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[发明专利]电解银镀浴及使用其的电解银镀方法-CN202280008609.6在审
发明人：樱井翔 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2022-01-06 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C25D3/46 文献下载
摘要：一种电解银镀浴，其特征在于：是含有银离子、络合剂、传导盐、光泽剂及牺牲还原剂的电解银镀浴，作为牺牲还原剂，包含由下述通式(I)(式中，X1表示氢或者碱金属)及通式(II)(式中，R1、R2、R3分别独立表示氢(但是，不包括R1、R2、R3同时为氢)、羟基、苯基、C1～C6的烷基、烯基或者炔基，所述烷基、烯基或者炔基可以具有羟基或者羧基，R1与R2可以相连而形成环状的烷基或者芳香环)表示的含氮化合物的1种或2种以上。基于此，成为可抑制光泽剂等添加剂的消耗，且即使以相同的镀敷浴连续进行镀敷，仍可抑制镀敷浴的性能降低的电解银镀浴。【化1】【化2】
电解银镀浴使用方法

[发明专利]具有低热膨胀系数的铁-镍合金用电镀液及使用其的电镀方法-CN201880056530.4有效
发明人：堀真雄 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C25D3/56 文献下载
摘要：本发明提供一种具有低热膨胀系数的铁‑镍合金用电镀液、以及通过使用其的电镀方法镀敷得到在宽的温度范围内性能优异的铁‑镍合金的技术，具有低热膨胀系数的铁‑镍合金用电镀液的特征在于，其含有由以下的通式(1)R‑X‑SO3Y(其中，R表示乙烯基或乙炔基，X表示亚烷基或亚苯基，该亚烷基或亚苯基任选被取代，Y表示碱金属)表示的不饱和磺酸化合物的铁‑镍合金用电镀液，还含有2种以上的具有羧基1个以上、羟基2个以上，且碳数为2个以上的羧酸化合物。
具有低热膨胀系数镍合金用电使用电镀方法

[发明专利]复合镀液用添加剂-CN202210661523.5在审
发明人：柴田佳那;西川贤一 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： C25D3/12 文献下载
摘要：一种复合镀液用添加剂，以含有非导电性微粒、镍离子和水为特征，是含有非导电性微粒的液体，不需要特殊的微粒的调制，稳定性高。
复合镀液用添加剂

[发明专利]电镀铜浴-CN201880022413.6有效
发明人：池田健;岸本一喜;高谷康子;安田弘树;下村彩;原崎裕介;佐波正浩;清原靖;藤原伊织;田中正夫;阿部峰大 -专利权人： 株式会社杰希优;互应化学工业株式会社
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C25D3/38 文献下载
摘要：本发明提供一种通孔的填充性优异的电镀铜浴。电镀铜浴含有分子内含有氨基的化合物与分子内含有环氧基的化合物在酸的存在下的反应生成物。上述分子内含有氨基的化合物包括由特定的通式表示的胺化合物。上述分子内含有环氧基的化合物包括由特定的通式表示的环氧化合物。
镀铜

[发明专利]双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法-CN201911409524.5有效
发明人：大野晃宜;高德诚;滨田实香 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2009-12-04 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：本发明涉及双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法。本发明提供一种双层挠性覆铜层叠基材的制造方法，其为使用酸性镀铜浴组合物和被覆有作为籽晶层的导电性金属的树脂薄膜、通过湿式镀敷法的双层FCCL的制造方法，该方法包括：在实施了亲水化表面改性的树脂薄膜面上形成无电解镀镍籽晶层的工序；在该酸性镀铜浴组合物中，不经由1次镀铜而实施湿式电镀，使籽晶层上厚镀铜导电层的工序。
双层挠性覆铜层叠基材及其制造方法

[发明专利]着色用镀敷液以及着色方法-CN201780083664.0有效
发明人：堀真雄;桥本康男 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： C25D3/54 文献下载
摘要：本发明提供一种不存在废水、颜色的显色、析出的稳定性问题的、用于进行着色的技术。一种着色用镀敷液，其特征在于，含有：钼酸盐以及、具有一个以上的羧基和一个以上的羟基且碳数为2以上的羧酸或其盐，且pH为4.5～7.5；以及一种被镀敷构件的着色方法，其特征在于，在该着色用镀敷液中，将被镀敷构件作为阴极进行电解。
着色用镀敷液以及方法

[发明专利]微孔镀液及使用了该镀液的对被镀物的微孔镀敷方法-CN202080020071.1在审
发明人：柴田佳那 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2020-03-03 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C25D3/12 文献下载
摘要：本发明提供一种微孔镀液，其特征在于，含有非导电性粒子和聚合氯化铝，其易于制备带正电的非导电性粒子，稳定性高。此外，利用以在该微孔镀液中镀敷被镀物为特征的对被镀物的微孔镀方法，镀敷中的微孔个数也良好。
微孔使用被镀物方法

[发明专利]硅低聚物及其制造方法-CN201910495663.8有效
发明人：佐土原大祐;西川贤一;根道靖丈;户田久之;安田弘树;都木新介;约翰·厄尼斯特·克里斯托弗·科多尼尔 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2013-06-28 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供具有以往的水与四烷氧基硅烷的缩合物所不具有的新型功能的硅低聚物，提供下述通式(I)所表示的硅低聚物及其制造方法，(其中，R1～R10分别独立地为碳原子数1～4的烷基或羟烷基，X1～X3分别独立地为下述通式(II)所表示的基团，n为0或1，n为0时m为1～3的整数，n为1时m为1)(其中，A为碳原子数2～4的分支或未分支的亚烷基，1为1～3的整数)。
硅低聚物及其制造方法

