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- [发明专利]质量分析装置和质量分析方法-CN201811337884.4有效
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佐久田昌博;的场吉毅
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日本株式会社日立高新技术科学
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2018-11-12
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2023-04-28
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G01N30/88
- 本发明提供一种质量分析装置和质量分析方法，其在不使装置大型化的情况下提高对包含夹杂物等第2物质的第1物质的检测精度，并且能够缩短测定时间。一种对试样进行分析的质量分析装置(110)，该试样包含由有机化合物构成的第1物质、和由有机化合物构成且质谱的峰与第1物质重叠的1种以上的第2物质，该质量分析装置具备峰校正部(217)，该峰校正部基于各第2物质的标准物质的质谱的峰中与第1物质的质谱的峰不重叠的峰A和与第1物质的峰重叠的峰B的非线性的强度的关系F，从试样中的第1物质的质谱的峰C的强度中减去由峰A的强度和关系F在每一规定时间间隔算出的峰B的推定强度的总和，算出第1物质的质谱的净值的峰D的强度。
- 质量分析装置方法
- [发明专利]质量分析装置和质量分析方法-CN201810781274.7有效
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佐久田昌博;大川真;的场吉毅
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日本株式会社日立高新技术科学
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2018-07-17
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2023-02-28
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G01N30/02
- 提供质量分析装置和质量分析方法，能够提高包含杂质等第二物质在内的第一物质的检测精度并且缩短测定时间而不会使装置大型化。质量分析装置(110)对含有第一物质和一种以上的第二物质的试样进行分析，所述第一物质由有机化合物构成，所述第二物质由有机化合物构成并且质谱的峰与第一物质的质谱的峰重叠，该质量分析装置(110)的特征在于，其具有峰校正部(217)，当设各第二物质的标准物质的质谱的峰中的、不与第一物质的质谱的峰重叠的峰A和与第一物质的峰重叠的峰B的强度比(峰B)/(峰A)为校正系数W时，该峰校正部(217)从试样中的第一物质的质谱的峰C的强度减去W×(峰A的强度)来计算第一物质的质谱的净峰D的强度。
- 质量分析装置方法
- [发明专利]荧光X射线分析装置-CN201410112835.6有效
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广瀬龙介;高桥春男;的场吉毅;田村浩一
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日本株式会社日立高新技术科学
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2014-03-25
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2019-02-12
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G01N23/223
- 本发明提供荧光X射线分析装置，其能够通过比较简单的结构和控制来抑制输出强度的变动。该荧光X射线分析装置（1）具有：X射线源（2），其对试样S照射原级X射线；聚光元件（3），其会聚从X射线源照射的原级X射线，减小对于试样的照射面积；检测器（4），其对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线进行检测；筐体（5），其收纳X射线源和聚光元件；温度传感器（6），其设置在X射线源和X射线源周围的至少一方；外气用扇（7），其在筐体上至少设置有一个，能够更换内部与外部的空气；以及控制部（C），其根据由温度传感器检测出的温度信息对外气用扇进行驱动，将X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。
- 荧光射线分析装置
- [发明专利]透射X射线分析装置-CN201310055104.8有效
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的场吉毅
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日本株式会社日立高新技术科学
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2013-02-21
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2017-04-12
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G01N23/04
- 本发明提供一种透射X射线分析装置，其在利用TDI传感器检测样品的透射X射线像时，能够容易且在宽范围内调整TDI传感器的累加级数。一种检测带状连续的样品（100）的透射X射线像的透射X射线分析装置1，其具备时间延迟积分方式的TDI传感器（14）；与TDI传感器相向配置的X射线源（12）；一对支承辊（31、32），其在TDI传感器和X射线源之间沿连结TDI传感器和X射线源的检测方向S离开TDI传感器而配置，并保持TDI传感器和样品之间的间隔为固定的同时，将样品输送到TDI传感器的检测位置；一对外侧辊（51、52），其沿输送方向L分别配置于支承辊更外侧并输送样品。沿检测方向，相邻的支承辊和外侧辊配置于不同的位置，在一对支承辊之间对样品施加张力。
- 透射射线分析装置
- [发明专利]荧光X射线分析装置-CN201410111443.8无效
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佐久田昌博;长谷川清;的场吉毅
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日本株式会社日立高新技术科学
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2014-03-24
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2014-10-01
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G01N23/223
