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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序-CN200510075830.1有效
发明人： 篠原雄一;田端秀敏 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序，曝光装置包括：判断单元、存储单元以及曝光处理控制单元，判断单元根据利用摄影单元对分别形成于基板上和形成于具有在基板上形成的图案的掩模上的基板标记和掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可以曝光；存储单元将与判定为不可曝光的基板有关的信息，和被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域有关的信息作为错误信息进行存储；曝光处理控制装置在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后而再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在存储单元中的错误信息，进行控制，使对未曝光处理区域实施调整处理及曝光处理。
曝光装置方法以及处理程序

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