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- [发明专利]一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机-CN202211516147.7在审
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周朝阳
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深圳光迪科技有限公司
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2022-11-30
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2023-03-14
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机，方法包括：控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态；以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光；根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速度以获取满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度；根据曝光头光功率、曝光静态扫描速度，计算动态曝光下曝光头光功率对应的曝光持续时间以及曝光静态扫描速度，以及计算曝光头动态曝光下曝光静态扫描速度对应的曝光持续时间以及曝光头光功率。本方案通过获取静态全投射状态下满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度，可以在感光膜曝光能量或曝光机激光器功率存在偏差的情况下使曝光头光功率、曝光持续时间、最大扫描速度得到快速准确整定。
- 一种曝光参数快速方法系统数字
- [发明专利]一种卷对卷双面直写曝光装置-CN202211529652.5在审
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周朝阳
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深圳光迪科技有限公司
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2022-11-30
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2023-03-07
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G03F7/20
- 本发明公开了一种卷对卷双面直写曝光装置，包括：机架；用于输送基材的传输机构，传输机构包括送料辊、第一定位辊、第二定位辊、收料辊，第一定位辊与第二定位辊在垂直方向相对设置；垂直度检测装置，用于采集第一定位辊与第二定位辊之间基材的垂直度；定位辊调节装置，用于调节第一定位辊和/或第二定位辊的水平位置；两个曝光模组；控制器。本方案通过将传输机构的两个定位辊沿垂直方向布置，并配合垂直度检测装置的检测和定位辊调节装置的校正，从而使第一定位辊与第二定位辊之间的基材保持垂直状态，既保留了双面同时曝光具有的图形正反两面套合精度高、生产效率高的优点，又可以消除重力导致到的基材弯曲形变。
- 一种双面曝光装置
- [发明专利]一种开关式光源时分复用的直写曝光系统-CN202111367073.0在审
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梁辉;周朝阳
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深圳光迪科技有限公司
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2021-11-17
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2022-03-04
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G03F7/20
- 本发明公开了一种开关式光源时分复用的直写曝光系统，包括依次设置的：光源；开关式时分复用模块，用于根据第二时序指令控制第一光线交替切换输出N路第二光线；N个照明模块，与N路所述输出光纤一一对应；N对数字微镜阵列和投影模块，用于按照曝光指令将所述第二光线转换成投影光；控制模块，分别与所述光源、开关式时分复用模块、数字微镜阵列电性连接，以用于输出所述第一时序指令、第二时序指令、曝光指令。本方案通过开关式时分复用模块可以把单一光路的切换成N路输出，结合控制模块对光源和数字微镜阵列的时序控制，进而实现单个光源对两路DMD，甚至多路DMD的分时复用，在同样的产能要求下，可以使用更少的光源，大大降低设备成本。
- 一种开关光源时分曝光系统
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