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[实用新型]一种用于定向的运动密封结构-CN202022305300.4有效
发明人：杜佳伟;王于岳;朱高伟 -专利权人：北京烁科中科信电子装备有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： F16J15/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于定向的运动密封结构，在旋转运动和升降运动的过程中保证真空度不受影响，包括波纹管、磁流体装置、盖板、润滑轴承、轴承座和安装法兰等零部件，其中盖板安装在定向装置的安装法兰上，轴承嵌入轴承座固定于盖板的上方，盖板下方与波纹管的上法兰连接，磁流体装置从波纹管的内部空心穿过，其外壳法兰与波纹管的下法兰连接，通过O型密封圈保证连接处的密封，通过波纹管实现升降运动的密封，通过磁流体装置实现旋转运动的密封；本实用新型结构紧凑，节省安装空间，在优化密封性能的同时提高了使用寿命。
一种用于定向运动密封结构

[发明专利]一种用于离子注入机大气端和真空端交互的二维开关门装置-CN202011106153.6在审
发明人：朱高伟;王于岳;杜佳伟 -专利权人：北京烁科中科信电子装备有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01J37/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于离子注入机大气端和真空端交互的二维开关门装置，包括片库腔室、片库门组件和二维气缸组件，片库腔室与机台高真空靶室连接，二维气缸组件安置于片库腔室上，片库门组件安置于二维气缸组件上，相对于现有技术，本发明的益处在于只需通过第一方向气缸和第二方向气缸的直接配合即可实现片库门的升降和开合，无需他机构，结构简单且集成度高，而且第一方向气缸和第二方向气缸在同一动力气路控制下可以按顺序实现两个方向的伸出或缩回动作，精简了动力气路，提高了片库开关门的效率和成功率。
一种用于离子注入大气真空交互二维开关装置

[发明专利]一种高精度高效率的硅片定向装置-CN201910980586.5在审
发明人：杜佳伟;王于岳;朱高伟 -专利权人：北京烁科中科信电子装备有限公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精度高效率的硅片定向装置，上部处于真空腔体，下部处于大气环境，主要包括安装框架、光源收发组件、运动密封组件、旋转运动组件和升降驱动组件，光源收发组件用于监测光感强度，运动密封组件固定在安装法兰上，保证真空环境，旋转运动组件由旋转电机经减速器减速后提供旋转动力，根据光感变化确定硅片的缺口，升降驱动组件由升降电机提供动力，带动整个旋转运动组件延直线导轨上升和下降，完成硅片的取放；本发明结构紧凑，升降高度可调，采用减速器配合旋转电机，与其他传动方式相比大大提高了定向精度，升降电机通过多头螺杆，带动旋转运动组件整体快速升降，减少取放硅片的时间，提升传片效率。
一种高精度高效率硅片定向装置

[发明专利]滚动轴承振动检测装置及分析方法-CN201410519880.3有效
发明人：刘文涛;张云;冯之敬;王于岳 -专利权人：清华大学
申请日： 2014-09-30 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： G01M7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种滚动轴承振动检测装置，其包括一轴承振动测量单元、一心轴回转误差测量单元以及一底座，所述轴承振动测量单元和所述心轴回转误差测量单元分别固定安装在所述底座，并位于待测滚动轴承心轴的两侧。所述轴承振动测量单元包括接触式振动传感器和三维微位移平台，所述接触式振动传感器固定在所述三维微位移平台，该三维微位移平台固定在所述底座，所述接触式振动传感器可以沿待测滚动轴承的径向、轴向和竖直方向平移运动。所述心轴回转误差测量单元包括位移传感器和二维微位移平台，该位移传感器固定在所述二维微位移平台，该二维微位移平台固定在所述底座，所述位移传感器可以沿待测滚动轴承的径向和竖直方向平移运动。另外，本发明还涉及一种滚动轴承振动分析方法。
滚动轴承振动检测装置分析方法

[发明专利]圆弧形外锁口兜孔结构的滚动轴承保持架-CN201510657929.6在审
发明人：刘文涛;张云;冯之敬;王于岳 -专利权人：清华大学
申请日： 2015-10-13 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： F16C33/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种圆弧形外锁口兜孔结构的滚动轴承保持架，在垂直于该保持架轴线的截面内，兜孔侧壁由两部分组成，其中靠近外端口的部分为向兜孔外凹陷的弧形，靠近内端口的部分为直线形，并且兜孔外端口的直径小于滚珠直径，内端口的直径大于滚珠直径。根据本发明提供的滚动轴承保持架结构，将兜孔侧壁的截面形状设置为弧形和直线形两部分，有利于降低滚动轴承的振动。
圆弧形外锁口兜孔结构滚动轴承保持

