专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种电磁屏蔽封装结构-CN202321286660.1有效
  • 胡小波;张晓军;陈志强;方安安;姜鹭 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-05-25 - 2023-10-27 - H01L23/552
  • 本实用新型提供了一种电磁屏蔽封装结构,重布线层,重布线层上设置至少一个晶片;重布线层,重布线层上设置至少一个晶片;电磁屏蔽层,重布线层与电磁屏蔽层形成腔体;两个以上导电柱,每个导电柱的底部与重布线层相连接,顶部与电磁屏蔽层相连接,每个导电柱置于腔体内;每个晶片设置于至少两个导电柱之间。本实用新型在晶片两侧设计和重布线层相连的导电柱,导电柱底部与重布线层相连接,导电柱顶部与电磁屏蔽层相连接,形成一个完整的法拉第笼,赋予该先进封装单元电磁屏蔽效果,用于扇出型封装技术中,可使线路扇出超出晶片覆盖的区域在电磁屏蔽范围内,避免这个区域受到电磁干扰。
  • 一种电磁屏蔽封装结构
  • [发明专利]一种晶圆重构方法-CN202310139412.2在审
  • 胡小波;张晓军;杨登亮;朱文献 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-02-10 - 2023-09-01 - H01L21/603
  • 本发明属于半导体封装技术领域,提供了一种晶圆重构方法,先将为半导体器件层、第一晶圆、蓝膜从上到下依次设置制得第一结构;第二晶圆粘接粘接体A制得第二结构;第三晶圆粘接粘接体B制得第三结构;粘接体B与晶片之间的附着力粘接体A与晶片之间的附着力晶片与蓝膜之间的附着力;第二结构与第一结构重合,施加压力后分离,晶片被转移至第二结构的粘接体A上,再将第二结构与第三结构重合,施加压力后分离,晶片被转移至第三结构的粘接体B上,完成晶圆重构,对位偏差小,偏移X轴<1μm,偏移Y轴<1μm。
  • 一种晶圆重构方法
  • [实用新型]片材用支撑装置以及等离子体设备-CN202320570108.9有效
  • 朱新华;张晓军;罗敏;邵寿潜 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-03-21 - 2023-08-15 - C23C14/50
  • 本实用新型公开一种片材用支撑装置以及等离子体设备。该片材用支撑装置包括:基台,在载置面上载置呈矩形状的片材;多个支撑件,分别沿垂直于所述载置面的方向穿过所述基台并可突出于所述载置面,并且可分别从所述片材的底部的四周边缘、以与面板的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑所述片材;定位组件,安装到所述基台,从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位;所述基台和多个所述支撑件当中,至少其中一者可沿垂直于所述载置面的方向被驱动,以使所述支撑件突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。本实用新型的片材用支撑装置能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。
  • 片材用支撑装置以及等离子体设备
  • [实用新型]载片装置以及等离子体设备-CN202320270495.4有效
  • 张晓军;冯琳;夏慧;杨登亮;朱文献 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-02-14 - 2023-08-15 - C23C14/50
  • 本实用新型公开了载片装置以及等离子体设备。该载片装置,用于载置片材,包括:基台,在载置面上载置所述片材;多个定位件,分别沿垂直于所述载置面的方向可伸缩地安装到所述基台,从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位;压边件,与所述载置面相对,与所述基台之间可靠近或者远离,在靠近所述基台时,压住所述片材的四周边缘,并且压住多个所述定位件以使所述定位件缩回。本实用新型的载片装置,能够用在等离子体设备中载置片材,并能够减少鞘层区域、提高对片材进行工艺的均匀性。
  • 装置以及等离子体设备
  • [发明专利]封装结构及晶片封装方法-CN202310391673.3在审
  • 胡小波;张晓军;姜鹭;陈志强;方安安 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-07-07 - H01L23/367
