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[发明专利]一种晶圆夹具及电镀装置-CN202210543373.8有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆夹具及电镀装置，晶圆夹具包括密封件、底座、支撑件以及定位锁定组件；定位锁定组件包括定位件、安装件及锁定件，定位件与密封件连接，安装件设置于底座上，密封件通过定位件和安装件的配合实现与底座的可拆卸连接；支撑件设置于密封件和底座之间，锁定件设置于支撑件上，当锁定件处于锁定状态，锁定件抵压定位件并使定位件无法相对安装件活动；当锁定件处于解锁状态，定位件可相对安装件活动。本发明通过上述设计，当需要拆卸密封件时，仅须操作锁定件使之切换至解锁状态即可；而当需要安装新的密封件，首先利用定位件和安装件的配合实现密封件和底座之间的定位安装，再操作锁定件使之切换至锁定状态即可，操作非常便捷。
一种夹具电镀装置

[发明专利]电镀头单元、电镀设备及电镀方法-CN202210153386.4在审
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明提供了电镀头单元、电镀设备及电镀方法，电镀头单元包括母镀头、子镀头、旋转组件，子镀头位于旋转组件上随旋转组件旋转，子镀头轴线与母镀头轴线不重合，子镀头的数量为至少一个；子镀头包括动子组件和定子组件，动子组件沿动子组件轴线自转，定子组件随旋转组件旋转；还包括位于子镀头上的夹持机构，夹持晶圆后晶圆圆心与母镀头轴线不重合；电镀设备包括电镀头单元、电镀槽和机械手；本发明可避免单片晶圆电镀时因晶圆自转导致的圆心始终位于旋转中心位置，消除电镀液流场死区，提高电镀金属离子的扩散，解决了晶圆圆心电镀困难的问题，提高晶圆电镀的片内均匀性；当子镀头数量设置为两个或两个以上时，本发明还可提高批量电镀的效率。
电镀单元设备方法

[发明专利]一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置-CN202210050192.1在审
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置，其中，可控制溢流边缘波动的电镀槽包括槽体和设置于槽体上的溢流装置，槽体内可盛放电镀液，溢流装置包括溢流环和若干个支撑柱，溢流环经支撑柱支撑于槽体的上表面，槽体上表面与溢流环之间形成溢流口。本发明提供的可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置，通过溢流装置的设置，当槽体的进液量小于或等于预设值时，槽体中溢流出的电镀液从溢流口流出，当槽体的进液量大于预设值时，从槽体中溢流出的电镀液则从溢流口以及溢流环上表面流出，由此消除了晶圆最外圈处的液体波动，保证了晶圆最外圈电镀的均匀性。
一种控制溢流边缘波动电镀装置

[发明专利]一种共享晶圆夹具的金属镀覆设备和方法-CN202111605281.X有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C25D17/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种共享晶圆夹具的金属镀覆设备和方法，其中，共享晶圆夹具的金属镀覆设备包括移动机构、晶圆夹具以及多个工作槽；晶圆夹具用于可拆卸固定晶圆，移动机构连接晶圆夹具；工作槽包括工艺槽和镀槽，工艺槽和镀槽共享一个晶圆夹具，移动机构在各个工作槽之间转运该晶圆夹具。本发明提供的共享晶圆夹具的金属镀覆设备和方法，多个工作槽共享一个晶圆夹具，从而有效降低了设备对晶圆夹具数量的要求，极大的降低了设备成本；并且，晶圆夹具在移动机构的带动下在多个工作槽之间进行转运，避免了频繁上下片而导致的晶圆损毁、氧化、翘曲等诸多风险，极大的提高了工艺质量。
一种共享夹具金属镀覆设备方法

[实用新型]一种电镀头夹持组件及电镀头-CN202223300808.0有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏;王涛;孙健彭 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种电镀头夹持组件及电镀头，其中，夹持组件包括支撑环、密封盖板以及可拆装的夹持载体；夹持载体设置有供晶圆电镀面露出的电镀孔以及围绕电镀孔设置有凸起限位部，凸起限位部围合形成晶圆放置位；夹持载体包括密封盖和导电环，密封盖板盖设于导电环上且通过第一连接件与密封盖可拆卸连接；支撑环支撑于密封盖板上且通过第二连接件与密封盖可拆卸连接。本实用新型仅需根据晶圆形状通过装配对应的夹持载体即可适应该形状晶圆的电镀工作，解决了现有技术中电镀头所存在的无法适用于异型晶圆电镀的难题，同时，本实用新型可选择设有多个电镀孔的夹持载体，一次性可实现多片晶圆的电镀，大大提高晶圆电镀均匀性且降低电镀差异性。
一种电镀夹持组件

