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[发明专利]流体处理装置及包含该流体处理装置的流体处理系统-CN202210534445.2在审
发明人： 砂永伸也;铃木诚一郎;小野航一 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： F16K7/16 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供流体处理装置以及包含该流体处理装置的流体处理系统，该流体处理装置能够更简便地制作且能够容易地进行流路的开闭而且能够实现小型化。本发明的流体处理装置具有第一流路、第二流路、和配置于所述第一流路与所述第二流路之间的阀，所述阀包括：配置于基板的槽状阀座；以及将所述槽状阀座覆盖的平板状的挠性层，所述阀在所述挠性层与所述槽状阀座的底部分离时将所述第一流路和所述第二流路连通，在所述挠性层与所述槽状阀座的内壁接触时将所述第一流路和所述第二流路之间阻断。
流体处理装置包含系统

[实用新型]一种微流路器件-CN202122495024.7有效
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐斯股份有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G05D23/22 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供了一种微流路器件，包括：微控制单元、第一机械式继电器、第二机械式继电器、晶体管电路及帕尔贴元件；微控制单元分别与第一机械式继电器、第二机械式继电器、晶体管电路连接，帕尔贴元件分别与第一机械式继电器、第二机械式继电器、晶体管电路连接。机械式继电器是通过机械式切换触点的方式来控制帕尔贴元件的，其电流损耗要远远小于晶体管的电流损耗，因此相比与单独使用晶体管电路，能够降低能耗。并且可以减少晶体管电路的工作时长，从而减少晶体管电路产生的热能，因此晶体管电路上可以不用设置散热片，而机械式继电器的体积是要小于散热片的体积的，因此能够减少微流路器件的体积，实现微流路器件的小型化。
一种微流路器件

[发明专利]流体处理装置-CN202111146348.8在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明涉及流体处理装置。本发明的一实施方式的流体处理装置，具有基板和与所述基板接合的薄膜，且用于对流体进行处理，其具有：流路；与所述流路连接的槽孔；配置于所述流路与所述槽孔之间的旋转隔膜阀；以及与所述流路连接的旋转隔膜泵。例如，本发明的一实施方式的流体处理装置中，所述基板或所述薄膜在与所述旋转隔膜泵对应的位置具有用于将所导入的样本粉碎的结构。
流体处理装置

[发明专利]流体处理装置、流体处理系统及液体检测方法-CN202110802724.8在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G01F23/292 文献下载
摘要：本发明涉及流体处理装置、流体处理系统及液体检测方法。流体处理装置具有包含用于使光漫反射的粗糙化表面的流路。另外，流体处理系统具有：上述的流体处理装置；光照射部，用于向所述流路的所述粗糙化表面照射光；以及光检测部，用于检测从所述光照射部照射并在所述粗糙化表面透射的光或从所述光照射部照射并由所述粗糙化表面反射的光。
流体处理装置系统液体检测方法

[发明专利]液体处理装置、液体处理系统及液体处理方法-CN202110255092.8在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明涉及液体处理装置、液体处理系统及液体处理方法。液体处理装置具备共用流路、多个槽孔、磁珠腔室以及多个阀。所述多个阀是设置在第一圆的圆周上的旋转膜阀。所述磁珠腔室设置在与所述第一圆为同心圆的第二圆的圆周上。
液体处理装置系统方法

[发明专利]液体处理装置及液体处理方法-CN202110264611.7在审
发明人：山内拓史;砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： G01N1/36 文献下载
摘要：本发明涉及液体处理装置及液体处理方法。液体处理装置具备：用于容纳第一样本的多个第一槽孔；第一流路，与所述多个第一槽孔连接；用于容纳第二样本的多个第二槽孔；第二流路，与所述多个第二槽孔连接；用于容纳处理剂的多个处理剂槽孔，该处理剂用于处理所述第一样本和所述第二样本；处理剂流路，与所述多个处理剂槽孔连接；以及共用流路，与所述第一流路、所述第二流路及所述处理剂流路连接。
液体处理装置方法

[发明专利]液体处理装置及液体处理方法-CN202110257478.2在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B01F13/00 文献下载
摘要：本发明涉及液体处理装置以及液体处理方法。液体处理装置具备共用流路、与所述共用流路连接的第一液体导入流路、与所述共用流路连接的第一液体排出流路、与所述共用流路连接的第二液体导入流路以及与所述共用流路连接的第二液体排出流路。所述共用流路中，所述第一液体导入流路的合流部与所述第一液体排出流路的合流部之间的体积，相对于所述第二液体导入流路的合流部与所述第二液体排出流路的合流部之间的体积的比值为X：Y。所述液体处理装置能够以X：Y的体积比混合第一液体与第二液体。
液体处理装置方法

[发明专利]流体处理装置、流体处理方法及流路片-CN201780048386.5有效
发明人：小野航一;砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2017-08-03 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： F16K7/16 文献下载
摘要：本发明的流体处理装置具有基板、薄膜及滑动部件。基板具有第一流路、第二流路、以及在第一流路的一端和第二流路的一端之间形成的隔壁。薄膜包含大致球冠形状的隔膜，以使隔膜和隔壁对置的方式配置于基板上。滑动部件在其背面形成有凸部，且以使背面朝向所述薄膜侧的状态配置于薄膜上。滑动部件能够在薄膜上滑动。滑动部件能够通过薄膜上的滑动来交替地切换以下状态：第一状态，凸部配置为隔着隔膜而不与隔壁对置；以及第二状态，凸部配置为隔着隔膜而与隔壁对置。
流体处理装置方法流路片