[发明专利]树脂膜处理装置-CN201680091893.2有效
发明人：高德诚;中丸弥一郎;篠崎裕规雄;桥本刚毅 -专利权人： 株式会社杰希优;中央机械株式会社
申请日： 2016-12-27 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： C23C18/31 文献下载
摘要：本发明提供即使在输送较薄的树脂膜的情况下，也能够可靠地将树脂膜输送至处理槽并进行良好的处理的树脂膜处理装置。树脂膜处理装置在送出侧辊与卷绕侧辊之间输送树脂膜并进行所需的处理，其特征在于，具有用于输送赋予了规定的张力的上述树脂膜的输送辊，在上述输送辊表面形成与上述树脂膜接触的弹性树脂表面部。
树脂处理装置

[发明专利]在基板上形成电路的方法-CN201680078732.X有效
发明人：佐土原大祐;西川贤一;铃木启太;伊部公太;下田胜己 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/288 文献下载
摘要：本发明提供无论基板的种类如何均能够以少的工序在基板上的期望部位进行金属镀敷而形成电路的新的方法。一种在基板上形成电路的方法，其特征在于，包括如下工序：通过镀敷在基板上进行电路的形成时，在基板上施加含有硅低聚物和催化剂金属的涂布覆膜后，进行涂布覆膜中的催化剂金属的活化处理而使其表现出自催化性，接下来进行无电解镀敷。
基板上形成电路方法

[发明专利]镀覆装置及镀覆方法-CN201880099461.5在审
发明人：高德诚;江田哲朗;村山隆史 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： C25D19/00 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种镀覆装置及镀覆方法，其等即使在作为被镀覆材料的长条状薄片的电阻较大的情形，亦能适当地进行镀覆处理，进一步，使铜等金属薄膜对长条状薄片表面的密着性提升，同时能获得经施以高质量镀覆处理的已生成镍金属皮膜的长条状薄片。本发明的解决方案是一种镀覆装置10，其在卷出侧辊12与卷取侧辊14之间，通过半空中的阴极辊16而维持搬送作为被镀覆材料的长条状薄片18，且同时一边使长条状薄片18以浸入镀覆液20中的状态于设有阳极22的镀覆槽24中搬送，一边由阴极辊16对长条状薄片18进行供电，借此对长条状薄片18进行电镀处理，再者，阴极辊16相对于镀覆槽24位于长条状薄片18搬送方向的上游侧，且与镀覆槽24的上游侧入口的距离设为150mm以下的范围。
镀覆装置方法

[发明专利]三价铬镀液和使用了它的镀铬方法-CN201980040744.7在审
发明人：中上圆;堀真雄;森川雄斗 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：一种三价铬镀液和使用了它的三价镀铬方法，所述三价铬镀液的特征在于，在含有三价铬化合物、络合剂、导电盐、pH缓冲剂的三价铬镀液中，还含有碳数为2～4，并有3个以上氯基的有机化合物，据此，能够得到耐腐蚀性比现有的三价镀铬有所提高，有实用性的三价的镀铬。
三价铬镀液使用镀铬方法

[发明专利]三价铬镀液以及使用其的三价铬镀敷方法-CN201880080667.3在审
发明人：森川雄斗;堀真雄;中上圆 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种三价铬镀液、三价铬镀敷方法，所述三价铬镀液的特征在于，是含有三价铬化合物、作为导电盐的氯化物、pH缓冲剂、络合剂的三价铬镀液，还含有由以下的通式(1)所表示的不饱和磺酸，(其中，式(1)中，R1表示碳数1～10的烃基、氢或卤素，没有R2或者R2表示碳数1～10的烃基，X表示氢或碱金属。)通过所述三价铬镀液及使用其的三价铬镀敷方法，即使在镀液中混入金属杂质也不会产生未析出镀层或者在镀层中产生茶色的条纹图案等颜色不均等问题，R1‑CH＝CH‑R2‑SO3X (1)。
三价铬镀液以及使用三价铬镀敷方法

[发明专利]三价铬镀液以及使用其的镀铬方法-CN201880080570.2在审
发明人：堀真雄;中上圆;森川雄斗 -专利权人： 株式会社杰希优
申请日： 2018-12-12 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C25D3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种三价铬镀液，其是含有三价铬化合物、络合剂、作为导电盐的硫酸钾和硫酸铵、pH缓冲剂、含硫有机化合物的三价铬镀液，其特征在于，作为络合剂，使用具有2个以上羟基、2个以上羧基的羧酸或其盐，作为含硫有机化合物，组合使用糖精或其盐、与具有烯丙基的含硫有机化合物，由此镀层的析出速度快而实用。
三价铬镀液以及使用镀铬方法

[发明专利]树脂膜的湿式处理装置-CN201911354774.3在审
发明人：高德诚;中丸弥一郎;桥本康毅;吉冈秀夫 -专利权人： 株式会社杰希优;中央机械株式会社
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： C23C18/34 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制镀敷催化剂从树脂膜表面脱落、镀敷液含的稳定剂的异常吸附，促进均匀的金属覆膜的形成的树脂膜的湿式处理装置。具备：处理槽，在内部存积处理液并使树脂膜在处理液中通过；一对运送部件，在处理槽的树脂膜的导入侧和排出侧，分别设置于比存积于处理槽内的处理液的液面高的位置；喷流单元，在一对运送部件之间配设于比该运送部件低的位置，在其周面设置使处理液从该周面喷出的多个孔，并利用来自该孔的喷流使树脂膜在处理液中沿着该周面非接触地进行方向转换；高位液罐，配设于比处理槽高的位置并经由处理液供给管向喷流单元供给处理液；处理液活化槽，设置于处理槽的树脂膜的导入侧；以及底部排液部，设置于处理槽的底部附近。
树脂处理装置

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