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[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201810161160.2有效
发明人：仓崎浩二;枝光建治;佐藤昌治;武知圭;松村刚至 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种用于高精度地测定在基板的处理中使用的处理液的压力的基板处理装置及基板处理方法。一种基板处理装置具有：第一槽(14)，贮存用于处理基板(12)的处理液(30)；第一路径(20)，使从第一槽的上部溢出的处理液回流到第一槽的下部。此外，设置有：第二路径(22)，从第一路径分支；测定槽(24)，贮存从第二路径流入的处理液；压力测定部(26)，在从测定槽的上部溢出处理液的状态下，测定在测定槽内的规定深度处的处理液的压力。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202080089352.2在审
发明人：高桥朋宏;岸田拓也;折坂昌幸;武知圭 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明具备处理液喷出部和气泡供给部，处理液喷出部设于基板保持部所保持的基板的下方侧，从处理液喷出口朝向贮存空间的内底面喷出处理液，气泡供给部设于基板保持部所保持的基板的下方侧而且设于处理液喷出口的上方侧，将气泡供给至贮存空间所贮存的处理液，在铅垂方向上的气泡供给部与处理液喷出口之间，将经过贮存空间的内底面而流向上方的处理液的至少一部分作为分流对象液，将分流对象液的流动分流为多个上升流并将其引导至基板保持部所保持的基板。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置-CN202080090229.2在审
发明人：高桥朋宏;武知圭 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置具备：处理液排出部，其设置于由基板保持部保持的基板的下方侧，向贮存空间排出处理液，在贮存空间内形成处理液的流动；以及气泡供给部，其具有在贮存空间内配置于由基板保持部保持的基板的下方侧的配管、和在处理液的流动方向从配管突出设置的中空状的突出设置部位，且将经由配管送往突出设置部位的气体从设置于突出设置部位前端的气泡排出口排出，向贮存于贮存空间的处理液内供给气泡。
处理装置

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111269786.3在审
发明人：高桥朋宏;武知圭 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(100)具备处理槽(2)、衬底保持部(130)、气泡供给部件(4)、处理液补充部件(5)、及控制部(111)。处理槽(2)贮存处理液(LQ)。衬底保持部(130)在处理槽(2)内保持衬底(W)，并使衬底(W)浸渍在处理槽(2)中所贮存的处理液(LQ)中。气泡供给部件(4)对浸渍在处理液(LQ)中的衬底(W)的表面供给气泡。处理液补充部件(5)向处理槽(2)中补充处理液(LQ)。控制部(111)相应于从气泡供给部件(4)供给的气泡的量阶段性地或逐步地减少，而从处理液补充部件(5)补充处理液(LQ)。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理装置-CN202111172547.6在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;佐佐木光敏;秋山刚志 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-10-08 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的课题是，在将衬底(W)浸渍于处理槽(821)中贮存的处理液内，并且在处理液内向所述衬底(W)供给气泡而对其进行处理的衬底处理系统(1)中，缩小气泡(V)的尺寸，提高衬底的处理品质。本发明是一种衬底处理装置，包含：处理液喷出部(830)，形成处理液的液流(L)，该液流(L)从保持于衬底保持部(810)的衬底(W)的下方沿着衬底(W)流向上方；及气泡供给部(840)，配置在处理液喷出部(830)与衬底保持部(810)之间，向处理槽(821)中贮存的处理液内供给气泡(V)；且气泡供给部(840)具有：气体供给管(842)，向内部供给气体；及气泡喷出口(845)，设置于气体供给管(842)，向衬底的排列方向喷出气泡(V)。
衬底处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201810161422.5有效
发明人：仓崎浩二;枝光建治;佐藤昌治;武知圭;松村刚至;内田博章;山本滋;高桥朋宏;岩谷浩伸;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202080014920.2在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;秋山刚志;佐佐木光敏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(100)将基板(W)浸渍于作为贮存于内槽(112)的处理液(L)的贮存处理液(L1)进行基板(W)的处理。基板处理装置(100)具备气泡供给部(130)和循环部(160)。气泡供给部(130)向贮存处理液(L1)供给气泡(KA)。循环部(160)对气泡供给部(130)生成贮存处理液(L1)的第一液流(R1)。
处理装置方法

[发明专利]处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统-CN202110300578.9在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;内田博章;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能使用来处理衬底的处理液的浓度快速达到目标值的处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统。处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2)，对贮存在第1贮存槽(210)的处理液(LQ)供给促进水分从加热后的处理液(LQ)中蒸发的气体(GA)；及步骤(S3)，从第1贮存槽(210)中排出水蒸气及气体(GA)。处理液(LQ)是含有磷酸的液体。
处理调温方法衬底装置系统

[发明专利]基板处理装置-CN201980072017.9在审
发明人： 武知圭;高桥朋宏;佐佐木光敏;秋山刚志 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明抑制基板的旋转。在配置于基板处理装置的内槽(501)的处理位置处的升降机(13)的保持棒(132)上设有保持槽(1321)，相对于由该保持槽从下方保持的基板(W)设有从上方进行保持的保持部(52a)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201910770657.9在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;佐佐木光敏;秋山刚志 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-08-20 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)包括处理槽(110)、基板保持部(120)、流体供给部(130)及控制部(140)。处理槽(110)蓄存用于处理基板的处理液。基板保持部(120)在处理槽(110)的处理液内保持基板。流体供给部(130)向处理槽(110)供给流体。控制部(140)控制流体供给部(130)。控制部(140)在对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)开始流体的供给，直至对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)结束流体供给为止的期间，控制流体供给部(130)，以使流体供给部(130)变更流体的供给。本发明的基板处理装置以及基板处理方法能够抑制处理槽内的基板处理的偏颇。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201910782566.7在审
发明人：高桥朋宏;武知圭 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理方法包括：第一处理工序，在处理槽中，以设定为第一温度的磷酸来处理基板(W)；以及第二处理工序，在处理槽中，以设定为第二温度的磷酸来处理基板(W)。本发明的基板处理装置以及基板处理方法可实现基板处理时间的缩短，并且可抑制基板处理的问题。
处理装置以及方法

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