[实用新型]电镀设备-CN202222930111.5有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏;孙健彭;覃莹 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种电镀设备，涉及晶圆电镀技术领域，一种电镀设备，其包括电镀头和电镀阳极，所述电镀头能够夹持晶圆并带动所述晶圆旋转，所述电镀设备还包括有：遮挡部，所述遮挡部固定于所述晶圆与所述电镀阳极之间，晶圆的缺口在旋转过程中能够被遮挡部遮挡；定位传感器，所述定位传感器与所述电镀头的驱动晶圆旋转的电机电连接，所述定位传感器相对所述遮挡部的位置固定，用于检测缺口。在电镀过程中，当检测到晶圆的缺口经过遮挡部时，通过降低晶圆的转速，使晶圆在缺口被遮挡部遮挡时的转速小于缺口在不遮挡时的转速，能够降低晶圆的缺口附近的有效电镀时间，从而使得晶圆的缺口附近区域的电镀厚度降低，提高了晶圆的电镀均匀性。
电镀设备

[实用新型]一种晶圆清洗设备工艺腔体及晶圆清洗设备-CN202222645750.7有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆清洗设备工艺腔体及晶圆清洗设备，其中，工艺腔体包括腔体本体，腔体本体内有容纳电镀夹具的清洗空间；腔体本体的底部设置有进/排水口和喷淋组件，腔体本体的侧壁上部设置有侧进水组件；进/排水口用于向腔体本体内注入或排出清洗液，喷淋组件用于向电镀夹具底部喷淋清洗液，侧进水组件用于向电镀夹具侧面喷淋清洗液；腔体本体内还设置有使清洗液溢流的集液溢流槽，集液溢流槽低于侧进水组件设置。本实用新型克服了现有技术中清洗设备所存在的排水慢、清洗不完全且不彻底等缺陷，通过提高清洗设备工艺腔体排出废水的速度以及兼顾晶圆和电镀夹具清洗，大大提高晶圆表面洁净度。
一种清洗设备工艺

[发明专利]磁悬浮搅拌装置及电镀装置-CN202210798087.6在审
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁悬浮搅拌装置及电镀装置，涉及搅拌设备领域，一种磁悬浮搅拌装置，设置于电镀槽内，磁悬浮搅拌装置包括：电磁感应环，电磁感应环安装在搅拌装置的定子上，电磁感应环包括环向设置的多组线圈，相邻线圈的电流流向相反；搅拌机构，搅拌机构设置在电磁感应环的环形内侧或内侧上方，搅拌机构包括与线圈对应设置的永磁体；电磁感应环通过线圈的电流时序产生的磁场驱动搅拌机构在电镀槽内悬浮和沿电磁感应环的环向旋转。搅拌机构通过电磁感应环产生的磁场旋转和悬浮，搅拌机构在旋转过程中，不会与其他零件发生接触和摩擦，因此不会产生碎屑等杂质，因此不会对所处的环境发生污染。
磁悬浮搅拌装置电镀

[实用新型]一种晶圆电镀预处理设备及系统-CN202122541912.8有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆电镀预处理设备及系统，其中，晶圆电镀预处理设备包括工艺槽体和角度倾斜系统；工艺槽体的内部具有用于盛放处理液的工艺腔，工艺腔内设有卡持晶圆的夹持部；角度倾斜系统与工艺槽体连接，角度倾斜系统能够驱动工艺槽体整体旋转。本实用新型提供的晶圆电镀预处理设备及系统，操作简单，通过角度倾斜系统的设计，使得在预处理过程中，晶圆随工艺槽体一同倾斜及摆动，有利于孔洞中的空气被处理液置换并溢出，实现极好的预处理效果，同时，由于角度倾斜系统位于工艺槽体外部，这一方面大大提高了工艺槽体的密封性，另一方面，无须对驱动源即角度倾斜系统进行防水及耐腐蚀处理，大大提高了经济效益。
一种电镀预处理设备系统

[发明专利]一类2-芳基取代的偕二氟环丁烷类化合物及其制备方法-CN202110200695.8有效
发明人：李清江;林鹏鹏 -专利权人：中山大学
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： C07C23/18 文献下载
摘要：本发明公开了一类2‑芳基取代的偕二氟环丁烷类化合物及其制备方法。本发明的偕二氟环丁烷类化合物结构较为稳定，可以作为原料，更简单、方便、快捷地制备在医药学上具有高价值的化合物。此外，所述化合物的制备方法简单，以方便易得的取代亚甲基环丙烷为起始原料，在亲电氟试剂、亲核氟试剂和碱添加剂的作用下即可反应得到目标产物。所述反应底物适用性广，可制备多种取代偕二氟环丁烷类化合物。
一类取代偕二氟环丁烷化合物及其制备方法

