专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]离子束辅助沉积镀膜装置及镀膜方法-CN202310935263.0在审
  • 朱佳敏;陈思侃;高中赫;李鸿;曹森;陈永春;陈晓琦;孙树博;林晓辉;柏培 - 上海超导科技股份有限公司
  • 2023-07-27 - 2023-10-20 - C23C14/56
  • 本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置,包括:源系统:包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统,镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束,刻蚀系统包括离子源;真空系统:提供真空环境;走带系统:对带材进行收放卷;控制系统:在控制系统的作用下,所述走带系统进行收放卷,所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和/或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀,且刻蚀速度大于镀膜速度,使净沉积速度很低,但由于高的刻蚀速度,在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度,保证同根带材两端的织构度差别<10%,最终制备的超导带材,两端的临界电流差别小于10%,进而提高了镀膜效果。
  • 离子束辅助沉积镀膜装置方法
  • [发明专利]卷对卷磁控溅射镀膜装置-CN202310938679.8在审
  • 朱佳敏;高中赫;陈思侃;曹森;袁海波;陈黔;林晓辉;柏培;吴超;陆亚明;李怀珍;程浩宇 - 上海超导科技股份有限公司
  • 2023-07-27 - 2023-10-20 - C23C14/56
  • 本发明提供了一种卷对卷磁控溅射镀膜装置,包括靶系统:用于在基底上镀制所需求的膜层;真空系统:用于提供真空环境;走带系统:对带材进行收放卷,包括多道连续走带;控制系统:控制走带系统进行收放卷,靶系统在处于真空环境内的多道走带基底上镀制所需求的膜层。通过采用中频溅射结合磁控阴极的结构,使磁控阴极磁场变大、溅射速率变快,能够有效地提高磁控溅射镀膜速度,且系统发射低,可以实现去除对带材降温的水冷板,以及支撑水冷板的支架,一方面能够除水冷板导致的带材卷边的情况发生,另一方面,避免了镀制过程中存在的电弧放电、打火问题,有助于提高带材的生产速度和生产质量。
  • 磁控溅射镀膜装置

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