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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]UV光检测结构及UV处理设备-CN202111662085.6有效
  • 谭华强;李蓬勃 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2021-12-30 - 2023-10-20 - G01J1/00
  • 本发明公开了一种UV光检测结构及UV处理设备，所述UV光检测结构包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下，可以实时监测UV灯的光照情况，获得光学相关参数，而且，结构简单、易于安装，便于进行后期维护。
  • uv检测结构处理设备
  • [发明专利]半导体薄膜的沉积设备和沉积方法-CN202010584724.0有效
  • 杨德赞;谭华强;王燚;刘闻敏;魏有雯 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2020-06-24 - 2023-10-20 - C23C16/458
  • 本发明是关于一种半导体薄膜的沉积设备和沉积方法，包括腔体和盖板，加热盘，加热盘通过支撑杆支撑，还包括：晶圆升降机构设置于腔体内；水平调节机构设置于腔体外；晶圆升降机构包括：同心定位盘设置于腔体内，位于加热盘的下方；同心调整手，通过板簧设置于同心定位盘的边缘上，与同心定位盘活动连接，同心调整手包括平行设置的第一横板第二横板和竖板；顶针支板，设置于加热盘和第二横板之间，均匀设有多个顶针；蓝宝石玻璃，设置于顶针支板的下方；动力单元，通过支杆与顶针支板连接，支杆贯穿腔体。保证晶圆与加热盘和喷淋板的同心设置，以及三者平行度，从而提高晶圆的薄膜沉积质量，提高产品的成品率，进而提高企业的经济性。
  • 半导体薄膜沉积设备方法
  • [发明专利]一种低成本的主动控温喷淋头-CN202010540062.7有效
  • 谭华强;褚鑫辉 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2020-06-15 - 2023-10-13 - F28F25/06
  • 本发明公开了一种低成本的主动控温喷淋头，该喷淋头通过在冷却环和喷淋顶板之间增设隔热层，以将冷却环和喷淋顶板进行阻隔，增大二者之间的热阻，降低导热率，即使喷淋顶板的温度超过100℃，由于冷却环和喷淋顶板之间有隔热层进行阻隔，能够避免喷淋顶板将大量的热量传递到冷却环中，防止冷却环中的冷却液温度骤升沸腾，以及防止气液混合状态的产生，进而确保冷却环的冷却系统持续有效。通过上述主动控温喷淋头的结构设计，可将冷却液水的控温由100℃以下，扩充到250℃以下，即实现高温的控温，进而降低控温成本，提高安全性；该喷淋头具有结构简单，设计合理、成本低、安全性高等优点。
  • 一种低成本主动喷淋
  • [发明专利]旋转加热装置、气相沉积设备和方法-CN202310814758.8在审
  • 张佳琦;尹艳超;张艳娟;谭华强;吴凤丽 - 拓荆科技(上海)有限公司
  • 2023-07-04 - 2023-10-03 - C23C16/46
  • 本申请公开了一种旋转加热装置、气相沉积设备和方法，涉及半导体技术领域。旋转加热装置包括承载部、驱动机构以及加热机构。承载部具有用于承载晶圆的承载面，承载部内设置有加热通道，加热通道具有入口和出口。驱动机构与承载部传动连接，用于驱动承载部旋转。加热机构用于向加热通道输送热媒。由于承载盘可以在驱动机构的驱动下转动，在转动的过程中成膜，能够改善因反应腔室内温度场、流场不均导致的晶圆表面气体难以均匀分布的问题，从而改善成膜质量。另外，通过向承载部内注入热媒来控制承载部的温度，能够使承载部保持在合适的工艺温度，并且承载部温度均匀，有利于提高沉积质量。
  • 旋转加热装置沉积设备方法
  • [实用新型]一种工艺气体间隙的校准装置-CN202223575857.5有效
  • 谭华强 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-10-03 - G01B7/14
  • 本实用新型提供了一种工艺气体间隙的校准装置包括：弹簧负载板，经由多根支撑弹簧被设置于放置板之上，并弹性抵接喷淋面板的下方；位移传感器，设于弹簧负载板及放置板之间，用于非接触地测量自身到弹簧负载板的第一间隙距离，以确定基座加热器到喷淋面板的第二间隙距离；以及放置板，在校准过程中可拆卸地安装于基座加热器，用于承托位移传感器以及弹簧负载板。通过使用标准的弹簧负载板代替待测喷淋面板来作为检测对象，本实用新型能够避免喷淋面板的材料和表面形状对测量数据的影响，从而提升间隙的校准精度。
  • 一种工艺气体间隙校准装置
  • [实用新型]一种位移传感器-CN202223544094.8有效
  • 谭华强 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-09-29 - G01B11/02