[发明专利]一种用于数控小工具抛光的螺旋线加工路径-CN201210363814.2有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-09-26 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种用于数控小工具抛光的螺旋线加工路径，属于光学加工技术领域。为了解决现有螺旋线抛光路径容易导致中频误差较大的问题，通过引入权值因子构造了一种生成过程中不再保持恒定的角度增量和半径增量的新的离散螺旋线加工路径，该螺旋线加工路径在以θ为极角，r为半径坐标值的极坐标系θ-r下，由n个离散点构成，并且由中心向外依次生成，到中心的距离也依次变大，有利于减小工件面形的同心圆状的波纹误差和辐射状波纹误差这两种中频误差，进一步提高光学工件精度。
一种用于数控工具抛光螺旋线加工路径

[发明专利]非球面光学元件在传统加工阶段的目标形状优化方法-CN201210365143.3有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-09-26 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：非球面光学元件在传统加工阶段的目标形状优化方法，属于光学加工技术领域。本发明以非球面光学元件的光轴为x轴，以光轴与非球面交点为原点建立笛卡尔直角坐标系，以非球面光学元件的对称平面与非球面相交所得的曲线上各点的曲率圆的圆心和半径为接近球面的初始值，非球面光学元件上各点进行逐点搜索，随时调整接近球迷的球心位置和半径值，以确保接近球面满足正去除量条件。由于没有将接近球面的球心限制在回转轴上，从而可以得到比传统方法更优的接近球面，从而避免了去除过多材料所带来的制造成本上升的问题。此外，还能以最大法向偏差量取最小值为目标对接近球面进行优化，从而得到有利于消减加工痕迹和中频面形误差的接近球面。
球面光学元件传统加工阶段目标形状优化方法

[实用新型]一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置-CN201120570338.2有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;刘向;刘文涛 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-12-30 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置，包括外壳、公转底座、轴承座、自转轴、抛光轮、循环系统和其他必要的辅助装置，其特征在于：循环系统中包括第一注液通道、第二注液通道、第一抽液通道、第二抽液通道、注液环形凹槽、抽液环形凹槽和密封圈。储液罐中的磁流变抛光液通过外壳上的第一注液通道进入注液环形凹槽和第二注液通道，被注液嘴加注到抛光轮上。被收集器回收的磁流变抛光液通过第一抽液通道和抽液环形凹槽进入外壳上的第二抽液通道并最终返回储液罐。本实用新型能够解决现有公自转磁流变抛光技术中磁流变抛光液在循环过程中易沉积和运行不流畅的现象，以及无法通过泵的运转实现自动清洗管路的问题。
一种自转流变抛光实现回转回收装置

[发明专利]公自转磁流变抛光去除廓形的优化调节方法-CN201210043839.4有效
发明人：张云;祝徐兴;王于岳;冯之敬;刘文涛;刘向 -专利权人：清华大学
申请日： 2012-02-23 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： B24B55/00 文献下载
摘要：公自转磁流变抛光去除廓形的优化调节方法，属于光学曲面精密加工技术领域。为优化现有公自转磁流变抛光技术中的公转去除廓形，使之满足从边缘处至回转中心处去除量单调增大的条件，本发明在现有装置基座板上，加装包含滑板、丝杠、丝杠支承座等的调节装置，通过驱动丝杠转动带动滑板相对基座板沿x轴直线移动，安装于滑板上的抛光轮也同步地相对基座板沿x轴直线移动，从而定量可控地调节抛光轮自转轴线相对于抛光轮公转轴线的偏心量e，使得调节后自转去除廓形的去除量最大处与公转轴线的距离e’在±1.5mm以内，经过优化调节后的公转去除廓形更有利于修正工件面形误差。
自转流变抛光去除优化调节方法

[发明专利]一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置-CN201110456996.3有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;刘向;刘文涛 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-12-30 - 公布日： 2012-06-20 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置，包括外壳、公转底座、轴承座、自转轴、抛光轮、循环系统和其他必要的辅助装置，其特征在于：循环系统中包括第一注液通道、第二注液通道、第一抽液通道、第二抽液通道、注液环形凹槽、抽液环形凹槽和密封圈。储液罐中的磁流变抛光液通过外壳上的第一注液通道进入注液环形凹槽和第二注液通道，被注液嘴加注到抛光轮上。被收集器回收的磁流变抛光液通过第一抽液通道和抽液环形凹槽进入外壳上的第二抽液通道并最终返回储液罐。该装置能够解决现有公自转磁流变抛光技术中磁流变抛光液在循环过程中易沉积和运行不流畅的现象，以及无法通过泵的运转实现自动清洗管路的问题。
一种自转流变抛光实现回转回收装置

[实用新型]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201120153455.9无效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本实用新型所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

[发明专利]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201110124410.3有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

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