专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种芯片模块及其制作方法-CN202210404956.2在审
  • 冯雪;白向兴;陈颖;罗锐;汪照贤;刘东亮 - 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
  • 2022-04-18 - 2023-10-27 - H01L21/48
  • 本申请涉及一种芯片模块及其制作方法,制作方法包括:提供一芯片,芯片的背面具有粘接剂;将芯片放置在一基座的凹腔中,并使芯片的背面朝向凹腔的底部,其中,凹腔的表面为曲面;在凹腔的开口侧设置柔性薄膜以密封凹腔;对密封后的凹腔进行流体加压,使柔性薄膜和芯片变形至与凹腔的表面共形;加热固化粘接剂,使变形后的芯片与凹腔的表面粘接而定形,得到芯片模块。本申请采用柔性薄膜和流体加压的方式,构建了非刚性约束的流体压力场来控制芯片变形,最后固化粘接剂使芯片定形,实现了对芯片的曲面加工,操作简单、易控、良率高。
  • 一种芯片模块及其制作方法
  • [发明专利]VDMOS器件及VDMOS器件的制作方法-CN202111580138.X在审
  • 冯雪;汪照贤;陈颖 - 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
  • 2021-12-22 - 2023-06-27 - H01L29/06
  • 本申请涉及一种VDMOS器件,包括衬底层,设有第一导电柱;设置在衬底层上的外延层,衬底层的掺杂浓度大于外延层的掺杂浓度;设置在外延层上的栅极;设置在外延层的源极;外延层在靠近衬底层的一侧形成有掺杂区和绝缘区,绝缘区与第一导电柱位置相对应,掺杂区的掺杂类型与外延层的掺杂类型相同,掺杂区的掺杂浓度大于外延层的掺杂浓度。本申请通过在外延层中设置较高掺杂浓度的掺杂区,可以降低VDMOS器件正向导通时的外延电阻,同时还在衬底层和外延层之间形成MIS结构,使VDMOS器件维持较高的反向击穿电压,能有效提高VDMOS器件的工作性能。
  • vdmos器件制作方法
  • [实用新型]封装结构及堆叠结构-CN202122855644.7有效
  • 冯雪;汪照贤;陈颖 - 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
  • 2021-11-19 - 2022-05-03 - H01L25/065
  • 本申请涉及一种封装结构,包括柔性基板和芯片;柔性基板的至少一侧表面设有凹槽,芯片设置在凹槽中,柔性基板设有多个连通柔性基板的至少两侧表面的第一通孔,第一通孔通过金属化形成导电通道,以导通位于封装结构表面不同位置的电连接部,电连接部中的至少一部分与芯片电连接。本申请还涉及一种堆叠结构,包括多个上述的封装结构,封装结构之间沿封装结构的厚度方向和/或封装结构的平面方向堆叠,封装结构之间通过电连接部电连接。本申请在芯片堆叠加工时通过在柔性基板设置通孔形成导电通道,避免了直接在芯片上开槽,提高芯片堆叠工艺的良率,同时本申请能实现多个方向的芯片堆叠,集成化程度高。
  • 封装结构堆叠
  • [实用新型]芯片减薄装置-CN202122141406.X有效
  • 冯雪;汪照贤;陈颖 - 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
  • 2021-09-06 - 2022-02-01 - B24B37/10
  • 本实用新型公开了一种芯片减薄装置,包括传送装置和研磨装置,传送装置上设有用于固定芯片的固定件,研磨装置设于固定件远离传送装置的一侧并用于对芯片进行打磨,研磨装置包括研磨轮,研磨轮的表面与固定件的表面在垂直于传送方向的方向上具有间距,研磨轮包括粗研磨轮、细研磨轮以及抛光研磨轮,粗研磨轮、细研磨轮以及抛光研磨轮的目数依次增大,粗研磨轮、细研磨轮以及抛光研磨轮朝向传送方向依次排列。在传送装置的移动过程中,可同步进行粗磨、细磨以及抛光工艺,提升效率,最终获得厚度精确的超薄芯片;而且设置固定件用于固定芯片,研磨装置对芯片进行研磨,从而避免了大尺寸晶圆减薄时容易出现裂片和崩边等良率问题。
  • 芯片装置

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