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- [实用新型]一种晶圆切割切口检测装置-CN202320823740.X有效
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侯承明;施宁娣;薛伸伸;曹海洋
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2023-04-14
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2023-09-22
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H01L21/67
- 本实用新型公开了一种晶圆切割切口检测装置,涉及晶圆检测技术领域。该晶圆切割切口检测装置,包括底座,所述底座的顶部焊接安装有支架,底座的上方设置有暗箱,暗箱和支架的顶端固定连接,底座的顶部固定安装有电动推杆,底座的上方设置有U形座,电动推杆的自由端和U形座固定连接,U形座的上方设置有放置座,底座的上方设置有驱动组件,暗箱的内侧顶部固定安装有检测设备,检测设备位于放置座的正上方,暗箱的内部设置有辅助检测组件。该装置通过设置吸盘,能够使得晶圆稳定贴合放置座,提高放置的稳定性,通过电机和连接杆的配合使用,能够进行翻面,相对于现有技术来说,不用工作人员频繁操作,自动化程度较高,使用便捷。
- 一种切割切口检测装置
- [发明专利]一种晶圆烘干装置-CN202010446256.0有效
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田英干
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2020-05-25
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2023-09-05
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H01L21/67
- 本发明公开了一种晶圆烘干装置,包括箱体,箱体内设置有放置晶圆的支撑架,所述箱体内还设置有顶面风干机构和底面风干机构,顶面风干机构和底面风干机构分别位于支撑架的上下两侧,所述顶面风干机构包括若干风干单元,若干风干单元沿圆周均匀分布,所述风干单元包括转轴和喷头,所述转轴平行于支撑架表面,所述喷头与转轴转动连接,喷头连接有气管,喷头连接有驱动其转动的驱动机构,底面风干机构与顶面风干机构结构相同,本发明在烘箱内直接加热,结合向晶圆表面吹热气对晶圆实现快速的烘干,提高烘干效率。
- 一种烘干装置
- [实用新型]一种晶圆切割定位装置-CN202320683526.9有效
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侯承明;施宁娣;薛伸伸;曹海洋
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2023-03-31
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2023-07-21
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B23K26/38
- 本实用新型公开了一种晶圆切割定位装置,包括激光位移传感器与安装板,所述激光位移传感器与安装板之间设置有连接组件,所述连接组件的数量为两组,所述激光位移传感器通过连接组件与安装板可拆卸连接,所述连接组件包括连接头、固定块、插槽、卡槽、第一限位块、通孔、挤压柱、第一安装腔、第一压缩弹簧与第二限位块,所述连接头包括插块、连接块、耳板、滑孔、卡柱、第二压缩弹簧、第三限位块与第二安装腔,所述固定块的一侧外表面与安装板的一侧外表面固定连接。本实用新型所述的一种晶圆切割定位装置,具备使得激光位移传感器便于安装拆卸,方便检修,无需每次检修时将连接的螺栓拆卸,增加便捷性等优点。
- 一种切割定位装置
- [实用新型]一种用于晶圆减薄的高精研磨装置-CN202221434361.3有效
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韦胜;盛育;曹海洋;吴昊
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2022-06-08
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2022-11-15
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B24B37/00
- 本实用新型涉及晶圆技术领域,具体为一种用于晶圆减薄的高精研磨装置,包括加工台,所述加工台的顶端固定连接有放置块,所述放置块的顶端开设有放置槽。该用于晶圆减薄的高精研磨装置,通过设置有导向槽、液压推杆、电机、连接杆、限位板、匹配槽和导向柱,以实现该研磨装置具有更高精准度的目的,将晶圆放置在放置块顶端的放置槽内部,启动电机,带动旋转轴的旋转,从而带动打磨块的旋转,再启动液压推杆,带动打磨块的位置下降,下降至限位板底端的导向柱插入放置块顶端的导向槽的底端,则完成对晶圆减薄的打磨,并且可以根据打磨的薄度对导向槽的深度进行整改,提高该装置的适配性,并且有效提高晶圆减薄的精确度,同时提高晶圆的生产效率。
- 一种用于晶圆减薄研磨装置
- [实用新型]一种晶圆切割面用的背面抛光装置-CN202220643750.0有效
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韦胜;盛育;曹海洋;吴昊
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2022-03-22
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2022-11-15
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B24B29/02
- 本实用新型涉及晶圆技术领域,具体为一种晶圆切割面用的背面抛光装置,包括加工台,所述加工台的顶端固定连接有放置块。该晶圆切割面用的背面抛光装置,通过设置有放置块、第一电机、螺纹杆、连接块、液压推杆和抛光块,以实现该抛光装置具有批量抛光的目的,将晶圆分别放置在放置块顶端的放置槽内部,启动第一电机,带动第一旋转轴和第一锥形齿轮的转动,通过第一锥形齿轮和第二锥形齿轮的相互啮合,带动螺纹杆的旋转,继而通过螺纹杆与连接块的相互啮合,带动抛光块水平移动至放置槽顶端,启动液压推杆和第二电机,带动抛光块的位置下降和旋转,达到对晶圆背面的抛光,同时改善晶圆边缘的光滑度,并且实现对晶圆背面批量化抛光。
- 一种切割背面抛光装置
- [实用新型]一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备-CN202221112059.6有效
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韦胜;盛育;曹海洋;吴昊
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百克晶半导体科技(苏州)有限公司
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2022-05-10
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2022-08-23
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B08B3/02
- 本实用新型涉及晶圆技术领域,具体为一种晶圆清洗高效的湿法清洗设备,包括加工台,所述加工台的底端固定连接有支撑腿。该晶圆清洗高效的湿法清洗设备,通过设置有电机、旋转轴、放置块、放置槽、储液箱、水泵和喷头,以实现该清洗设备具有更高清洗效率的目的,将晶圆放置在放置块顶端的放置槽内部,启动水泵,将储液箱内部的清洗液通过导液管进入水泵内部,再通过排液管将清洗液从喷头处喷洒在晶圆表面进行清洗,启动电机,带动旋转轴的旋转,从而带动放置块和晶圆的旋转,继而通过晶圆转动提供去除残留的离心力,在离心离德作用下清洗液携带残留一起从晶圆的表面甩出,省时省力,并且在后续晶圆干燥之后,不会再晶圆表面留下液痕或颗粒。
- 一种清洗高效湿法设备
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