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[发明专利]一种焰流烧蚀实验背温微区成像涂料、制备及使用方法-CN202310243635.3在审
发明人：赵路;李茂源;崔光;卢林;王施达;曹淑波 -专利权人：北京机电工程总体设计部
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C09D163/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种焰流烧蚀实验背温微区成像涂料、制备及使用方法，包括：100质量份环氧树脂、10‑20质量份环氧树脂偶联剂、5‑40质量份稀土感温粉末；将温度成像涂料各组分混合后搅拌均匀；经涂覆、烘干和固化工序形成背温微区成像涂料。温度成像方法为使用980nm面光源照射，并监测涂覆面发光，根据铒离子2H11/2和4S3/2两个能级向基态4I15/2跃迁发光(典型发光峰分别为521nm和539nm)的荧光强度比来表征温度，温度分辨率可达毫米级别。本发明适用于焰流烧蚀考核、石英灯高温辐射考核等高温考核方式，可满足对样品背面进行微区温度成像的要求。
一种焰流烧蚀实验背温微区成像涂料制备使用方法

[发明专利]一种离子注入缺陷诱导的室温铁磁性ZnO单晶薄膜制备方法-CN201610436375.1有效
发明人：英敏菊;王施达;段涛;张旭;廖斌;吴先映 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2016-06-20 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C30B31/22 文献下载
摘要：本发明公开一种离子注入缺陷诱导的室温铁磁性ZnO单晶薄膜的制备方法。利用分子动力学程序模拟不同能量的离子注入到ZnO后的能量损失和分布，设计多次叠加注入条件，在分子束外延技术或者金属有机物化学气相沉积技术制备的ZnO单晶薄膜中注入不同能量、不同剂量的非磁性元素，使得叠加后总离子分布与损伤截面在一定薄膜厚度范围内近似均匀分布。通过控制注入离子能量和剂量调控氧化锌单晶薄膜中掺杂离子和缺陷态的分布与数量，获得了缺陷诱导的具有室温铁磁性的ZnO单晶薄膜。离子注入能精确控制注入剂量以及注入离子和缺陷的分布，实验的重复性和稳定性好。本方法获得的ZnO薄膜具有稳定的室温铁磁性，并保持较好的单晶特性，可应用于量子自旋器件中。
一种离子注入缺陷诱导室温铁磁性 zno 薄膜制备方法