专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于光刻机的下沉式防微振基座-CN202222244039.0有效
  • 李锦哲;白在镐;任兰兰;张林波;魏智涛;王延湖;钟林江 - 四川瑞明斯工程技术有限公司
  • 2022-08-25 - 2023-03-07 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种用于光刻机的下沉式防微振基座;用化学锚栓将L角钢和凹形角钢水平面固定在地面,同时L角钢竖直面用化学锚栓固定住混凝土立板,并在底部倒入环氧灌注胶。混凝土立板侧面使用侧钢板固定。防微振基座和混凝土立板之间使用粘钢胶+调平板连接。技术效果:在地面与高架地板距离过大时,也能满足光刻机的动刚度和防微振的高要求。并且由于设备安装在一楼地面,没有下夹楼层,本实用新型的结构也能给光刻机提供足够的管线布局空间。对于这种下沉式的半导体工厂结构,高架地板距离地面很高,超过了1200mm还多,采用混凝土立板这种形式的结构是首创。最重要的是,这种结构在便于安装的情况下,还能满足光刻机对防微振的高要求。
  • 一种用于光刻下沉式防微振基座

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