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- [发明专利]油扩散泵以及真空成膜装置-CN201380060293.6有效
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税所慎一郎
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株式会社新柯隆
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2013-03-14
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2017-10-03
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F04F9/00
- 提供一种油扩散泵，其具有能够解决使用加热线作为工作油加热源时的问题的油蒸气产生器。该油扩散泵为真空泵，在壳体(51)内配置有油蒸气产生器(70)，使该油蒸气产生器(70)工作以使工作油(8)气化而成为油蒸气，将该油蒸气从喷射器(53、53a)喷射出去，并对吸入的气体进行排气动作。油蒸气产生器(70)具有容器(71、72)，其在立起设置方向上延伸，且使由被加热材料构成的筒部件(71)的下端封闭，用于在内部贮油；感应线圈(75)，其隔着绝缘材料(73)缠绕于筒部件(71)(尤其是外壳内壁71b)的大气侧周围；以及供电单元，其对感应线圈(75)施加数10Hz至数100Hz的低频交流电。而且，构成为，通过使供电单元工作并对线圈(75)施加低频交流电，由此使筒部件(71)自身加热，使容器内的油气化。
- 扩散以及真空装置
- [发明专利]油扩散泵和用于该油扩散泵的油蒸气产生器-CN201480077167.6有效
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税所慎一郎
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株式会社新柯隆
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2014-06-24
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2017-09-08
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F04F9/00
- 提供一种油扩散泵，其具备可消除在使用加热线作为工作油加热源时的问题的油蒸气产生器。一种真空泵，其中，在壳体(51)内配置有油蒸气产生器(70)，通过使该油蒸气产生器(70)工作来使工作油(8)气化从而产生油蒸气，将该油蒸气从喷射器(53、53a)喷射出去而对吸入气体进行排气动作。油蒸气产生器(70)具备在立起设置方向上延伸的筒状的外壳(71)(被加热体)；隔着绝缘材料(73)缠绕在筒部件(71)的周围的感应线圈(75)；以及对感应线圈(75)施加交流电的供电单元。外壳(71)和感应线圈(75)以浸渍于储存在壳体(51)内的工作油(8)中的配置被组装于壳体。并且，构成为，通过使供电单元工作而对感应线圈(75)施加交流电，由此使外壳(71)自身加热，从而使工作油(8)气化。
- 扩散用于蒸气产生器
- [发明专利]膜厚测量装置和成膜装置-CN201280073820.2有效
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佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松
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株式会社新柯隆
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2012-06-13
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2017-05-31
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G01B11/06
- 提供能够高精度地测量光学膜厚的膜厚测量装置。膜厚测量装置(6)具备通过照射侧光纤(f1)向监视基板(Sm)照射光的投光器(11)、通过受光侧光纤(f2)接收从投光器(11)照射后由监视基板(Sm)反射的光的受光装置(22)、和捆扎多个照射侧光纤(f1)和多个受光侧光纤(f2)而形成的光学传感器用探头(13)，其中，在光学传感器用探头(13)的与监视基板(Sm)对置的末端面上分别配置有多个照射侧光纤(f1)的端面和多个受光侧光纤(f2)的端面，照射侧光纤(f1)的各个端面以与受光侧光纤(f2)的端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列，并且，受光侧光纤(f2)的各个端面以与照射侧光纤(f1)的各个端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列。
- 测量装置
- [发明专利]测量装置和成膜装置-CN201280073844.8有效
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佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松
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株式会社新柯隆
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2012-09-10
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2017-03-15
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G01N21/84
- 提供一种能够实现更高速的测量并能够获得更高精度的测量结果的装置，来作为对薄膜的光学特性值和光学膜厚值中的至少一个值进行测量的测量装置。对形成于监视基板(Sm)的薄膜的包括光学特性值和光学膜厚值中的至少一方的值进行测量的测量装置(101)具备光信号产生机构(10)，其将多个LED单元(11a～11f)利用光学滤光镜所生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率，并发出多个光信号；照射机构(20)，其对该多个光信号进行复用而生成复用信号，并通过光纤将复用信号向监视基板(Sm)照射；检测机构(30)，其通过光纤检测由监视基板(Sm)反射的复用信号并输出电信号；信号分离机构(50)，其对检测机构(30)所输出的电信号实施带通滤波器的滤波处理，从该电信号中将每个设定频率的成分信号分离出来；以及计算机构(80)，其基于分离出来的每个设定频率的成分信号，按照每个设定频率计算出成分信号所表示的光学特性值，该测量装置同时测量多个所述光学特性值。
- 测量装置
- [发明专利]可搬型旋转装置及成膜装置-CN201580000971.9有效
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石井孝宣;千叶幸喜;佐藤康弘
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株式会社新柯隆
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2015-06-02
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2017-03-15
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C23C14/50
- 提供能够通过简单的作业实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜的可搬型旋转装置及成膜装置。可搬型旋转装置(11)由如下部分构成旋转拱顶(21)，其通过设置于真空蒸镀装置(1)的伺服马达(M)进行旋转；基板支架(12)，其以能够旋转的方式被支承在旋转拱顶(21)上，被成膜基板(14)载置于该基板支架(12)；内框(11a)，其经公转齿轮用轴承而被安装在旋转拱顶(21)上；外框(24)，其配设在内框(11a)的外侧，形成为与基板支架(12)的外周侧啮合；以及连结臂(41)，其将内框(11a)和外框(24)连结起来。旋转拱顶(21)以行星齿轮机构的公转轴线(R1)为中心进行旋转，基板支架(12)由旋转拱顶(21)保持在公转轴线(R1)的周围并被支承成能够以行星齿轮机构的自转轴线(R2)为中心进行旋转。
- 可搬型旋转装置
- [实用新型]成膜装置-CN201520843493.5有效
