专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]静电电容型输入装置及其制造方法-CN201010578302.9有效
  • 松尾睦 - 索尼公司
  • 2010-12-08 - 2011-06-15 - G06F3/044
  • 本发明提供静电电容型输入装置及其制造方法。一种静电电容型输入装置包括:第一透明导电膜,构成第一电极和第二电极,第一电极在基板上的输入区域中在第一方向上延伸,第二电极在输入区域中在与第一方向交叉的第二方向上延伸并在与第一电极的交叉部分中断开;层间绝缘膜,至少形成在与交叉部分重叠的区域中;以及第二透明导电膜,形成在层间绝缘膜上并具有比第一透明导电膜的薄层电阻低的薄层电阻,该第二透明导电膜构成中继电极和周边配线,该中继电极通过在没有形成层间绝缘膜的区域中电连接到第二电极而使在交叉部分中断开的第二电极电连接,周边配线在基板的位于输入区域外侧的周边区域中延伸。
  • 静电电容输入装置及其制造方法
  • [发明专利]静电电容式输入装置、带输入功能的显示装置及电子设备-CN201110069144.9有效
  • 松尾睦;小林靖弘 - 索尼公司
  • 2009-03-26 - 2011-06-08 - G06F3/044
  • 一种静电电容式输入装置、带输入功能的显示装置及电子设备。本发明提供一种静电电容式输入装置,其在输入区域具备:按第1方向延伸的多个第1电极;和按与第1方向交叉的第2方向延伸的多个第2电极;其特征为,在上述输入区域的外侧,形成有:多条第1布线,其从上述多个第1电极相互并排延伸到多个第1端子;和多条第2布线,其从上述多个第2电极相互并排延伸到多个第2端子;在上述多条第1布线及上述多条第2布线的一方或者双方,该多条布线包括:一条布线和配置于该一条布线的两侧的、与该一条布线并排的长度不同的布线,在上述两侧的布线之中的并排的长度较长的布线侧,与并排的长度较短的布线侧相比,与上述一条布线之间的间隔至少在一部分变宽。
  • 静电电容输入装置功能显示装置电子设备
  • [发明专利]静电电容型输入装置-CN200810110137.7有效
  • 松尾睦 - 爱普生映像元器件有限公司
  • 2008-06-13 - 2008-12-17 - G06F3/044
  • 本发明涉及静电电容型输入装置。其能简化制造过程,并使透光性基板上的图形、图形彼此的交叉部不明显。带输入装置的显示装置(100)的输入装置(10)为静电电容型的触摸面板,在透光性基板(15)的一方的面,通过按顺序叠层膜厚度为10~20nm的ITO膜、膜厚度为40~60nm的氧化硅膜及膜厚度为10~20nm的第2ITO膜的多层膜,形成第1透光性电极图形(11)及第2透光性电极图形(12)。在交叉部分(18),第1透光性电极图形(11)相连,而第2透光性电极图形(12)被截断。在交叉部分(18)处被截断的第2透光性电极图形(12)通过形成于层间绝缘膜(4a)的上层的中继电极(5a)电连接。
  • 静电电容输入装置
  • [发明专利]掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法-CN02123147.8有效
  • 大竹俊裕;松尾睦;露木正 - 精工爱普生株式会社
  • 2002-06-19 - 2003-01-22 - G02F1/1335
  • 本发明的课题是,提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的掩模、使用它的附有光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电光器件,以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的基板的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的基板以比点区数少的点数为一个单元形成透光部或不透光部,并且将其在该单元内不规则地排列,同时使用含有多个该单元的掩模,使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等,以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形,或者某一方的平面形状,并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。
  • 掩模有光反射形成方法

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