“柴崎健太”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果7个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]存储器系统-CN202210696772.8在审
发明人： 柴崎健太;进藤佳彦;平嶋康伯;菅原昭雄;长坂繁辉;中村大;萩原洋介 -专利权人：铠侠股份有限公司
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G11C16/26 文献下载
摘要：实施方式提高存储器系统的处理能力。根据实施方式，存储器系统包括包含存储单元阵列(111)的存储器芯片(11)、及控制存储器芯片的存储器控制器(20)。在存储单元阵列中，存储在存储器芯片启动时执行的第1动作(POR)中所使用的第1数据(芯片启动数据)。存储器芯片在从存储器控制器接收到第1数据的情况下，在第1动作中不从存储单元阵列读出第1数据，而在未从存储器控制器接收到第1数据的情况下，在第1动作中从存储单元阵列读出第1数据。
存储器系统

[发明专利]清洗用治具、涂布装置以及清洗方法-CN202180021928.6在审
发明人：新村聪;高柳康治;柴崎健太;稻田博一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中，在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。
清洗用治具装置以及方法

[实用新型]液处理装置-CN202122398639.8有效
发明人： 柴崎健太;稻田博一;新村聪;高柳康治;矢田健二;关慎一;寺本昭宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B05B15/555 文献下载
摘要：本实用新型涉及液处理装置，其使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。
处理装置

[发明专利]液处理装置和清洗方法-CN202111164695.3在审
发明人： 柴崎健太;稻田博一;新村聪;高柳康治;矢田健二;关慎一;寺本昭宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： B05B15/555 文献下载
摘要：本发明涉及液处理装置和清洗方法。使附着于内杯的涂布液不会在清洗了液处理装置的内杯之后残留。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其包括：保持部，其保持基板并使其旋转；涂布液供给部，其向被保持部保持着的基板供给涂布液；外杯，其围绕被保持部保持着的基板的周边；以及内杯，其设于外杯的内侧，自侧方包围保持部，该内杯的周缘侧上表面自顶部随着朝向径向外方去而下降倾斜，该顶部位于被保持部保持着的基板的周缘侧的下方，内杯具有在顶部沿着周向形成有多个的喷出孔，使自喷出孔喷出来的清洗液沿着附着有涂布液的内杯的周缘侧上表面流下，从而对该周缘侧上表面进行清洗，喷出孔形成为向径向外方且斜上方喷出清洗液。
处理装置清洗方法

[实用新型]清洗用治具-CN202120566987.9有效
发明人：新村聪;高柳康治;柴崎健太;稻田博一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B08B9/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种清洗用治具，当对旋转涂布装置的容器内进行清洗时，与以往相比在高度方向上清洗更广的范围。该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中清洗所述容器内，在所述清洗用治具的周缘部整周地形成有周缘顶部和周缘底部，在所述周缘顶部与所述周缘底部之间整周地形成有喷出口，在所述周缘底部沿周向隔开间隔地形成有多个通往所述喷出口的孔，所述周缘顶部的下表面朝向外周上方倾斜。
清洗用治具

[外观设计]用于半导体制造的清洁装置-CN202130496134.8有效
发明人： 柴崎健太;稻田博一;新村聪;高柳康治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：用于半导体制造的清洁装置。2.本外观设计产品的用途：本产品是用于半导体制造中的清洁工艺的清洁装置。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图2。5.指定设计1为基本设计。
用于半导体制造清洁装置

[发明专利]基片处理装置-CN202010736750.0在审
发明人：新村聪;坂井勇治;柴崎健太;高柳康治;矢田健二;稻田博一;关慎一;绪方健人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：遮罩部件，其配置成包围由旋转保持部保持的基片的周围；收集部件，其配置于遮罩部件与旋转保持部之间的排气路径；和溶剂供给部，其配置在收集部件的上方，构成为能够对收集部件供给溶剂。溶剂供给部包括：内侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围基片的周围；外侧贮存室，其构成为当从上方观察时包围内侧贮存室的周围；和分隔壁，其以划分出内侧贮存室和外侧贮存室的方式沿周向延伸。多个连通孔以被导入到外侧贮存室的溶剂能够向内侧贮存室流通的方式贯通分隔壁地形成。多个滴落孔以内侧贮存室内的溶剂能够向收集部件滴落的方式贯通内侧贮存室的底壁地形成。本发明能够有效地除去棉状块。
处理装置