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石田将崇;林达也;菅原卓哉;我妻伸哉;宫内充祐;姜友松;长江亦周
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株式会社新柯隆
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2015-10-28
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2016-03-02
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C23C14/34
- 本实用新型提供成膜装置。成膜装置具有：具有排气系统的真空容器；成膜区域，其形成于真空容器内；反应区域，其形成于真空容器内，并与成膜区域在空间上分离；阴极电极，其搭载靶材；溅射电源，其使面对靶材的被溅射面的成膜区域内产生溅射放电；等离子体产生单元，其使反应区域内产生通过在成膜区域内发生的溅射放电而形成的溅射等离子体之外的其他等离子体；将多个基板保持在外周面上的基板保持器；和使基板保持器旋转的驱动单元，借助驱动单元使基板保持器旋转，使基板在成膜区域内的规定的位置与反应区域内的规定的位置之间反复移动，成膜装置还具备：基板电极，其从背面搭载由基板保持器保持的基板；和偏置电源，其向基板电极供给电力。
- 装置
- [其他]电子枪装置-CN201290000132.9有效
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盐野一郎;佐藤望;林达也;中村拓也
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株式会社新柯隆
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2012-04-09
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2014-01-01
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C23C14/30
- 提供一种电子枪装置，在适于装置运转的位置具备极片，该极片在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸。电子枪装置（1）具备：坩埚（3），其收容蒸镀材料；电子束射出机构（7），其射出电子束（EB），以使坩埚（3）内的蒸镀材料加热蒸发；壳体（10），其在内部收容电子束射出机构（7）；第1极片（11）以及第2极片（12），其在固定于壳体（10）的状态下使电子束（EB）朝着坩埚（3）内的蒸镀材料偏转；以及第3极片（13），其为了调整电子束（EB）对坩埚（3）内的蒸镀材料的照射位置，使向壳体（10）外射出的电子束（EB）进一步偏转，第3极片（13）在配置于坩埚（3）的上方位置的状态下朝着坩埚沿水平方向延伸，位于壳体（10）外，并且与壳体（10）分离。
- 电子枪装置
- [发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201280003216.2有效
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盐野一郎;林达也;姜友松;长江亦周;宫内充祐;佐守真悟
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株式会社新柯隆
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2012-09-26
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2013-06-12
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C23C14/02
- 本发明提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1，所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持面，成膜装置1的构成为具有蒸镀源34和离子源38，其中，所述蒸镀源34按照如下构成配置在真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够对所述基体保持面的部分区域即第1区域(A3)供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；所述离子源38按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够仅向着该基体保持面的部分区域即第2区域(A2)照射能量粒子。
- 方法装置
- [发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201280003215.8有效
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盐野一郎;林达也;姜友松;长江亦周;宫内充祐;佐守真悟
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株式会社新柯隆
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2012-08-02
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2013-06-12
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C23C14/02
- 本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。
- 方法装置
- [实用新型]真空蒸镀装置-CN201220694165.X有效
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盐野一郎;林达也;姜友松;宫内充祐;冈田胜久;长江亦周
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株式会社新柯隆
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2012-12-14
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2013-06-05
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C23C14/28
- 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其配设于真空容器（10）内，用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件（12）旋转；蒸镀构件（34），其以与基板（14）对置的方式设置；以及能量粒子源（38），其用于对基板（14）照射能量粒子。能量粒子源（38）在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器（10）配设的门（10a）的内壁面。
- 真空装置
- [实用新型]薄膜形成装置-CN201220540309.6有效
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渡边健;青山贵昭;冈田胜久;盐野一郎;宫内充祐;长江亦周
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株式会社新柯隆
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2012-10-22
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2013-04-24
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C23C14/24
- 本实用新型提供一种薄膜形成装置，其能够抑制由于蒸镀材料的粒子通过基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）而导致真空槽（1）内被污染这一情况。真空蒸镀装置（100）具备：真空槽（1）；蒸镀机构（4），其收纳在真空槽（1）内；和基板支架保持部件（3），其在比蒸镀机构（4）靠上方的位置收纳在真空槽（1）内，在所述真空蒸镀装置（100）中，在基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）内，配置有从基板支架保持部件（3）的外周部向真空槽（1）的内壁面延伸出的密封部（5）。
- 薄膜形成装置
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