- 本发明提供荧光X射线分析装置，其能够检测载置于落下防止板上的异物。该荧光X射线分析装置具有：试样台，其在X射线照射位置处具有孔部，能够在孔部上设置试样；X射线源，其从下方对试样照射原级X射线（X1）；检测器，其相对于孔部配置在下方，对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线（X2）进行检测；透明的落下防止板，其以能够进退的方式支承在孔部的正下方；驱动机构，其使落下防止板进退；观察用照相机，其设置在孔部的下方，能够对位于孔部的正下方时的落下防止板进行观察；以及运算部，其对由观察用照相机拍摄到的落下防止板的图像进行处理，运算部根据落下防止板移动或振动前后的图像的差分，检测落下防止板上的异物。
- 荧光射线分析装置
- [发明专利]透射X射线分析装置及方法-CN201210274472.7有效
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的场吉毅
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精工电子纳米科技有限公司
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2012-08-03
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2013-03-06
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G01N23/04
- 本发明提供一种透射X射线分析装置及方法，能够在使用TDI传感器检测试料的透射X射线像之际，容易且大范围地调节TDI传感器的累加级数。本透射X射线分析装置（1）检测对既定的扫描方向（L）上相对移动的试料（100）的透射X射线像进行检测，具备：时间延迟积分式的TDI传感器（14），以2维状具备多个读取将由来于透射X射线像的图像光电转换而生成的电荷的摄像元件，该TDI传感器在扫描方向上多级排列线性传感器（14a~14h），该线性传感器中摄像元件沿与扫描方向垂直的方向排列，将积累在一个线性传感器中的电荷转移到邻接的下一个线性传感器；遮蔽装置（21），配置于TDI传感器和试料之间，沿扫描方向前进后退而遮蔽入射到TDI传感器的图像的一部分；遮蔽装置位置控制装置（60），控制遮蔽装置的位置以遮蔽既定级数的线性传感器。
- 透射射线分析装置方法
- [发明专利]X射线分析装置及方法-CN201210274401.7有效
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的场吉毅;中谷林太郎;佐藤恒郎
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精工电子纳米科技有限公司
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2012-08-03
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2013-03-06
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G01N23/04
- 本发明提供一种能够使用荧光X射线正确且迅速地进行由透射X射线装置检测出的异物的位置的元素分析的X射线分析装置。该X射线分析装置（1）具备：透射X射线检查部（10），其具有第一X射线源（12）和检测从第一X射线源透射试料（100）的透射X射线（12x）的透射X射线检测器（14）；荧光X射线检查部（20），其具有第二X射线源（22）和检测当来自第二X射线源的X射线照射试料后该试料放出的X射线（22y）的荧光X射线检测器（24）；试料台（50），其保持试料；移动机构（30），其将试料台在第一X射线源的照射位置（12R）和第二X射线源的照射位置（22R）之间相对移动；异物位置运算装置（60），其运算透射X射线检测器在试料中检测出的异物（101）的位置；移动机构控制装置（61），其控制移动机构以使由异物位置运算装置运算的异物的位置和第二X射线源的光轴（22c）一致。
- 射线分析装置方法
- [发明专利]X线分析装置及X线分析方法-CN200910008070.0有效
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的场吉毅
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精工电子纳米科技有限公司
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2009-02-20
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2009-09-23
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G01N23/223
- 本发明提供使测定者能够判断具有凹凸的试料中不能分析的区域的X线分析装置及X线分析方法。具备：对试料(S)上的任意照射点(P)照射放射线的X射线管(11)；检测从试料(S)释放出的特性X线及散射X线并输出包含该特性X线及散射X线的能量信息的信号的X线检测器(12)；对试料(S)出射照明光进行照明的狭域照明机构(13A)及广域照明机构(13B)；以及取得照明光照明的试料(S)的照明图像作为图像数据的狭域观察机构(14A)及广域观察机构(14B)。该观察机构具有在与连接检测时的照射点(P)和X线检测器(12)的方向相同的方向上设定为使照明时的照明光的光轴朝向照射点(P)的狭域倾斜照明部(19)及广域倾斜照明部(21)。
- 分析装置方法
- [发明专利]X射线管和X射线分析设备-CN200810145530.X有效
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的场吉毅;一宫丰
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精工电子纳米科技有限公司
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2008-07-28
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2009-01-28
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H01J35/00
- 本发明公开能进一步减小尺寸与重量且能更有效检测荧光X射线等以增加灵敏度的X射线管和X射线分析设备。X射线管包含：具有处于真空状态的内部与由透射X射线的X射线透射膜构成的窗部件(1)的真空壳(2)；设于真空壳(2)中以发射电子束(e)的电子束源(3)；设于真空壳(2)中被电子束(e)照射以产生主X射线且能发射所产生的主X射线穿过窗部件(1)到外部样品(S)的目标件；设于真空壳(2)中、能检测从样品(S)发射而穿过所述窗部件入射的荧光X射线和散射X射线来输出含有该光X射线和散射X射线的能量信息的X射线检测件(4)；以及设于X射线检测件(4)与目标件(T)的电子束(e)照射区之间的金属防护构件(10)。
- 射线分析设备
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