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[发明专利]静电卡盘电源和半导体工艺设备-CN202310298060.5在审
发明人：王松涛;田丰;李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H02M3/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种静电卡盘电源和半导体工艺设备。所述静电卡盘包括控制电压生成电路，用于根据用户设置值生成控制电压；升压电路，用于对所述控制电压进行升压以得到高压电压；参考电压引入电路，用于提供直流自偏电压，所述直流自偏压为所述半导体工艺设备执行工艺时产生的等离子体鞘层与所述静电卡盘上的晶圆之间的电压差；正极电压生成电路，用于将所述高压电压与所述直流自偏电压叠加，以生成正极电压；负极电压生成电路，用于将所述高压电压反向，并与所述直流自偏电压叠加，以生成负极电压。通过本发明实施例可以自动调节偏压，避免变压偏置对静电卡盘系统吸附力的影响，达到正负电极吸附力均衡，防止吸附失败现象发生。
静电卡盘电源半导体工艺设备

[发明专利]静电卡盘的控制系统及其控制方法-CN202010046086.7有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-01-16 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种静电卡盘控制系统及其控制方法，应用于半导体加工设备中静电卡盘的卡合控制。该控制方法包括如下步骤：判断当前晶圆的处理工艺的执行状态；当所述执行状态为完成时，控制吹气结构根据一预设压力值向晶圆吹气，并且获取吹气结构的气体流量值；当所述气体流量值达到预设流量值时，控制升降组件由第一位置上升至第二位置，用于带动所述晶圆远离所述静电卡盘的承载面。本申请实施例可以消弱甚至消除粘片的情况发生，进而可以防止机械手搬运晶圆时与基座发生干涉，并且可以有效增加晶圆受力点，以使得晶圆的受力更加均匀。
静电卡盘控制系统及其控制方法

[发明专利]半导体工艺腔室、晶圆释放方法和半导体工艺设备-CN202210484977.X在审
发明人： 李玉站;朱明魁;张羽 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2022-05-06 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体工艺腔室，包括腔体、静电卡盘和供电组件，静电卡盘设置在腔体中，且静电卡盘的内部具有至少一个吸附电极，供电组件用于向静电卡盘中的吸附电极加载吸附电压，以使吸附电极吸附静电卡盘上承载的晶圆，供电组件还用于在工艺结束后释放晶圆时向吸附电极上加载解吸附电压，解吸附电压的极性在预设时长内正负交替变化，且幅值逐渐减小，直至为零。在本发明中，供电组件能够控制吸附电极反复对晶圆顶面与底面之间的电容进行反向充电，使晶圆顶面与底面之间的电场方向不断变化且电荷数量不断减小，直至解吸附电压的幅值为零，从而消除晶圆上的残余电荷，提高半导体工艺的安全性。本发明还提供一种晶圆释放方法和半导体工艺设备。
半导体工艺释放方法工艺设备

[发明专利]继电器和半导体设备-CN202210232197.6在审
发明人：葛军;田丰;朱明魁;李玉站;张羽;李光健 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01H50/04 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种继电器和半导体设备，继电器包括：控制电路、至少一个隔离电路、至少一个开关电路；隔离电路与开关电路一一对应串联连接；开关电路包括第一输入端、第二输入端、第一输出端及场效应管；控制电路用于发送控制信号至隔离电路；隔离电路用于对控制信号进行隔离处理并发送至第二输入端；开关电路用于根据隔离处理后的控制信号控制场效应管通断，使第一输入端接收的电压在场效应管导通时通过第一输出端输出；在开关电路数量大于一的情况下，除最后一个开关电路外的每个开关电路的第一输出端与下个开关电路的第一输入端连接。该技术方案中继电器的厚度较低，不存在空气击穿的风险，可缩短各电子器件间的距离，减小继电器的体积。
继电器半导体设备

[发明专利]一种半导体设备的托盘结构和半导体设备-CN202110722245.5在审
发明人：韩笑娜;李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体设备的托盘结构和半导体设备，其中托盘结构包括：托盘本体；多个定位销，定位销与托盘本体的上表面可拆卸地固定连接，多个定位销用于在托盘本体的上表面限定出至少一个晶圆放置区域，晶圆放置区域用于承载并定位晶圆。本发明通过定位销定位晶圆实现托盘结构对多片晶圆实现承载和定位，且该定位销与托盘本体可拆卸地固定连接，若使用过程中定位销被刻蚀高度变小无法实现定位功能，只需更换托盘本体上的定位销，也可根据实际情况更换单个定位销，不需要频繁整体更换包括托盘本体的托盘结构，定位销降低了托盘结构整体的消耗速率，减小托盘结构这一整体部件的更换频率，降低成本，提升托盘结构的利用率。
一种半导体设备托盘结构

