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[发明专利]生产用于PLD的氮化钪铝靶的方法-CN202111023279.1在审
发明人： W·C·L·霍普曼;J·M·德克斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： C04B35/58 文献下载
摘要：本发明涉及生产用于脉冲激光沉积(PLD)的氮化钪铝(ScAlN)靶体的方法，该方法包括以下步骤：‑提供钪铝合金体；‑将钪铝合金体粉碎为钪铝颗粒；‑将钪铝颗粒氮化成氮化钪铝颗粒；‑将氮化钪铝颗粒热压成氮化钪铝靶体。
生产用于 pld 氮化钪铝靶方法

[发明专利]用于脉冲激光沉积的装置-CN202110616590.0在审
发明人： K·H·A·玻姆;W·C·L·霍普曼;J·M·德克斯;J·A·扬森斯;B·贝伦巴克;T·B·H·特布赫斯特 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于脉冲激光沉积的装置，包括具有基板表面的基板和具有靶表面的靶，还包括：基板保持器，用于保持基板；靶保持器，用于保持靶，靶有面对基板表面的靶表面；速度过滤器，其布置在基板保持器和靶保持器之间，速度过滤器包括旋转的大致盘形本体，本体有旋转轴线，并有至少一个过滤器通道开口，过滤器通道开口从旋转本体的一个轴向表面延伸至另一轴向表面；及脉冲激光，脉冲激光在靶点处引导至靶上，用于产生靶材料的等离子体羽流，其中，在靶点处的靶表面面对基板表面，当沿与靶点处的靶表面垂直的方向看时，至少一个过滤器通道开口的通路与靶点重合，至少一个过滤器通道开口沿平行于旋转本体的旋转轴线的方向从靶至基板渐缩。
用于脉冲激光沉积装置

[发明专利]用于在激光沉积过程中控制基板中的应力的方法-CN202110581651.4在审
发明人： K·H·韦杰;J·A·霍伊费尔;W·C·L·霍普曼;K·H·A·波姆;J·M·德克斯;J·A·扬森斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在激光沉积过程中控制基板上的薄膜中的应力的方法，该方法包括以下步骤：提供激光沉积装置，其包括腔室，腔室有：靶保持器，靶保持器有靶；基板保持器，基板保持器有面对靶的基板；以及窗口；激光沉积装置还包括激光束，激光束通过腔室的窗口被引导至靶处的点上，用于产生靶材料的等离子体羽流，并使得靶材料沉积在基板的表面部分上，以形成靶材料的薄膜；在基板上确定多个离散表面部分；使靶点一个接一个地与各离散表面部分对齐，并产生等离子体羽流，以使靶材料沉积在各离散表面部分上；根据与靶点对齐的离散表面部分来调节沉积处理的至少一个参数，参数包括温度、压力、激光束脉冲持续时间、激光束功率、靶至基板的距离。
用于激光沉积过程控制中的应力方法

[发明专利]用于等离子体羽流的过滤器-CN202110191074.8在审
发明人： J·M·德克斯;K·H·A·玻姆;W·C·L·霍普曼;J·A·霍伊费尔;J·A·扬森斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于从等离子体羽流中过滤颗粒的过滤器，其包括：壳体，该壳体有两个穿透开口，穿透开口布置在壳体壁中，并形成用于至少一部分等离子体羽流穿过壳体的穿透槽道，穿透槽道从壳体的一侧延伸至相对侧；至少一个第一叶片，其布置在离旋转轴线一定距离处且可绕其旋转，旋转轴线与穿透槽道的中心线平行和间隔开，至少一个第一叶片的通路与穿透槽道相交，至少一个第一叶片有用于与等离子体羽流接触的接触表面，接触表面面向旋转方向；排出槽道，排出槽道与布置在壳体壁中的排出开口连接，其中，与穿透槽道的中心线和从旋转轴线延伸的径向线都垂直地延伸的线延伸穿过排出开口，径向线延伸通过穿透槽道的中心线和至少一个第一叶片的通路。
用于等离子体过滤器

[发明专利]用于脉冲激光沉积的装置以及具有基板表面的基板-CN201910570727.6在审
发明人： J·A·扬森斯;J·M·德克斯;K·H·A·伯姆;W·C·L·霍普曼;J·A·霍伊费尔 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于脉冲激光沉积的装置和具有基板表面的基板，该装置包括：基板保持器，用于保持基板；靶，该靶布置成面向基板的基板表面；速度过滤器，该速度过滤器布置在基板和靶之间，该速度过滤器包括旋转体，该旋转体有至少一个过滤器通道开口；脉冲激光，该脉冲激光在靶点处朝向靶，用于产生靶材料的等离子体羽流，其中，在靶点处的靶表面面对基板表面；以及等离子体孔板，该等离子体孔板布置在靶和基板之间，该等离子体孔板有等离子体通道开口，其中，等离子体通道开口由分割平面分成上游部分和下游部分，该分割平面垂直于速度过滤器的旋转方向，靶点与该分割平面重合，且上游部分的表面面积大于下游部分的表面面积。
过滤器基板等离子体分割平面靶点孔板等离子体通道开口基板表面脉冲激光旋转体等离子体羽流脉冲激光沉积过滤器通道基板保持器面对基板面向基板上游靶表面靶布置靶材料重合垂直