  • 本发明提供了一种封装结构及晶片封装方法,封装结构包括承载部件、晶片、散热胶材层和封装胶材层,晶片连接于承载部件,散热胶材层连接于晶片,封装胶材层连接于承载部件,封装胶材层和散热胶材层共同包裹晶片,散热胶材层的一部分从封装胶材层露出,散热胶材层的导热系数大于封装胶材层的导热系数。晶片封装方法包括以下步骤:将晶片安装在支撑结构上;设置散热胶材层,使散热胶材层与晶片相互连接;在支撑结构上设置封装胶材层,使得:封装胶材层和散热胶材层共同包裹晶片,散热胶材层的一部分从封装胶材层露出。本发明提供的封装结构,能够提高晶片的散热效果,从而提高封装结构的性能和使用寿命。
  • 封装结构晶片方法
  • [发明专利]温控系统、真空镀膜设备以及串级控制方法-CN202310368794.6在审
  • 江元元;夏慧;张晓军;李炳坤;龚文志;孙守祥;姚酉 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-04-03 - 2023-07-04 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种温控系统、真空镀膜设备以及串级控制方法。温控系统包括升温组件、制冷组件、第一PID控制器和第二PID控制器。第一PID控制器包括第一接收端、第二接收端、第一输出端和第二输出端,第一接收端和第二接收端分别用于接收目标温度信号和实际温度信号,第一输出端与升温组件电连接。第二PID控制器包括第三接收端、第四接收端和第三输出端,第三接收端与第二输出端连接,第四接收端用于接收制冷组件的冷却液的温度信号,第三输出端与制冷组件电连接。通过将第一PID控制器和第二PID控制器进行串联,并通过第一PID控制器和第二PID控制器分别对升温组件和制冷组件进行控制,能够使得升温组件和制冷组件的工作是联动的,从而提高温度切换的效率。
  • 温控系统真空镀膜设备以及控制方法
  • [实用新型]镜片保护装置以及激光沉积镀膜设备-CN202223524924.0有效
  • 张晓军;李炳坤;夏慧 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2022-12-22 - 2023-07-04 - C23C14/28
  • 本实用新型公开了镜片保护装置以及激光沉积镀膜设备。该镜片保护装置设置在激光沉积镀膜设备的激光入射窗口内并将安装在激光入射窗口的远端的镜片和激光沉积镀膜设备的镀膜室隔开,包括:透光件,可回转地容置在视窗法兰内;支撑件,沿透光件的周向的边缘支撑透光件,并可随着透光件的回转而沿视窗法兰的周向转动;吸附件,与透光件的周向边缘连接,设置在透光件的与镜片相对的一侧,可隔着镜片被磁性件吸附或者可隔着镜片吸附磁性件;遮挡件,设置在透光件的与镀膜室相对的一侧,遮挡透光件的一部分并使透光件的回转中心之外的一部分相对于镀膜室露出。该镜片保护装置不仅能够抑制激光入射窗口的镜片被污染,而且结构简单。
  • 镜片保护装置以及激光沉积镀膜设备
  • [发明专利]晶片转移方法-CN202310354026.5在审
  • 胡小波;张晓军 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-03-21 - 2023-06-23 - H01L21/56
  • 本发明提供了一种晶片转移方法,晶片转移方法包括以下步骤:使吸附装置吸附晶片;使吸附装置将所吸附的晶片压在载板上,从而使被吸附的晶片与载板的粘接层粘接;在保持吸附装置对晶片的吸附并且保持吸附装置对晶片的压紧的情况下,使粘接层接触晶片的部分固化;在粘接层接触晶片的部分固化后,使吸附装置与晶片分离。本发明的晶片转移方法,选择在粘接层用于接触晶片的部分固化后才使吸附装置与晶片分离,因此,吸附装置与晶片之间的残余吸附力不易带动晶片偏移;该方法能够降低晶片偏移的风险,提高转移至载板的晶片的位置准确性。
  • 晶片转移方法
  • [发明专利]一种提高溅射镀膜稳定性的方法-CN202310280854.9在审
  • 胡小波;张晓军;姜鹭;陈志强;方安安 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-03-13 - 2023-06-23 - C23C14/35
  • 本发明属于半导体技术领域,提供了一种提高溅射镀膜稳定性的方法,本发明在溅射镀膜的过程中,通过靶材初始厚度、靶材利用率、靶材实际使用寿命、靶材极限使用寿命计算出靶材和基片的间距变化量,当靶材和基片的间距变化量达到指定的d时,将基片向上移动d,使得靶材和基片之间的间距恢复至h,然后重复该调节的步骤,最终制得薄膜;本发明的方法保证了在溅射镀膜的量产过程中,保持靶材和基片的间距不变,还通过靶材实际使用寿命来计算d,精准地控制调节靶材和基片的间距的时机,提高溅射镀膜稳定性,所制得薄膜膜质特性一致,尤其适用于对薄膜要求严苛的半导体领域,可提升半导体产品的器件特性。
