专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201810744557.4有效
  • 浅川雄二;绿川洋平;户田聪;高桥宏幸 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-07-23 - 2022-08-23 - H01L21/67
  • 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在将被处理基板载置在载置台上并利用处理气体来进行基板处理时能进一步确保处理均匀性。用于在真空气氛下利用处理气体对作为被处理基板的晶圆(W)实施规定的处理的基板处理装置(5)包括:腔室(40),其被保持为真空气氛,用于容纳晶圆(W);基板载置台(41),其用于在腔室(40)内载置晶圆(W);气体导入构件(42),其用于向腔室(40)内导入含有处理气体的气体;分隔壁构件(44),其以能够进行升降的方式设置,用于形成分隔壁,该分隔壁在基板载置台(41)的上方的包括晶圆(W)的区域中限定处理空间(S);以及升降机构(45),其用于使分隔壁构件(44)进行升降。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基板处理装置-CN202110565462.8在审
  • 绿川洋平 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-09-30 - 2021-08-31 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,能够进行准确的压力确认。基板处理装置具备:多个处理部,该多个处理部分别对被处理基板实施基板处理;多个基板载置台,各基板载置台在各处理部中载置被处理基板;多个气体导入构件,该多个气体导入构件向各处理部的处理空间分别导入处理气体;共用的排气机构,其将多个处理部的多个处理空间内的气体统一排出,并且统一进行处理空间的压力控制;以及压力测量部,其利用共用的压力计选择性地监视多个处理空间的某一处理空间的压力,其中,压力测量部具有:多个压力测量用配管,该多个压力测量用配管与多个处理空间连通;以及阀,其用于对多个压力测量用配管中的与共用的压力计连通的压力测量用配管进行切换。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201710914624.8有效
  • 绿川洋平 - 东京毅力科创株式会社
  • 2017-09-30 - 2021-06-15 - H01L21/67
  • 一种基板处理装置。该基板处理装置具备:两个处理部(11a、11b)、向这些处理空间(S1、S2)导入处理气体的两个气体导入构件(12a、12b)、将处理空间(S1、S2)内的气体统一排出的排气机构(14)以及利用压力计(91a、91b)选择性地监视两个处理空间(S1、S2)中的某一个处理空间的压力的压力测量部(15)。压力测量部(15)具有连通于处理空间(S1、S2)的压力测量用配管(92a、92b)、为了调整监视侧的处理空间和非监视侧的处理空间中所连通的配管的容积之差而设置的虚设配管(95a、95b)以及用于将这些配管打开和关闭的阀(94a、94b、97a、97b)。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201510437109.6有效
  • 浅川雄二;绿川洋平;户田聪;高桥宏幸 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-07-23 - 2018-07-20 - H01L21/67
  • 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在将被处理基板载置在载置台上并利用处理气体来进行基板处理时能进一步确保处理均匀性。用于在真空气氛下利用处理气体对作为被处理基板的晶圆(W)实施规定的处理的基板处理装置(5)包括:腔室(40),其被保持为真空气氛,用于容纳晶圆(W);基板载置台(41),其用于在腔室(40)内载置晶圆(W);气体导入构件(42),其用于向腔室(40)内导入含有处理气体的气体;分隔壁构件(44),其以能够进行升降的方式设置,用于形成分隔壁,该分隔壁在基板载置台(41)的上方的包括晶圆(W)的区域中限定处理空间(S);以及升降机构(45),其用于使分隔壁构件(44)进行升降。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]涡旋流体机械-CN201180064534.5有效
  • 伊藤洋;谷川志郎;绿川洋平 - 阿耐思特岩田株式会社
  • 2011-11-22 - 2013-09-04 - F04C18/02
  • 本发明中提供一种涡旋流体机械,该涡旋流体机械具有回旋涡盘和固定涡盘,该回旋涡盘在以能够回旋的方式支承于驱动轴的镶板上竖立设置有回旋卷板,该固定涡盘在与上述回旋涡盘对置地设置的镶板上竖立设置有固定卷板,使上述回旋卷板与固定卷板重叠来形成压缩室,通过使上述回旋涡盘回旋来对流体进行压缩,该涡旋流体机械的特征在于,具有棒状构件和回旋板,该棒状构件安装于上述回旋涡盘的镶板,并且向上述固定涡盘的不与上述回旋涡盘对置的背面侧延伸设置,该回旋板安装于该棒状构件,并且设有销曲柄机构,以能够回旋的方式支承于上述驱动轴,在上述回旋板上设有对上述压缩室的轴向进行密封的密封部件。
  • 涡旋流体机械
  • [发明专利]涡旋式流体机械-CN200610139677.9有效
  • 土屋胜;石川秀俊;绿川洋平 - 阿耐斯特岩田株式会社
  • 2006-09-28 - 2007-04-04 - F04C18/02
  • 一种涡旋式流体机械,包括:具有固定涡盘和旋转涡盘的外壳,其中旋转涡盘被由外壳后的电机驱动的驱动轴旋转。送风扇设置在固定涡盘和电机之间。风扇的旋转引起外壳中的解压以使一次外部空气能够通过一次吸气孔从外部被吸入外壳中。二次外部空气从二次吸气孔吸入并与涡旋式流体机械的一次外部空气混合以冷却外壳中的涡旋式流体机械的部件和/或电机。
  • 涡旋式流体机械
  • [发明专利]涡旋流体机中的密封件-CN200610127458.9无效
  • 土屋胜;绿川洋平 - 阿耐斯特岩田株式会社
  • 2006-09-15 - 2007-04-04 - F04C27/00
  • 在一种涡旋流体机中,动涡旋件包括带有动涡旋齿的旋转端板,静涡旋件包括带有静涡旋齿的固定端板。结合槽形成于动涡旋齿顶端和静涡旋齿顶端,和/或形成于固定端板或旋转端板中。密封件以与相对件滑动接触的方式安装在结合槽内。该密封件包括密封材料和位于密封材料与结合槽底部之间的支撑材料。支撑材料具有多个凸出部分,这些凸出部分弹性延伸以便在密封件受到压力时压迫结合槽的内周表面。
  • 涡旋流体中的密封件
  • [发明专利]涡旋式流体机械的端部密封-CN200610146371.6无效
  • 绿川洋平 - 阿耐斯特岩田株式会社
  • 2006-08-24 - 2007-03-28 - F04C18/02
  • 一种涡旋式流体机械,其包括具有固定涡壳的固定涡卷和具有沿轨道回转涡壳的沿轨道回转涡卷。在固定涡壳和沿轨道回转涡壳的端部的端部密封槽内提供端部密封,以使固定涡壳和沿轨道回转涡壳可滑动地接合。端部密封包括在端部密封槽内的密封材料以及在密封材料和端部密封槽底部之间的备用材料。该端部密封与备用材料间无粘合剂的接触,以准确地保持它们之间的侧向位置关系。
  • 涡旋式流体机械密封

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