专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种利用火电厂烟气养护粉煤灰沙基灰砖的装置-CN202320290628.4有效
  • 张志义;刘昊;管伟明;孙伟;苏慧;赵博 - 新疆大学
  • 2023-02-22 - 2023-07-21 - B28B11/24
  • 本实用新型公开了一种利用火电厂烟气养护粉煤灰沙基灰砖的装置,包括静电除尘机构和灰砖养护双通道,所述静电除尘机构的一侧与所述灰砖养护双通道连接,另一侧连接火电厂主厂房;所述灰砖养护双通道由第一通道和第二通道组成,所述灰砖养护双通道两侧均设有舱门,所述灰砖养护双通道内设有轨道,所述轨道上连接有灰砖养护车架。本实用新型采用上述的一种利用火电厂烟气养护粉煤灰沙基灰砖的装置,可以有效利用火电厂烟气中的热量和二氧化碳成分对灰砖胚体进行快速养护,减少火电厂烟气中二氧化碳的含量,达到节能减排的效果,减少环境污染,促进区域生态环境良性发展。
  • 一种利用火电厂烟气养护粉煤灰沙基灰砖装置
  • [发明专利]一种矿坑回填体地下水导通试验装置的试验方法-CN202110776860.4有效
  • 张志义;徐辛义;王伟;陈辉;管伟明 - 新疆大学
  • 2021-07-09 - 2023-06-27 - G01N15/08
  • 本发明涉及地下水导通试验技术领域,具体的说是一种矿坑回填体地下水导通试验装置的试验方法,包括底座,所述底座上设有壳体机构,所述壳体机构上安装有进料机构,所述壳体机构内部设有搅拌机构,所述壳体机构上设有取样机构,所述取样机构上设有检测机构,所述壳体机构和搅拌机构上共同设有清洁机构;将进料机构设于壳体机构上,通过进料机构,方便自动筛分,从而能够投入不同粒径的回填料,起到对照试验的作用;通过取样机构,方便在使用时获取不同深度的渗水,对比不同深度的渗水情况,方便研究不同深度的渗水率;在取样机构的带动下,通过检测机构,方便针对不同的地下污水投入对应的反应剂,从而方便研究不同深度地下渗水的污染物浓度。
  • 一种矿坑回填地下水试验装置试验方法
  • [发明专利]一种高均质微粒径高纯钌粉及其制备方法-CN202111501964.0在审
  • 巢云秀;闻明;施晨琦;周利民;管伟明;王传军;李思勰;沈月;许彦亭;李治东;刘牛 - 贵研铂业股份有限公司
  • 2021-12-09 - 2022-04-08 - B22F9/22
  • 本发明公开了一种高均质微粒径高纯钌粉及其制备方法,所述高纯钌粉的由重量百分浓度的钌离子水溶液、沉淀剂和分散保护剂制备得到;所述高纯钌粉纯度≥99.999%,近球形,分散性好,平均粒径<3μm;所述高纯钌粉由前驱体制备、前驱体煅烧、前驱体还原、钌粉纯化工艺制备获得。本发明采用化学液相法通过改变反应条件的一种或几种可以有效低控制反应进程,有效控制反应生成物的粒径、形貌;选择了不参与反应、易溶于水的高分子树脂作为分散保护剂,通过物理吸附作用,能有效控制反应生成物的粒径大小,使形貌趋于球形生长,同时改善分散性,助于获得高均质优分散性的产物。本发明获得具有尺寸稳定的微米粒径钌粉,其尺度在1~3μm之间得到控制。从附图可见钌粒子具有尺度均匀、呈类球形的特点,颗粒间分散性好。
  • 一种高均质微粒高纯及其制备方法
  • [发明专利]一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法-CN202010245239.0有效
  • 王传军;闻明;谭志龙;沈月;许彦亭;管伟明;郭俊梅;陈家林 - 贵研铂业股份有限公司
  • 2020-03-31 - 2021-12-10 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶材中铂的含量为21~31%原子百分比,镍铂溅射靶材溅射面的(111)面的取向率大于30%,(200)面的取向率小于(111)面且大于20%。所述制备方法包括以下步骤:以4N5镍和铂为原料,配制成铂的含量为21~31%的合金,将合金放入熔炼炉中进行熔炼,待原料熔化后置于浇铸模具中进行浇铸获得铸锭;再将铸锭采用温轧轧制形成坯料后再结晶退火,最后加工成型获得靶材。本发明制备获得了成品率高,稳定性好的含铂为21~31原子%的NiPt合金溅射靶材,通过控制晶粒取向改善了靶材的成膜速率和薄膜性能稳定性,获得了沉积速率和膜厚均匀性较好的NiPt薄膜,大大提高了生产效率,极大节约了成本。
  • 一种合金溅射及其制备方法

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