  • 一种提高溅射镀膜稳定性方法
  • [发明专利]晶片转移方法-CN202310303496.9在审
  • 胡小波;张晓军 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-03-16 - 2023-06-23 - H01L21/683
  • 本发明提供了一种晶片转移方法,该晶片转移方法可应用于扇出型面板级封装,该方法包括:将带有粘接层的方形承载基板压在粘接于蓝膜且呈圆形分布的晶片上,使承载基板与晶片粘接;抬起承载基板从而使承载基板覆盖区域内的晶片与蓝膜分离;将承载基板压在设计有粘接层图形的大尺寸目的基板上,目的基板上粘接层图形的间距是晶片间距的n倍,使晶片与目的基板粘接;抬起承载基板,1/n2承载基板数量的晶片转移至目的基板上。承载基板与晶片之间的黏附力大于蓝膜与晶片之间的黏附力,并且小于目的基板与晶片之间的黏附力。该方法通过两次转移将多片晶片同时从蓝膜转移至目的方形基板上,使用该方法能够提高晶圆重构的效率和降低晶圆重构的成本。
  • 晶片转移方法
  • [发明专利]片材用支撑装置以及等离子体设备-CN202310310174.7在审
  • 朱新华;张晓军;罗敏;邵寿潜 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-03-21 - 2023-06-23 - C23C14/50
  • 本发明公开一种片材用支撑装置以及等离子体设备。该片材用支撑装置包括:基台,在载置面上载置呈矩形状的片材;多个支撑件,分别沿垂直于所述载置面的方向穿过所述基台并可突出于所述载置面,并且可分别从所述片材的底部的四周边缘、以与面板的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑所述片材;定位组件,安装到所述基台,从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位;所述基台和多个所述支撑件当中,至少其中一者可沿垂直于所述载置面的方向被驱动,以使所述支撑件突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。本发明的片材用支撑装置能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。
  • 片材用支撑装置以及等离子体设备
  • [实用新型]扫描式靶座装置以及脉冲激光沉积设备-CN202320178454.2有效
  • 龚文志;张晓军;夏慧;罗敏;宋魏 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-06-20 - C23C14/28
  • 本实用新型公开了扫描式靶座装置以及脉冲激光沉积设备。其中,该扫描式靶座装置包括:第一传动单元,具有第一主体和呈空心状的安装筒,第一主体安装到镀膜室的外侧,安装筒相对第一主体可回转;第二传动单元,安装到安装筒,第二传动单元具有第二主体以及安装轴,安装轴相对第二主体可回转,安装轴设置有输入部以及输出部,输入部处在安装筒的外侧,输出部处在安装筒的内侧;支架,用于支撑靶材,安装到输出部,并设置在镀膜室内;第一驱动部,驱动第二传动单元回转,以使支架公转;第二驱动部,与输入部连接,并驱动安装轴回转,以使安装在安装轴的输出部的支架自转。本实用新型的扫描式靶座装置能够提高设备的稳定性。
  • 扫描式靶座装置以及脉冲激光沉积设备
  • [实用新型]一种可监控薄膜晶粒生长的磁控溅射装置-CN202320023923.3有效
  • 张晓军;朱新华;胡小波 - 深圳市矩阵多元科技有限公司
  • 2023-01-03 - 2023-06-09 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种可监控薄膜晶粒生长的磁控溅射装置,包括:壳体,具有内腔;基板组件,设于内腔且与壳体顶部连接;第一磁控溅射组件和第二磁控溅射组件,设于内腔且与壳体底部连接,平行于基板组件设置,且第一磁控溅射组件和第二磁控溅射组件位于同一水平线上,第一磁控溅射组件和第二磁控溅射组件的磁力大小相同,磁极相反;监控组件,设于内腔且与壳体侧壁连接,位于第一磁控溅射组件/第二磁控溅射组件和基板组件之间,且位于第一磁控溅射组件和第二磁控溅射组件的中心且垂直于基板组件的平面上。本实用新型实施例的可监控薄膜晶粒生长的磁控溅射装置,能够在磁控溅射过程中监控薄膜晶粒生长状态,且不会改变电子轨迹,分析效率高。
  • 一种监控薄膜晶粒生长磁控溅射装置

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