“考姆爱斯株式会社”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种半导体基板用保护膜剥离与否监视装置及方法-CN201811256899.8有效
发明人：黄善伍 -专利权人： 考姆爱斯株式会社
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G01N21/41 文献下载
摘要：本发明涉及半导体基板用保护膜剥离与否监视装置及方法。监视装置包括：发光装置、偏光片、相位延迟器、PCB基板、受光装置和控制部，发光装置、偏光片、相位延迟器正向依次配置，透过偏光片的光线偏光透过相位延迟器而投射到检查对象PCB基板，PCB基板位于相位延迟器的前方，对入射的圆偏光或椭圆偏光光线进行反射，PCB基板反射后逆向行进的反射光重新依次经过相位延迟器和偏光片，位于偏光片后方的受光装置对反射光进行聚光并变换成电信号，控制部判断在PCB基板表面是否附着有膜。它能够解决以往目视或利用无偏光影像分析的确认膜剥离与否的问题，准确而迅速地自动判断膜的剥离与否或膜一部分是否残余。
一种半导体基板用保护膜剥离与否监视装置方法

[发明专利]一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置及方法-CN202010553455.1在审
发明人：黄善伍 -专利权人： 考姆爱斯株式会社
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： G01V8/10 文献下载
摘要：本发明涉及PCB板生产技术领域，具体涉及一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置及方法，包括发光装置，所述发光装置朝向基板即拍摄对象正向照射光；第一偏光子，所述第一偏光子位于所述发光装置的前方，使所述发光装置生成的光变换成线偏光，入射到拍摄对象方向；第二偏光子，所述第二偏光子与所述第一偏光子具有直交性，位于基板与受光传感器之间，使被基板反射的第一反射光变换成第二反射光，穿过受光传感器方向；受光传感器，所述受光传感器接受穿过所述第二偏光子的光，生成光相关电信号并传输给控制部；控制部，所述控制部以从受光传感器传输的光相关电信号或光强度值为基础，判断检查对象基板T表面是否残留有膜。
一种半导体基板用保护膜是否剥离监视装置方法

[实用新型]一种改进了下模具的透镜浇口切割模具装置-CN202021953037.3有效
发明人：李章鲁 -专利权人： 考姆爱斯株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： B29C45/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种改进了下模具的透镜浇口切割模具装置，透镜浇口切割模具装置由上模具和下部模具构成，上模具包括第一切刀，下模具的外周连接有第二切刀，下部模具包括内侧模具、外侧模具、切刀固定部和第一引导部，内侧模具上设有可将注塑件的中心部配置于其上的中心区域，外侧模具沿内侧模具外周均匀间隔布置，且外侧模具上设有用于容置注塑件透镜部的透镜部安放槽，切刀固定部设于内侧模具外侧壁与外侧模具内侧壁形成的间隙中，且切刀固定部上设有横跨注塑件浇口部的第二切刀；第一引导部用以固定浇口主体部，防止在切割浇口部时发生移动。本实用新型可较精准的固定透镜注塑件，保证透镜浇口良好的切割质量，有利于提高成品率，降低生产成本。
一种改进模具透镜浇口切割装置

[发明专利]半导体制造用薄膜涂布装置-CN201180047409.3有效
发明人：黄善伍 -专利权人： 考姆爱斯株式会社
申请日： 2011-06-29 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体制造用薄膜涂布装置，作为薄膜涂布装置，其特征在于包括：主滚筒(10)，其与薄膜的另一面进行面接触；涂布用滚筒(20)，其与所述主滚筒(10)平行地邻接配备，与薄膜的一面进行面接触；涂布液供应滚筒(30)，其在所述主滚筒(10)的相反一侧，与所述涂布用滚筒(20)平行地邻接并隔开地配备，在下部浸于涂布液存储容器(39)中的状态下，在表面沾染涂布液后，涂布于所述涂布用滚筒(20)的表面；薄膜引导部(40)，其将薄膜引导至所述主滚筒(10)与滚筒(20)之间的空隙；硬化装置部(50)，其利用高温使在通过所述主滚筒(10)与涂布用滚筒(20)之间的同时而涂布了涂布液的薄膜硬化；传输机(60)，其进行移送，使薄膜通过硬化装置部(40)。
半导体制造薄膜装置

[发明专利]具备非接触式旋转装置的基板洗净装置-CN201180047424.8有效
发明人：黄善伍 -专利权人： 考姆爱斯株式会社
申请日： 2011-06-29 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：本发明涉及一种具备非接触式旋转装置的基板洗净装置，作为基板洗净装置，其特征在于包括：下部滚筒(10)，其以下部滚筒轴(11)为中心旋转；上部滚筒(20)，其与所述下部滚筒(10)平行地配备于所述下部滚筒(10)上部；下部粘着滚筒(30)，其平行地配备于所述下部滚筒(10)的下部；上部粘着滚筒(40)，其平行地配备于所述上部滚筒(20)的下部；导辊部(50)，其以翻滚轴(51)为中心旋转，在行进的基板的下部进行引导，使基板通过所述上部滚筒(20)与下部滚筒(10)之间；驱动部(60)，其支撑、固定于框架(1)，使所述导辊部(50)、下部滚筒(10)及上部滚筒(20)中的至少一者旋转；驱动部(60)，其支撑、固定于框架(1)，使所述导辊部(50)、下部滚筒(10)及上部滚筒(20)中的至少一者旋转。
具备接触旋转装置洗净