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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]自行车的车头组件及自行车的变速控制盒-CN202110598945.8有效
发明人：廖博益;杨家豪;许庭豪 -专利权人：彦豪金属工业股份有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B62M25/04 文献下载
摘要：一种自行车的车头组件，用以装设于自行车的一车架，包含一前叉立管、一龙头竖杆、一车手把、一第一刹车变速手把及一变速控制盒；龙头竖杆的一端装设于前叉立管；车手把固定于龙头竖杆的另一端；第一刹车变速手把装设于车手把；第一刹车变速手把包含一外壳、一刹车驱动组件、一变速开关及一电池，刹车驱动组件及电池设置于外壳，变速开关设置于刹车驱动组件；变速控制盒设置于前叉立管、龙头竖杆及车手把的其一，且电池及变速开关电性连接变速控制盒。
自行车车头组件变速控制

[发明专利]检验罩幕盒外表面的方法与检验罩幕盒微粒的方法与系统-CN202210173672.7在审
发明人：黄世睿;古新安;许庭豪;李信昌 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G01N1/24 文献下载
摘要：一种检验罩幕盒外表面的方法与检验罩幕盒微粒的方法与系统，在检验罩幕盒的外表面的方法中，将空气流导引在外表面上的多个位置中的第一位置。利用导引的空气流自外表面上的第一位置移除一或多个微粒。自外表面的第一位置抽取散射空气，并且确定抽取的散射空气内的微粒的数量为在第一位置的微粒采样数。移动罩幕盒并将空气流导引到此多个位置的其他位置，以确定在其他位置抽取的散射空气内的微粒采样数。依照此多个位置的微粒采样数产生罩幕盒的外表面上的微粒图。
检验罩幕盒外表方法微粒系统

[发明专利]光刻工艺方法及极紫外线光刻工艺方法-CN202210871348.2在审
发明人：游信胜;余青芳;王文娟;许庭豪;秦圣基;严涛南 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻工艺方法，包括：形成一抗蚀剂层于一基板上；执行一第一曝光工艺以将一第一光罩的一第一子区域的一第一图案成像至一次场中的一抗蚀剂层；执行一第二曝光工艺以将第一光罩的一第二子区域的一第二图案成像至次场中的上述抗蚀剂层；以及执行一第三曝光工艺以将一第二光罩的第一子区域的一第三图案成像至次场中的抗蚀剂层。其中，第二图案以及第三图案与第一图案相同；以及第一曝光工艺、第二曝光工艺以及第三曝光工艺共同于次场中的抗蚀剂层上形成第一图案的一潜像。
光刻工艺方法紫外线

[发明专利]光刻工艺方法-CN201810847468.2有效
发明人：游信胜;余青芳;王文娟;许庭豪;秦圣基;严涛南 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻工艺方法，包括：形成一抗蚀剂层于一基板上；执行一第一曝光工艺以将一第一光罩的一第一子区域的一第一图案成像至一次场中的一抗蚀剂层；执行一第二曝光工艺以将第一光罩的一第二子区域的一第二图案成像至次场中的上述抗蚀剂层；以及执行一第三曝光工艺以将一第二光罩的第一子区域的一第三图案成像至次场中的抗蚀剂层。其中，第二图案以及第三图案与第一图案相同；以及第一曝光工艺、第二曝光工艺以及第三曝光工艺共同于次场中的抗蚀剂层上形成第一图案的一潜像(latent image)。
光刻工艺方法

[发明专利]扫描基板的方法-CN202011590439.6在审
发明人：陈治成;古新安;许庭豪;李信昌 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种扫描基板的方法，扫描一基板且判定该基板的刮痕的方法包括使包含多个波长的一会聚光束透射至该基板。该多个波长中的每一波长遍及该基板且包括该基板的一表面以一焦点间距聚焦于一不同距离处。该方法亦包括自该基板的该表面接收经反射的光，且基于该经反射的光的具有一最高强度的一波长判定该基板的该表面的一高度或深度。
扫描方法

[发明专利]用于防止雾度的掩模表膜指示物-CN201510843150.3有效
发明人：林冠文;秦圣基;许庭豪;周子婷;吴书贤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于防止雾度的掩模表膜指示物。具体而言，本发明提供一种表膜掩模组合件，其包含掩模、表膜框架和表膜薄膜。所述表膜框架具有附着到所述掩模的底侧和由所述表膜薄膜覆盖的顶侧。所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述表膜掩模组合件内部的环境变化。在实施例中，所述环境变化包含所述表膜掩模组合件内部增大的湿度和/或增大的化学离子密度。还揭示制造和使用所述表膜掩模组合件的方法。
用于防止掩模表膜指示

[发明专利]检测系统以及检测方法-CN201510860140.0有效
发明人：李雨青;余青芳;林俊宏;秦圣基;许庭豪;张庆祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： G01N29/12 文献下载
摘要：一薄膜设置于一蚀刻掩模之上，一声波生成器放置在薄膜之上，声波生成器用来产生多个声波以使薄膜以一目标共振频率振动。一共振检测工具用来检测回应声波的薄膜的一实际共振频率。一或多个电子处理器利用从目标共振频率到实际共振频率的偏移量来估算薄膜的老化状态。
检测系统以及方法

[发明专利]用于半导体光刻工艺的保护膜设备-CN201611186679.3在审
发明人：李雨青;余青芳;林俊宏;许庭豪;张庆祥;秦圣基 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-12-20 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种用于半导体光刻工艺的保护膜设备。上述保护膜设备包括一保护薄膜。一保护膜框架，附于上述保护薄膜。上述保护膜框架具有一表面，其定义至少一个凹槽。上述保护膜设备还包括一基板，接触上述保护膜框架的上述表面，使上述凹槽位于上述保护膜框架和上述基板之间。
用于半导体光刻工艺保护膜设备

[发明专利]掩膜表面化学处理方法及系统-CN200810211878.4无效
发明人：苏益辰;许庭豪;秦圣基;李宏仁;谢弘璋;辜耀进 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2008-09-18 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种掩膜表面化学处理方法及系统。该掩膜表面化学处理方法包括以下步骤：在一掩膜上形成一吸收材质层；于形成该吸收材质层后，对该掩膜进行一等离子体处理以减少化学污染物；对该掩膜进行一化学清洗过程；以及对该掩膜进行一气体喷射过程。该掩膜表面化学处理系统包括：一掩膜台用来固定一掩膜，使该掩膜面朝下；一化学分注器，用来提供至少一化学品，以清洗该掩膜；一等离子体模组，用来对该掩膜进行一等离子体处理，以移除污染物；以及一温度控制模组，用来控制该掩膜的温度。本发明具有清洁掩膜以减少掩膜上残留的具有不同化学键结强度的化学残余物的效果。
表面化学处理方法系统

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