[发明专利]用于脉冲激光沉积的方法-CN201910182218.6在审
发明人： J·A·扬森斯;J·M·德克斯;K·H·A·伯姆;J·A·霍伊费尔 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于脉冲激光沉积的方法，它包括以下步骤：提供靶和面对靶的基板；利用脉冲激光束照射靶上的点，以便产生靶材料的等离子体羽流，并使得等离子体羽流沉积在基板上；在利用脉冲激光束照射点之前使得靶上的点的表面结构平滑。
等离子体羽流脉冲激光沉积脉冲激光束基板表面结构靶材料照射点平滑沉积照射

[发明专利]通过脉冲激光沉积来沉积材料的设备以及利用该设备沉积材料的方法-CN201580009380.8有效
发明人： J·M·德克斯;J·A·扬森斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2015-02-18 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于通过脉冲激光沉积来沉积材料的设备，所述设备包括：‑真空室；‑至少一个衬底支架及衬底，置于所述真空室内，所述衬底具有第一、第二和第三方向，这三个方向中每一个互相垂直，其中所述衬底能够通过所述衬底支架在所述第一方向上移动；‑靶支架及靶，置于所述真空室内，其中所述靶与所述衬底平行地基本在所述衬底的在所述第二方向上的全长上延伸；‑至少一束激光，用于照射所述靶，从而生成沉积在所述衬底上的材料的等离子体，其中所述激光在所述靶上的入射位置能够平行于所述衬底的所述第二方向移动；以及‑控制器，用于控制所述衬底支架的移动以及所述激光在所述靶上的所述入射位置的移动。
通过脉冲激光沉积材料设备以及利用方法

[发明专利]用于将靶材料沉积在有机电功能材料上的方法-CN201380060227.9在审
发明人： J·M·戴克斯;J·A·杨森 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2013-10-14 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及用于将靶材料沉积在有机电功能材料上的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有有机电功能材料如电致发光发射层的衬底；通过脉冲激光沉积产生靶材料的蒸气羽流；将第一层靶材料沉积在有机电功能材料上，同时保持沉积微粒的最大微粒速率低于预设值；和将第二层靶材料沉积在第一层靶材料上，同时沉积微粒的最大微粒速率高于预设值。本发明还涉及中间产品和涉及有机发光二极管。
用于材料沉积机电功能方法

[发明专利]靶冷却装置-CN201080035099.9有效
发明人： J·J·布鲁克玛特;J·A·扬森斯;J·M·德克斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2010-06-23 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及激光沉积装置，包括：至少一个靶，与所述至少一个靶相对布置的基底以及用于产生激光束的激光器，所述激光束指到所述靶上，使得靶材的等离子体羽流被产生并且沉积到所述基底上，所述激光沉积装置还包括：基部框架、具有布置在所述基部框架中的至少两个靶保持器的可旋转靶框架以及布置于所述基部框架上的至少一个冷却器装置，所述冷却装置能够相对于所述靶框架移动，以使所述冷却装置与所述靶框架热交换接触。
冷却装置

[发明专利]具有可互换掩模的脉冲式激光沉积-CN201080024534.8无效
发明人： J·J·布鲁克玛特;J·M·德克斯;J·A·扬森斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2010-04-14 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于脉冲式激光沉积的设备，所述设备包括：衬底支架，所述衬底支架上安装有衬底；靶支架，所述靶支架上安装有靶材料并且与所述衬底支架相对；激光设备，所述激光设备用于指引激光束投射至所述靶材料上；以及掩模，所述掩模布置于所述衬底上；其中所述掩模被布置于可移动圆盘中，所述可移动圆盘能够在轴向方向上移动至所述衬底支架并从所述衬底支架移动。本发明还涉及用于操作该设备的方法。
具有互换脉冲激光沉积

[发明专利]将图像投射在表面上的装置和移动所述图像的装置-CN200980156406.6有效
发明人： J·J·布鲁伊克马特;J·M·德克尔斯;J·A·简森斯 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将图像投射在表面上的装置，包括：生成光束的光源；设置在光束路径内的掩模；设置在掩模后面的透镜，用于将掩模图像聚焦在表面上，其中该表面不与透镜平行，其中，沿掩模边缘的基本上每一位置到透镜的距离v，与掩模图像边缘的对应位置到透镜的距离b，基本符合公式l/v+l/b＝l/f，其中f是透镜的焦距。本发明还涉及一种用于在表面上移动图像的装置。
图像投射表面上装置移动

[发明专利]沉积材料的方法-CN200980133621.4有效
发明人： J·A·扬森斯;G·范德艾克尔;J·M·德克斯;J·J·布鲁克玛特;P·特里勒 -专利权人： 索尔玛特斯有限责任公司
申请日： 2009-08-24 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积靶材料(3)至样品(2)的表面的方法，该方法包括以下步骤：通过用激光束或电子束(7)照射靶表面来生成靶材料粒子的羽焰(9)；放置样品(2)至羽焰附近，以使得靶材料粒子沉积到样品的表面上；绕着垂直于沉积粒子的样品表面的旋转轴线(1)旋转样品；沿着靶表面移动激光束，以使得羽焰相对于旋转轴线沿径向移动；以可变的频率来脉冲调制激光束。
沉积材料方法

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