-10-09 - 2023-04-11 - G06T7/62
  • 本发明提供了一种溶液注入方法及其应用,涉及工业技术领域。溶液注入方法包括:提供管道,往管道预注入溶液,启动图像摄取,获取管道的溶液无气泡时的图像作为基准图片;继续注入溶液,并按预设频率对流经管道的溶液进行图像摄取,得到实时图片;以及根据基准图片和实时图片的灰度值,输出灰度差异信息。利用该方法能够获知管道内气泡的情况,实现溶液注入情况的掌控。本发明提供的溶液注入方法的应用,用于制备发光二极管、太阳能电池、药物、生物材料。
  • 一种溶液注入方法及其应用

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