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专利名称

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公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]微细凹凸层积体及其制造方法、以及照相机模块搭载装置-CN201880043296.1有效
发明人：梶谷俊一;林部和弥;花岛直树;须贺田宏士 -专利权人：迪睿合电子材料有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： B32B3/30 文献下载
摘要：本发明提供实现薄型化、防反射性能优异且能够抑制短波长的光的散射、吸收的微细凹凸层积体。微细凹凸层积体的特征在于，按照基板、第一透明有机物层、第二透明有机物层的顺序进行层积，所述第一透明有机物层在所述第二透明有机物层侧的表面具有微细凹凸结构，所述第二透明有机物层在两面具有微细凹凸结构，由所述第一透明有机物层及所述第二透明有机物层构成的复合层的厚度为15μm以下。
微细凹凸层积及其制造方法以及照相机模块搭载装置

[发明专利]原盘、转印物以及原盘的制造方法-CN202211127571.2在审
发明人：菊池正尚;田泽洋志;野上朝彦;林部和弥 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种原盘、转印物以及原盘的制造方法，特别是提供形成有更为复杂的微细构造的原盘、使用该原盘的转印物以及该原盘的制造方法。一种原盘，其中，多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置，所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下，所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。
转印物以及制造方法

[发明专利]原盘、转印物以及原盘的制造方法-CN201880083365.1有效
发明人：菊池正尚;田泽洋志;野上朝彦;林部和弥 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：本发明提供形成有更为复杂的微细构造的原盘、使用该原盘的转印物以及该原盘的制造方法。一种原盘，其中，多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体在基材上相互分离设置，所述凹部或凸部在所述基材表面上所占区域的平均宽度为可见光波段的波长以下，所述凹凸集合体内的各个所述凹部或凸部自所述基材表面的形成长度为中心值不同的至少两个以上组中的任何一个。
转印物以及制造方法

[发明专利]凹凸构造体、光学部件及电子设备-CN201880083625.5有效
发明人：菊池正尚;田泽洋志;林部和弥 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种具备更复杂的凹凸构造的凹凸构造体、光学部件、以及电子设备。所述凹凸构造体具备多个由设置在基材的表面的多个凹部或凸部构成的集合构造，在所述基材的表面上所述凹部或凸部所占的区域的平均宽度为，属于可见光范围的波长以下。
凹凸构造光学部件电子设备

[发明专利]光学体、原盘、以及光学体的制造方法-CN202110873519.0在审
发明人： 林部和弥;梶谷俊一 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种防反射特性进一步提高且制作容易的、新的且改良了的光学体、原盘、以及光学体的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的某种观点，提供一种如下的光学体，即，所述光学体具有凹凸构造，其中具有凸形状或凹形状的构造体以可见光波长以下的平均周期排列，构造体具有相对于与光学体的厚度方向垂直的任意一个平面方向而非对称的形状。根据所述观点，防反射特性会进一步提高且制作变得容易。
光学以及制造方法

[发明专利]复制原盘-CN202110631466.1在审
发明人：柴田章広;梶谷俊一;林部和弥;菊池正尚 -专利权人：迪睿合电子材料有限公司
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： B29C59/02 文献下载
摘要：本发明的复制原盘(10)具备基材层(11)和形成在基材层(11)上且具有微细凹凸图案的表面形状体(12)，表面形状体(12)的软化温度比基材层(11)的软化温度高。
复制

[发明专利]复制原盘的制造方法和被形成体的制造方法-CN201780028736.1有效
发明人：柴田章広;梶谷俊一;林部和弥;菊池正尚 -专利权人：迪睿合电子材料有限公司
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B29C59/02 文献下载
摘要：本发明的复制原盘(10)具备基材层(11)和形成在基材层(11)上且具有微细凹凸图案的表面形状体(12)，表面形状体(12)的软化温度比基材层(11)的软化温度高。
复制制造方法形成

[发明专利]光学体以及发光装置-CN201780019295.9有效
发明人：梶谷俊一;樱井恭子;土井克浩;林部和弥;花岛直树;金子直人 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种可用作导光板，并且，具有对于外来光的优异的防反射功能的发光装置。为了解决上述课题，根据本发明的某种观点，提供一种光学体，其包括：基材；粗大凹凸结构，其被形成在基材的一个表面上，并且将从基材的侧面被射入至基材的内部的内部传播光从基材的另一个表面射出；和细小凹凸结构，其跟随着基材的两面以及粗大凹凸结构的表面而周期性地形成，凹凸的平均周期在可见光波长以下，粗大凹凸结构的表面具有相对于一个表面而以30°以上且小于90°的方式倾斜的倾斜面，并且细小凹凸结构的排列相对于内部传播光的行进方向以交错排列的方式配置。
光学以及发光装置

