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- [发明专利]图案形成方法-CN200680024829.9无效
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高岛正伸;冈崎洋二;石川弘美
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富士胶片株式会社
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2006-06-16
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2008-07-09
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G03F7/20
- 本发明提供一种图案形成方法，其通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案。因此，其特征在于，至少包括对感光层进行的如下的步骤，即：利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光，所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，并且所述大致矩形状的短边方向所述感光层的弯曲方向平行。
- 图案形成方法
- [发明专利]曝光设备和曝光方法-CN200680008332.8无效
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冈崎洋二;石川弘美
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富士胶片株式会社
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2006-03-09
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2008-03-12
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G03F7/20
- 一种曝光设备(10)包括光源单元(60)、数字微镜器件(90)、成像光学系统(50)以及一对楔形棱镜(54)，所述光源元件(60)用于发出曝光光线；所述数字微镜器件(90)用于基于图像信号、对从光源发出的曝光光线进行空间光调制；所述成像光学系统(50)用于以曝光光线在感光材料(12)上形成图像，所述曝光光线已经进行了空间光调制；所述楔形棱镜对(54)用于在用调制后的曝光光线在感光材料上形成图像时，通过改变调制后的曝光光线的光程长度来调焦。在所述成像光学系统(50)中，投影透镜的外围部分处的变形增加，并且包括中心部分的区域上的透镜的光学性能得到提高。仅通过投影透镜的基本上成矩形的包括其中心部分的区域、以调制后的曝光光线形成图像。
- 曝光设备方法
- [发明专利]图像曝光设备和微透镜阵列单元-CN200680002028.2无效
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石川弘美
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富士胶片株式会社
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2006-01-06
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2008-01-09
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G03F7/20
- 本发明公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置(50)，该空间光学调制装置(50)包括大量的两维排列的像素区；光源(66)；以及图像聚焦光学系统(51)，该图像聚焦光学系统(51)用于将由空间光学调制装置(50)调制的光(B)所表现的图像聚焦在感光材料上，该图像聚焦光学系统(51)包括图像聚焦透镜(52、54)和微透镜阵列(55)，所述微透镜阵列布置为多个微透镜定位在由图像聚焦透镜(52、54)聚焦的每一个像素区的图像位置处。微透镜阵列(55)被容纳在具有两个透明部分(82、83)的壳体(80)中，该透明部分(82、83)分别用于透射将要通过微透镜阵阵列(55)的光和透射已经通过微透镜阵列(55)的光，用以防止灰尘粘附于该微透镜阵列。
- 图像曝光设备透镜阵列单元
- [发明专利]图像曝光装置及方法-CN200580041938.7无效
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石川弘美
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富士胶片株式会社
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2005-12-01
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2007-11-28
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G03F7/20
- 一种图像曝光装置，其能够避免由于光线行进方向上的波动而导致所曝光的图像分辨率变差，所述光线聚焦空间光调制器件的像素部分的像素图像。该装置包括空间光调制器件(50)，例如具有被二维地设置的多个像素部分的DMD；光源(66)；和图像聚焦光系统(52、54)。它另外包括孔径阵列(59)，其被设置在通过图像聚焦光系统(52、54)被聚焦的图像位置，以使像素部分的各个像素图像被定位在各个孔径(59a)的平面处。被定位在孔径阵列(59)的孔径平面处的像素图像通过微透镜阵列(55)被聚焦为图像，其然后由光系统(57、58)被投影在光敏材料(150)上。
- 图像曝光装置方法
- [发明专利]图案形成方法-CN200580020670.9无效
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高岛正伸;石川弘美;下山裕司
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富士胶片株式会社
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2005-05-25
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2007-07-11
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G03F7/20
- 本发明的目的在于，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法通过抑制成像于图案形成材料上的像的失真，可以高清晰地、有效地形成布线图案等永久图案，而且使遮盖性和分辨率高度并存。因此，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法将至少具有感光层的图案形成材料中的该感光层层叠在被处理基体上后，通过相对于该感光层的任意两个以上的区域，照射能量各不相同的光，进行曝光，通过具有n个接受来自光照射装置的光并射出的描素部的光调制装置，使来自上述光照射装置的光调制后，通过排列好具有可以对由上述描素部中的射出面的变形引起的像差进行矫正的非球面的微透镜的微透镜阵列，进行上述曝光。
- 图案形成方法
- [发明专利]图案形成方法-CN200580013937.1无效
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高岛正伸;若田裕一;石川弘美;下山裕司
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富士胶片株式会社
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2005-02-25
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2007-04-18
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G03F7/20
- 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
- 图案形成方法
- [发明专利]图案形成方法及图案-CN200580008958.4无效
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高岛正伸;佐藤守正;石川弘美;下山裕司
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富士胶片株式会社
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2005-03-17
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2007-03-21
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G03F7/20
- 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以适当抑制在图案形成材料上的图像畸变，并且可以有效地形成具有高度精细和精确的图案比如布线图案。为了实现该目的，提供了根据本发明的图案形成方法，包括：调制由激光源所辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料包括载体和光敏层，所述光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分能够接收激光束和输出调制的激光束，所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有非球形表面。
- 图案形成方法
- [发明专利]图案形成方法-CN200580004597.6无效
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若田裕一;高岛正伸;石川弘美;下山裕司
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富士胶片株式会社
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2005-02-04
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2007-02-21
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H01L21/027
- 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以形成具有良好细度和高精确性以及具有因抑制在图案形成材料上所形成的图像变形而产生的充足效率的永久图案，比如布线图案。为了实现该目的，提供了包括如下的图案形成方法：调制从激光源辐发射的激光束，补偿调制的激光束，以及由调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在载体上以形成图案形成材料，所述调制是由包括多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过使调制的激光束经过多个微透镜传输进行的，每个微透镜都具有能够补偿因成像部分的输出表面变形所导致的像差的非球形表面，并且将所述多个微透镜排列成为微透镜阵列。
- 图案形成方法
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