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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]具有构型改变的压板表面的压板组件-CN02818816.0无效
发明人： T·R·泰勒;许苍山;K·T·克罗夫顿;赵岳星 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-07-31 - 公布日： 2005-12-28 - 主分类号： B24B21/06 文献下载
摘要：说明了一种用来改善晶片抛光装置(10)性能的装置。该装置包括一个支撑部件中的压板，其具有多个流体通道(34)，并且至少具有一个位于压板(30)表面上一部分的构型改变区域(52)。
具有构型改变压板表面组件

[发明专利]用于线性化学机械平坦化系统的有槽滚轮-CN02826232.8无效
发明人： 许苍山 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-12-20 - 公布日： 2005-04-20 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：在本发明的线性化学机械平坦化(CMP)系统中公开了一对滚轮中的每一滚轮的一表面，其包括第一组槽，该第一组槽覆盖了所述滚轮的所述表面的第一部分，其中该第一组槽设有第一间距，其对外朝该滚轮的第一外缘成一角度。所述表面也包括第二组槽，该第二组槽覆盖了所述滚轮的所述表面的第二部分，其中该第二组槽设有第二间距，其对外朝该滚轮的第二外缘成一角度，且该第二间距与该第一间距成远离角度。所述表面还包括第一组侧边通道，沿着所述第一部分布置，及第二组侧边通道，沿着所述第二部分布置。所述第一组侧边通道与所述第一组槽相交，且所述第二组侧边通道与所述第二组槽相交。
用于线性化学机械平坦系统滚轮

[发明专利]用于前沿和后沿控制的空气台板-CN02825539.9无效
发明人： A·德拉勒拉;X·彭;许苍山;D·魏;T·隆 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-12-12 - 公布日： 2005-04-13 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明描述了一种空气台板组件，该空气台板组件包括一个具有多个同心环(164)的台板(140)。每个环具有多个开口(144)以便给CMP带(102)提供气垫。至少有一个环延伸超出要被CMP带(102)整平的晶片(116)的外边缘(166)。支撑件(136)与台板连接并且具有多个通气口使压缩空气通到台板的环。密封垫(138)放置在支撑件(136)和台板(140)之间，并且具有多个与开口和通气口对准的切掉部分。空气台板组件还包括一个底座(134)，并且支撑着支撑件(136)。
用于前沿控制空气

[发明专利]用于边缘抛光均匀性控制的设备-CN02807536.6无效
发明人： 许苍山;杰夫·加斯帕雷奇;罗伯特·塔夫;肯尼思·J·巴勒;保罗·斯塔谢夫兹;埃瑞克·H·恩达尔;特拉维斯·罗伯特·泰勒 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-03-29 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供了在CMP系统中使用的压盘。该压盘布置在线性抛光垫的下方，并且被设计得向线性抛光垫的下侧施加受控的流体流。压盘包括包含第一多个输出孔的前导区，其中，前导区更接近线性抛光垫的上游区域。压盘还包括包含第二多个输出孔的尾延区，其中，尾延区更接近线性抛光垫的下游区域。前导区和尾延区被独立控制，并且被设计得独立地从第一多个输出孔和第二多个输出孔输出受控的流体流。
用于边缘抛光均匀控制设备

[发明专利]用于制造增强晶片研磨垫的方法以及实施该方法的装置-CN01821518.1无效
发明人： 许苍山;赵岳星;戴芬 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2001-12-07 - 公布日： 2004-03-17 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：在本发明的一个实施例中，提供了一种用于化学机械研磨的无缝研磨装置。该无缝研磨装置包括研磨垫，该研磨垫的形状类似带，且没有接缝。该无缝研磨装置还包括基带，该基带包括增强层和缓冲层。该缓冲层是在研磨带垫和基带之间的中间层。
用于制造增强晶片研磨方法以及实施装置

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