  • 本实用新型提供了一种位移传感器包括：测量头，设于位移传感器的前半部；螺线管驱动器，设于位移传感器的后半部；以及编码器，设于测量头以及螺线管驱动器之间，用于监测测量头与螺线管驱动器的相对位移。通过采用上述配置，该位移传感器能够在真空中使用螺线管驱动器来检测对象位移，从而在真空条件下校准化学气相沉积设备中的部件。
  • 一种位移传感器
  • [发明专利]半导体多站处理腔体-CN201811581220.2有效
  • 谭华强;周仁;吕光泉;张孝勇;李晶;荒见淳一;金基烈;申思;刘忠武;王卓 - 拓荆科技股份有限公司
  • 2018-12-24 - 2023-09-26 - H01L21/67
  • 本发明揭露一种半导体多站处理腔体，其中每一站包含：由多个壁所定义的一下沉空间，其提供有用于支撑基板或晶圆的一支撑座，该支撑座与定义该下沉空间的多个内壁之间形成一第一间隙；一覆盖组件，固定于一盖体且位于该支撑座的上方以定义一处理区，该覆盖组件包含一喷淋板，该喷淋板与该上盖之间形成用于提供吹扫气体的一第二间隙；及一隔离组件，可升降于该下沉空间与该覆盖组件之间，以选择地包围该支撑座与该覆盖组件之间定义的处理区或退回下沉空间中。当该隔离组件包围该处理区时，该站与相邻的另一站形成结构上的隔离。
  • 半导体处理
  • [发明专利]一种喷气结构及半导体设备-CN202310779910.3在审
  • 尹艳超;谭华强;李洪昊 - 拓荆科技(上海)有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - C23C16/455
  • 本发明提供了一种喷气结构及半导体设备，涉及镀膜技术领域。该喷气结构包括喷淋板，喷淋板设有第一喷气孔和第二喷气孔，第一喷气孔和第二喷气孔间隔设置，第一喷气孔用于喷出自由基，第二喷气孔用于喷出前驱物；第二喷气孔包括限流孔段和出口孔段，限流孔段和出口孔段连通，且出口孔段的孔径大于限流孔段的孔径，使得前驱物扩散出出口孔段。该喷气结构在使用时，前驱物经由限流孔段进入出口孔段，由于出口孔段的孔径大于限流孔段的孔径，因此进入出口孔段的前驱物能够快速扩散，并与自由基进行反应，前驱物和自由基快速进行反应能够减少自由基的损失，确保各种气体反应的更加均匀，从而确保能够形成均匀的薄膜。
  • 一种喷气结构半导体设备
  • [发明专利]一种基盘加热系统及半导体设备-CN202310779957.X在审
  • 张艳娟;尹艳超;谭华强;张佳琦 - 拓荆科技(上海)有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - C23C16/46
  • 本申请提供一种基盘加热系统及半导体设备，涉及气相沉积技术领域。该基盘加热系统包括：基座和转动设置在基座上的基盘，基盘内设有第一加热组件和第二加热组件，第一加热组件位于基盘的承载面和第二加热组件之间，第一加热组件用于加热承载面，第二加热组件用于对第一加热组件加热。该基盘加热系统，在旋转的基盘内分别设置第一加热组件和第二加热组件，通过至少两级加热，提高了基盘温度的稳定性，从而提高了衬底晶片表面薄膜沉积的均匀性，能够得到高质量的薄膜。
  • 一种加热系统半导体设备
  • [发明专利]液态源气相传输系统和方法-CN202310729521.X在审
  • 尹艳超;谭华强;邓浩;李洪昊;叶五毛 - 拓荆科技(上海)有限公司
  • 2023-06-19 - 2023-09-19 - F17D1/02
  • 本申请提供了一种液态源气相传输系统和方法，涉及半导体领域。液态源气相传输系统包括储存装置、反应装置以及输送管线。储存装置包括容器和容器加热组件，容器加热组件用于对所述容器进行加热，以使所述容器中的液态原料气化。输送管线连通容器和反应装置的反应腔室。输送管线包括内管、套设于所述内管外的外管以及设置于外管外侧的管线加热组件，外管与内管之间填充有保护气体，内管内部用于输送气态原料。本申请实施例提供的液态源气相传输系统和方法能够对原料进行均匀加热，不容易产生凝结导致颗粒污染。此外，液态源气相传输系统和方法具有较佳的安全性。
  • 液态相传系统方法
  • [发明专利]一种双层进气结构及镀膜设备-CN202310782378.0在审
  • 尹艳超;谭华强 - 拓荆科技(上海)有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - C23C16/455
  • 本发明的提供了一种双层进气结构及镀膜设备，涉及镀膜技术领域。该双层进气结构包括喷淋盘，喷淋盘设有分气通道，分气通道和喷淋盘的侧壁连通；喷淋盘还设有喷气孔，喷气孔和分气通道连通，喷气孔用于喷出第一种气体；喷淋盘还设有出气孔，出气孔贯穿喷淋盘，且出气孔和喷淋孔间隔设置，出气孔用于喷出第二种气体。喷气孔设置于喷淋盘，且喷气孔和分气通道连通，第一种气体通过分气通道进入喷淋盘，并通过分气通道到达喷气孔喷出，通过出气孔和喷气孔喷出两种不同的气体，喷气孔和出气孔间隔设置使得喷出的两种气体能够更均匀的进行结合从而形成均匀的薄膜，该双层进气结构能够更均匀的进行喷气，确保分气均匀性，从而确保能够形成均匀的薄膜。
  • 一种双层结构镀膜设备
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