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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理装置及方法-CN202211286008.X在审
发明人：金圣贤;崔气勳;梁承太;朴素永;闵庚焕 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够在重新供应液态化学品时快速稳定颗粒水平的基板处理装置。该基板处理装置包括：循环管线，连接到液态化学品供应单元，并用于循环液态化学品；过滤器，设置在循环管线上，并用于过滤液态化学品中的颗粒；供应管线，连接到循环管线的第一节点，并用于将液态化学品供应到腔室；以及排出管线，连接到循环管线上的位于过滤器与第一节点之间的第二节点，并用于排出液态化学品，其中，在从液态化学品供应单元的泵中断之后重新启动的时间点起的第一时段期间，排出穿过过滤器的液态化学品。
处理装置方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN202211462430.6在审
发明人：韩泳遵;崔气勋;梁承太;朴尚禹;金圣贤;郑富荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底处理设备包括：喷嘴单元，包括：喷嘴尖端，将液体排放到衬底；以及液体供应管线，将液体供应给喷嘴单元，其中液体供应管线包括：液体供应管，被连接至喷嘴尖端；供应阀，被安装在液体供应管中；以及加热器，被设置在喷嘴尖端与供应阀之间的液体供应管中。
衬底处理设备方法

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202211675450.1在审
发明人：河道炅;崔文淳;韩泳遵;梁承太 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法，具体地，公开了一种用于在多个腔室中处理基板的方法。该基板处理方法可以包括：在液体在循环管线中循环的情况下，通过用于连接循环管线和各多个腔室的供应管线对位于腔室中的基板执行液体处理，其中设置在该供应管线中的阀的下游流动的液体的每单位时间流量恒定地保持为参考流量，并且基于分配流量控制上游流量或者下游流量、以保持该参考流量，上游流量为在循环管线而不是供应管线的上游流动的液体的每单位时间流量，下游流量为在循环管线而不是供应管线的下游流动的该液体的每单位时间流量，分配流量为在阀的上游流动的液体的每单位时间流量。
用于处理装置方法

[发明专利]药液供应单元和适用其的基板处理系统以及药液供应方法-CN202211067257.X在审
发明人： 梁承太;朴尚禹;韩泳遵;崔气勋;崔文淳;金圣贤;郑富荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明是药液供应单元和适用其的基板处理系统以及药液供应方法，公开当通过药液供应单元供应药液时通过感测随着化学反应生成的杂质并将其去除从而能够确保执行工艺的可靠性和稳定性的技术。
药液供应单元适用处理系统以及方法

[发明专利]供应化学液体的装置和方法及基板处理装置-CN202211598517.6在审
发明人：尹泰锡;朴尚禹;河道炅;梁承太;郑富荣;崔文淳;林采永 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种用于供应化学液体的装置，该装置包括：储罐，在所述储罐中储存化学液体；排放管线，储存在所述储罐中的所述化学液体通过所述排放管线排放；液位管，所述液位管连接至所述储罐从而检查所述储罐中的所述化学液体的水位，并以与所述储罐中的所述化学液体的水位相同的水位接收所述化学液体；和控制器，所述控制器用于控制安装在所述排放管线中的第一阀，其中所述液位管的一端与所述储罐的上部空间连接，而另一端与所述排放管线连接。
供应化学液体装置方法处理

[发明专利]用于供应液体的设备及方法-CN202111612794.3在审
发明人：河道炅;梁承太 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种液体供应单元。液体供应单元包括：罐，具有用于储存液体的内部空间；入口管线，用于将液体从液体供应源供应到内部空间且入口管线上安装有入口阀；出口管线，用于将液体从罐供应到喷嘴或将液体回收到罐且出口管线上安装有出口阀；气体供应管线，用于向内部空间供应气体且气体供应管线上安装有气体控制阀；排气管线，用于从内部空间排气且排气管线上安装有排气阀；循环管线，用于使储存在内部空间中的液体循环；以及控制器，其中控制器构造为控制液体供应单元，使得在向内部空间供应液体的同时对循环管线进行加压。
用于供应液体设备方法

[发明专利]具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法-CN202111002195.X在审
发明人： 梁承太;金钟翰;河道炅 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：根据本发明的一实施例，可以提供处理液供应单元、具备处理液供应单元的基板处理装置以及基板处理方法，处理液供应单元包括：喷嘴，向基板上供应处理液；处理液供应部，包括用于向所述喷嘴供应处理液的供应管线；以及冷却部，提供于所述供应管线外部而用于冷却所述供应管线。通过所述冷却部，能够减小所述处理液的体积并倒吸所述处理液。
具备处理供应单元装置以及方法

[发明专利]液体供应单元及用于处理基板的装置和方法-CN202011529351.3在审
发明人： 梁承太;崔气勋;郑富荣;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，包括：壳体；支撑单元，其在壳体中支撑基板；喷嘴，其将处理液分配到基板上；和液体供应单元，其将处理液供应至喷嘴。液体供应单元包括：容器，其具有储存处理液的储存空间；液体供应管，处理液通过该液体供应管从容器流至喷嘴；和超声波施加构件，其在处理液被供应至喷嘴之前向处理液施加超声波。超声波施加构件包括：储液器，其具有容纳液体的内部空间；和超声发生器，其向容纳在储液器中的液体施加超声波。液体供应管的一部分浸没在容纳于储液器中的液体中。
液体供应单元用于处理装置方法

[发明专利]液体供应单元和基板处理装置-CN202010592248.7在审
发明人： 梁承太;郑富荣;赵乘桓 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思涉及液体供应单元和基板处理装置。根据一实施方式，基板处理装置包括：壳体，其在其中具有工艺空间；支承单元，其在所述壳体中支承所述基板；喷嘴，其将处理液体分配到支承在所述支承单元上的所述基板上；和液体供应单元，其将所述处理液体供应到所述喷嘴，其中，所述液体供应单元包括：容器，其具有存储空间，所述处理液体存储在所述存储空间中；液体供应管，其使所述处理液体从所述容器流至所述喷嘴；和微波施用构件，其在所述处理液体被供应到喷嘴之前、将微波施用至所述处理液体。
液体供应单元处理装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202010406079.3在审
发明人： 梁承太;郑富荣;朴贵秀;李在洪;金昊永;郑允硕 -专利权人：细美事有限公司;首尔大学校产学协力团
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理方法和基板处理装置。提供了一种用于处理基板的方法。所述方法包括，在所述基板旋转的情况下，将第一处理液供应至所述基板的处理目标表面；和随后，在处于蒸汽状态的蒸发抑制剂存在于供应至所述基板的所述第一处理液的周围的情况下，将具有比所述第一处理液的表面张力低的表面张力的第二处理液供应至所述基板，使得所述基板上的所述第一处理液被所述第二处理液替代。因此，可以在施用到基板的清洁液周围形成蒸汽气氛。因此，可以在清洁液被有机溶剂替代的过程中，防止液膜破坏现象。
处理方法装置

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统-CN202010363048.4在审
发明人：安俊建;李廷焕;权五烈;朴修永;梁承太 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B23K26/36 文献下载
摘要：涉及一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。用于处理基板的方法包括：第一处理操作，其用于通过将具有第一波长的第一激光束照射到旋转的基板的边缘区域，来处理所述基板的所述边缘区域；以及第二处理操作，其用于通过将具有第二波长的第二激光束照射到所述旋转的基板的所述边缘区域来处理所述边缘区域，其中所述第一波长和所述第二波长彼此不同。
处理方法装置系统

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