[发明专利]光学体、光学体的制造方法及发光装置-CN201780060314.2在审
发明人：菊池正尚;梶谷俊一;野上朝彦;樱井恭子;林部和弥 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明提供一种新型改良的光学体、光学体的制造方法及发光装置，其目的在于能够使来自光源的光以更多样的形态发射。为了实现上述目的，根据本发明的构思而提供一种光学体，其包括：基材；以及第一凹凸结构，在基材的至少一个表面上形成，从基材的侧面取出向基材的内部入射的内部传播光；第一凹凸结构的凹凸的平均周期为可见光波段的最小值以上且10μm以下。
光学体基材凹凸结构发光装置可见光波段凹凸的入射光源制造取出改良侧面发射传播

[发明专利]层压体、成像元件封装件、成像装置和电子装置-CN201410484116.7有效
发明人：田泽洋志;林部和弥 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-09-19 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本发明涉及层压体、成像元件封装件、成像装置和电子装置。提供了一种层压体，包括：基板和结构层，结构层设置在基板上并具有抗反射功能，其中，结构层包括多个结构体以及设置在多个结构体和基板之间的中间层，并且其中，中间层满足下面的关系式(1)。(2π/λ)·n(λ)·|d‑d₀|<π(1)(其中，λ表示为了减少反射的目的的光的波长，n(λ)表示当波长为|时中间层的折射率，d₀表示中间层在中心点的厚度，并且d表示中间层在任意点的厚度)。
层压成像元件封装装置电子

[发明专利]光学元件、摄像装置、光学设备、原盘及制造方法-CN201410395862.9有效
发明人： 林部和弥;影山正光;金口时久 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-08-12 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本申请涉及光学元件、摄像装置、光学设备、原盘及制造方法，其中，一种光学元件封装件包括其上设置多个结构的表面。所述多个结构被设置为以等于或小于可见光的波长的间隔从晶格点在随机方向上摆动。
光学元件摄像装置设备制造方法

[发明专利]光学体、原盘、以及光学体的制造方法-CN201680066713.5在审
发明人： 林部和弥;梶谷俊一 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种防反射特性进一步提高且制作容易的、新的且改良了的光学体、原盘、以及光学体的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的某种观点，提供一种如下的光学体，即，所述光学体具有凹凸构造，其中具有凸形状或凹形状的构造体以可见光波长以下的平均周期排列，构造体具有相对于与光学体的厚度方向垂直的任意一个平面方向而非对称的形状。根据所述观点，防反射特性会进一步提高且制作变得容易。
光学体防反射特性构造体原盘可见光波长凹凸构造平面方向周期排列凹形状垂直的非对称凸形状制作制造改良

[发明专利]光学器件及其制造方法和母板的制造方法-CN201410789625.0有效
发明人：远藤惣铭;林部和弥 -专利权人：迪睿合电子材料有限公司
申请日： 2010-08-26 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中，具有防反射功能的光学器件，包括基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65％。
光学器件及其制造方法母板

[发明专利]传递模以及结构制造方法-CN201410060507.6有效
发明人：坪里惠;林部和弥;田泽洋志;梶谷俊一;田中洋志;谷田部透 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及传递模以及结构制造方法。该传递模包括主体、第一层以及第二层。所述主体具有凸凹表面。所述第一层包含无机材料并且设置在所述主体的凸凹表面上。所述第二层包含氟并且设置在所述第一层的表面上。在其上设置所述第一和第二层的凸凹表面的硬度值的平均值为30Hv或更高。
传递以及结构制造方法

[发明专利]固态成像元件和电子设备-CN201580021890.7在审
发明人：影山正光;林部和弥;田中洋志 -专利权人：索尼公司
申请日： 2015-04-27 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： H01L27/14 文献下载
摘要：本公开内容涉及固态成像元件以及电子设备，其能够有效抑制光在光入射面上的反射和衍射的发生。由在半导体层的光入射面上以预定间距的凹部和凸部形成微细凹凸结构，在半导体层中，针对多个像素中的每一个形成光电转换单元，并且在微细凹凸结构上层压设有对像素接收的各光颜色不同的膜厚度的防反射膜。在微细凹凸结构内形成的凹部和凸部的间距在所有像素中大致相同，并且是100nm以下。例如，本技术可适用于固态成像元件。
固态成像元件电子设备

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