专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法-CN202011087287.8有效
  • 胡平安;杨慧慧;谭必英;张士超;苏震;刘得昌;汪礼丽 - 哈尔滨工业大学
  • 2020-10-12 - 2023-10-27 - C23C16/26
  • 本发明公开了一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法;它的制备方法为:步骤一:通过表面催化生长方法,在金属表面制备出连续的六方氮化硼薄膜;步骤二:通过等离子体刻蚀技术,将金属箔片一侧表面处的六方氮化硼薄膜除去;步骤三:将该金属箔片折叠为袋状进行密封;步骤四:将该金属袋置于管式炉中,升高到一定温度并通入高浓度含碳气体,实现碳原子由外表面向内表面的扩散,并在降温过程中析出,在金属与六方氮化硼界面处生成石墨烯;步骤五:将该金属袋剪开并水平铺开,转移至目标衬底表面,即可得到六方氮化硼/石墨烯垂直异质结薄膜。本发明的制备工艺适用性高,工艺参数窗口较宽;相比传统通过外延或扩散方式来制备异质结的方法,本方法有效避免原子间的掺杂现象,同时可获得晶圆级,高质量的垂直氮化硼/石墨烯异质结薄膜。
  • 一种晶圆级质量氮化石墨烯异质结薄膜制备方法

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