[发明专利]流体处理装置及流体处理系统-CN201980044995.2在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-06-17 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：流体处理装置具有：第一旋转部件，具有用于按压阀的隔膜而使阀关闭的第一凸部，能够以旋转轴为中心旋转；第二旋转部件，以包围第一旋转部件的方式配置，具有用于按压阀的隔膜而使阀关闭的第二凸部，能够以旋转轴为中心而独立于第一旋转部件地旋转；以及多个滚动体，配置于第一旋转部件与第二旋转部件之间，与第一旋转部件和第二旋转部件接触。
流体处理装置系统

[发明专利]流体处理装置及流体处理系统-CN201980021158.8在审
发明人： 砂永伸也;山内拓史;薮内里实 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： F16K7/16 文献下载
摘要：本发明的流体处理装置具有能够以中心轴为中心旋转的旋转部件。所述旋转部件中，第一凸部和凹部配置于以所述中心轴为中心的第一圆的圆周上，该第一凸部用于通过按压流路片的阀来使其关闭，该凹部用于通过不按压所述阀来使其打开。所述旋转部件还具有第二凸部，该第二凸部用于在所述旋转部件正在旋转的状态下所述凹部位于所述阀上时，通过按压该阀来使该阀不被打开。
流体处理装置系统

[发明专利]流体处理装置及流体处理系统-CN201980021178.5在审
发明人： 砂永伸也;山内拓史;薮内里实 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： G01N37/00 文献下载
摘要：本发明的流路片具有：共同流路；多个导入流路，分别与所述共同流路连接；多个导入阀，分别配置在所述多个导入流路内；清洗液流路，与所述共同流路连接；以及清洗液阀，配置在所述清洗液流路内。流体处理装置具有：旋转部件，用于对所述导入阀的开闭进行控制；以及清洗液阀控制部，用于对所述清洗液阀的开闭进行控制。所述清洗液阀控制部在所述旋转部件旋转来使所述导入阀开闭之后，在所述旋转部件旋转来使另外的所述导入阀开闭之前，打开所述清洗液阀来使清洗液在所述共同流路内流动。
流体处理装置系统

[发明专利]液体处理装置-CN201980015714.0在审
发明人：大岛优也;砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G01N35/08 文献下载
摘要：本发明的液体处理装置具有：第一液体可流动的第一流路；第二液体可移动的第二流路；第二液体可移动的第三流路；以及液滴生成部，是所述第二流路及所述第三流路相对于所述第一流路的汇合部，构成为利用在所述第二流路及所述第三流路内流动的所述第二液体将在所述第一流路内流动的所述第一液体分割为液滴状。所述第二流路及所述第三流路分别在下游侧具有主流路及副流路。所述第二流路的所述主流路的开口部与所述第三流路的所述主流路的开口部彼此相对地配置。所述第二流路的所述副流路的开口部与所述第三流路的所述副流路的开口部彼此相对地配置。
液体处理装置

[发明专利]流体处理装置-CN201980014634.3在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G01N35/08 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够容易地分离收集液滴的流体处理装置。上述目的是利用如下流体处理装置实现的，该流体处理装置具有：第一流路，在输送包含液滴的流体时，所述液滴能够在所述第一流路的内部移动；第一腔室，捕捉在所述第一流路中移动的所述液滴；第二腔室，所述第一腔室捕捉到的所述液滴能够移动至该第二腔室；以及第二流路，该第二流路使所述第一腔室与所述第二腔室连通，在所述第二流路中，能够选择性地执行所述液滴的通过和所述液滴的通过的限制。
流体处理装置

[发明专利]流体处理装置-CN201980014760.9在审
发明人： 砂永伸也;山内拓史 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： G01N35/08 文献下载
摘要：本发明的第一流体处理装置具有：第一液体导入部；第一清洗液导入部；第一流路，用于使导入至所述第一液体导入部及所述第一清洗液导入部的液体流动；第二液体导入部；第二清洗液导入部；第二流路，用于使导入至所述第二液体导入部及所述第二清洗液导入部的液体流动；第三流路，用于使在所述第一流路中流过来的液体及在所述第二流路中流过来的液体流动；第一隔膜阀，配置于所述第一流路与所述第三流路之间；第二隔膜阀，配置于所述第二流路与所述第三流路之间；以及腔室，与所述第三流路连接。
流体处理装置

[发明专利]流体处理装置及流体处理系统-CN201980013001.0在审
发明人： 砂永伸也 -专利权人：恩普乐股份有限公司
申请日： 2019-02-12 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供能够容易地分取液滴的流体处理装置。通过以下的液体处理装置来实现上述目的，该液体处理装置具有：导入口；第一流路，与所述导入口连接，在使包含液滴的流体流动时所述液滴能够在该第一流路中移动；以及均为所述第一流路扩幅而成的第一腔室及第二腔室，该第一腔室捕捉在所述第一流路中移动的所述液滴，所述第一腔室所捕捉的所述液滴能够经由所述第一流路移动至第二腔室，所述流体处理装置能够通过转动来切换以下的第一状态及第二状态：第一状态，所述第一腔室自所述第一流路向铅垂上方扩幅，在所述第一流路中移动的液滴被捕捉于所述第一腔室；第二状态，所述第二腔室自所述第一流路向铅垂上方扩幅，被捕捉于所述第一腔室中的液滴经由所述第一流路移动至所述第二腔室。
流体处理装置系统

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