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[实用新型]具有抗指纹功能的高介电常数的陶瓷盖板-CN201920720074.0有效
发明人：郑威;李锦干;徐华毕 -专利权人：深圳市华尔利泰电子科技有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H05K5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种具有抗指纹功能的高介电常数的陶瓷盖板，包括陶瓷材质的基板，以及依次在所述基板上沉积形成的Parylene膜层、InSn膜层、SIO2膜层、以及AF膜层。陶瓷盖板可以使用在第5代移动终端上，陶瓷盖板使用基板为陶瓷，采用Parylene材料沉积到基板上，对陶瓷的基板先进行填孔，还使得盖板的具备高的介电常数，然后采用InSn合金制备不导电金属层InSn膜层，岛状的InSn膜层既可以避免信号的干扰，还可作为基板的可见光反射层，在其上制备SIO2膜层，通过调整SIO2膜层的厚度，实现干涉成色，可形成不同颜色的陶瓷后盖，最后在其上制备AF膜层，这样既可有效的发挥AF膜层的防指纹特性，又可以加硬后盖，并且避免信号的干扰。
具有指纹功能介电常数陶瓷盖板

[实用新型]清洗处理多功能旋转反应釜-CN201920720071.7有效
发明人：郑威;李锦干;徐华毕 -专利权人：深圳市华尔利泰电子科技有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B01J19/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种清洗处理多功能旋转反应釜，包括筒状的反应釜体、以及供反应釜体可转动安装的机架。反应釜体的转动轴线水平，反应釜体内形成有清洗腔。清洗腔的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件定位放置的支撑结构，以在反应釜体转动时，清洗腔内的清洗液对支撑结构上的待清洗电子元器件进行清洗。带有硅片等可回收材料的待清洗电子元器件可以提前放置固定到反应釜体内，在反应釜体转动时，反应釜体内的清洗液处理电子器件表面杂质，让待清洗电子元器件表面的杂质被清洗液自动清洗干净，使得得到干净的电子元器件，利于电子元器件的回收利用，清洗过程实现了批量自动化，提升了回收效率，降低了成本，能满足电子元器件回收利用的生产要求。
电子元器件反应釜体清洗反应釜清洗腔支撑结构体内清洗液转动电子元器件表面电子元器件回收电子器件表面本实用新型可回收材料可转动安装清洗液处理旋转反应釜定位放置回收利用内壁上沿清洗处理清洗过程生产要求转动轴线自动清洗硅片筒状周圈自动化回收

[实用新型]真空镀膜设备-CN201920716025.X有效
发明人：郑威;李锦干;徐华毕 -专利权人：深圳市华尔利泰电子科技有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种真空镀膜设备，包括真空炉、蒸发热源、冷却装置、以及旋转支架。真空炉内形成有镀膜腔室，蒸发热源设置在真空炉的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到镀膜腔室内。冷却装置包括在真空炉的外壁面周向分布的至少两组冷却组件，每一冷却组件包括在真空炉的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道、出液通道、以及在真空炉的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路，冷却支路一端连通进液通道，并由进液通道沿真空炉的外壁向下倾斜连通至出液通道。冷却液进入进液通道，再从各冷却支路分流流到出液通道流出，在冷却液流动过程中，可以将真空炉的热量带走，使真空炉内的温度保持在镀膜需求的范围内，还可开启适当数量的冷却组件冷却。
真空炉进液通道出液通道冷却支路冷却组件冷却装置蒸发热源外壁面外壁连通并排间隔设置真空镀膜设备本实用新型冷却液流动镀膜材料镀膜腔室加热蒸发间隔分布热量带走温度保持向下倾斜旋转支架周向分布镀膜腔可开启冷却液镀膜两组内壁竖直冷却流出室内分流

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