[发明专利]一种2,2-二氟环丁烷-1-羧酸的制备方法及应用-CN202110201236.1有效
发明人：李清江;林鹏鹏 -专利权人：中山大学
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： C07C51/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种2,2‑二氟环丁烷‑1‑羧酸的制备方法及应用。本发明的一种2,2‑二氟环丁烷‑1‑羧酸的制备方法，可直接一锅法合成2,2‑二氟环丁烷‑1‑羧酸，无需纯化中间的反应物，也可分步进行反应。该制备方法简单易行，合成路线大大缩短，降低生产成本的同时还提高了收率，使得2,2‑二氟环丁烷‑1‑羧酸的收率提高至75％左右；另一方面，利用上述2,2‑二氟环丁烷‑1‑羧酸的制备方法，还能继续反应制得式IV化合物，合成步骤简单，产物收率高。
一种二氟环丁烷羧酸制备方法应用

[实用新型]一种晶圆处理设备及系统-CN202122541909.6有效
发明人：史蒂文·贺·汪;林鹏鹏 -专利权人：新阳硅密（上海）半导体技术有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆处理设备及系统，用于晶圆的预润湿或腐蚀，包括第一箱体，用于通入晶圆处理液的容置腔，固定晶圆且可带动晶圆旋转的晶圆驱动盘，位于晶圆驱动盘上的驱动金属，位于第一箱体外部的驱动装置及电磁装置，驱动装置带动电磁装置转动，驱动金属在电磁感应的作用下随电磁装置转动，驱动金属带动晶圆驱动盘旋转。本实用新型利用电磁感应原理将驱动装置放在第一箱体外，实现对第一箱体内晶圆旋转的无源驱动，解决了驱动装置不能浸泡在晶圆处理液体中的问题。本实用新型的晶圆处理设备结构简单，可提高第一箱体的密封程度和抽真空效率，晶圆润湿或腐蚀时驱动晶圆旋转提高预润湿和腐蚀的均匀性，有利于提高晶圆处理的效率。
一种处理设备系统

[实用新型]一种粉体流冷却器-CN202122742361.1有效
发明人：卢伟成;石信平;林鹏鹏;王迪;刘洋阳 -专利权人：青岛碱业发展有限公司;青岛海湾集团有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： F28D9/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种粉体流冷却器，桶状冷却器主体和设置在所述冷却器主体底部的出料体，所述冷却器主体内设置40片水冷换热片，换热片与冷却水系统连通，相邻换热片之间的间距为3.2cm，冷却水系统上设置控制冷却水流量的管道泵。本实用新型提供的一种粉体流冷却器，与现有技术相比，改造后的粉体流冷却器，体积较之前变大，换热片由现有的26片增加至40片，换热片间距为3.2cm，加大粉体与换热器的接触面积，提高换热效率；对冷却水系统新增了管道泵，使冷却水循环量达到70m3/h，改善换热片内冷却水的循环速度，进一步提高换热片的换热效率，保证产品冷却效果达到设计要求。
一种粉体流冷却器

[实用新型]一种防止物料污染的绞龙输送装置-CN202122728672.2有效
发明人：刘洋阳;王迪;林鹏鹏 -专利权人：青岛碱业发展有限公司;青岛海湾集团有限公司
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B65G33/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种防止物料污染的绞龙输送装置，包括绞龙外壳和螺旋叶片，绞龙外壳头部竖壁与螺旋叶片的起始位置之间设置有用于防止油污进入螺旋叶片的挡板，挡板与绞龙外壳内壁密封连接。本实用新型提供的一种防止物料污染的绞龙输送装置，在绞龙外壳头部竖壁与螺旋叶片的起始位置之间设置与绞龙外壳内壁密封连接的挡板，将润滑油阻挡在绞龙外壳竖壁与挡板之间的空间，在降低轴承处摩擦、提高装置运行通顺程度的同时，有效的减少因润滑油被螺旋叶片刮起进入物料而引起的产品质量问题的发生，本实用新型提供的绞龙输送装置，整体结构简单，便于使用，可以有效的降低在运输过程中产品质量问题的发生，提高了生产效率，具有很好的经济效益。
一种防止物料污染输送装置

[发明专利]一种氨碱法生产氯化钙工艺中消除总还原物对外观影响的方法-CN201910472696.0有效
发明人：姜杰;仇广义;宋昌杰;林鹏鹏;吴秋君;孙高峰 -专利权人：青岛海湾集团有限公司;青岛碱业发展有限公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： C01F11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种氨碱法生产氯化钙工艺中消除总还原物对外观影响的方法，在利用氯碱法废液蒸发提浓后形成的高浓钙液生产氯化钙的生产工艺中，盛装有高浓钙液的澄清桶与钙液桶之间连接有混合反应器，经测定总还原物含量的高浓钙液与稀释到设定浓度的定量双氧水于混合反应器内搅拌混合均匀，使双氧水与总还原物完成还原后应后进入钙液桶，并进行后续的氯化钙常规生产。本发明提供的一种氨碱法生产氯化钙工艺中消除总还原物对外观影响的方法，可在生产氯化钙固定产品之前，去除总还原物对设备的腐蚀等原因导到的产品外观的影响。
一种氨碱法生产氯化钙工艺消除原物外观影响方法

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