[发明专利]粘片检测系统及方法、反应腔室、半导体加工设备-CN201710291629.X有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种粘片检测系统，包括：输气管路，与气源和静电卡盘的冷媒气体通道相连，用于将气源提供的气体经过所述输气管路和冷媒气体通道向晶片背吹；在所述输气管路上还设置有检测模块；所述检测模块，与控制模块相连，用以在所述输气管路内输送的气体的流量和压力中一个设置为定值时检测另一个对应的数值并发送至控制模块；所述控制模块，用于判断所述检测模块发送的所述流量值是否小于流量阈值，若是，则确定发生粘片；或者，判断所述检测模块发送的所述压力值是否大于压力阈值，若是，则确定发生粘片。还提供一种粘片检测方法、反应腔室和半导体加工设备。本发明可以防止碎片和撞片问题的发生。
检测系统方法反应半导体加工设备

[发明专利]一种解决静电卡盘粘片的工艺方法-CN201710325668.7有效
发明人：琚里;李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-05-10 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种解决静电卡盘粘片的工艺方法，静电卡盘包括1个或者多个直流电极，该方法包括以下步骤：固定第n个晶片的步骤：向所述静电卡盘的每个直流电极加载各自对应的第一预设电压；释放第n个晶片的步骤；固定第n+1个晶片的步骤：对至少一个所述直流电源加载各自对应的第二预设电压，同一所述直流电极的所述第二预设电压的极性与所述第一预设电压的极性相反；其中，n为大于0的整数；释放第n+1个晶片的步骤。该解决静电卡盘粘片的工艺方法，通过控制相邻两个晶片在固定步骤中，同一直流电极加载不同极性的直流电压的方式，来消除静电卡盘表面残余电荷的累积效应，从而可以解决静电卡盘粘片问题。
一种解决静电卡盘工艺方法

[发明专利]消除静电荷的方法及基片卸载方法-CN201510869466.X有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2015-12-02 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供了一种消除静电荷的方法及基片卸载方法，该消除静电荷的方法，包括以下步骤:向基片背面吹第一气体，以使基片和静电卡盘之间存在间隙；同时向腔室内通入第二气体，并激发所述第二气体形成等离子体。本发明提供的消除静电荷的方法及基片卸载方法，可保证在后续卸载基片时不会发生粘片，因而可避免粘片造成基片被顶碎或者基片发生倾斜而造成被机械手撞碎，从而保证基片卸载过程可靠、安全的运行。
消除静电荷方法卸载

[发明专利]一种静电卡盘和半导体处理设备-CN201710224202.8有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-04-07 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电卡盘和半导体处理设备。该静电卡盘包括与设置在绝缘层中的电极层连接的第一电极连接件以及设置在绝缘层下方的基体，第一电极连接件设置于基体中且与基体之间通过第一绝缘件绝缘，用于为电极层供电，还包括绝缘套筒，绝缘套筒套设在第一电极连接件的与电极层连接的一端，绝缘套筒能增大第一电极连接件与基体之间的绝缘距离，以使第一电极连接件与基体之间的耐压≥10000V。该静电卡盘通过设置绝缘套筒，提高了第一电极连接件与基体之间的耐压性能，使该静电卡盘不仅能满足对硅晶片进行吸附固定的耐压要求，而且还能满足对固定介质晶片进行吸附固定的耐压要求，使该静电卡盘的应用领域更广。
一种静电卡盘半导体处理设备

[发明专利]一种晶片吸附方法、下电极系统和半导体处理装置-CN201610474215.6有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种晶片吸附方法、下电极系统和半导体处理装置。该晶片吸附方法进入主工艺阶段之前包括：将静电卡盘基体接地；向工艺腔室内通入非工艺气体；将工艺腔室内的非工艺气体激发形成等离子体；为静电卡盘电极提供直流电，以使静电卡盘对晶片进行静电吸附固定。该晶片吸附方法不仅能够避免晶片上表面对残留在工艺腔室内的负离子或微小颗粒进行吸附，从而避免了工艺腔室内的残留颗粒对晶片表面造成污染，进而确保了晶片的良率；而且能够避免静电卡盘基体的电势对晶片形成排斥作用，从而有效的提高了静电卡盘对晶片的吸附固定效果。
一种晶片吸附方法电极系统半导体处理装置

[发明专利]卡盘装置及半导体加工设备-CN201810847214.0在审
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种卡盘装置及半导体加工设备，包括：卡盘，包括用于承载晶片的承载面，且在卡盘中设置有第一进气孔；防护件，设置在第一进气孔中，且防护件采用多孔结构，热交换气体能够流经多孔结构后至承载面上，以减小热交换气体在第一进气孔中发生击穿放电现象的风险。本发明提供一种卡盘装置及半导体加工设备能够减少在进气通道中击穿放电现象的发生，降低卡盘装置内的进气通道损坏的概率。
卡盘装置进气孔热交换半导体加工设备多孔结构击穿放电进气通道防护件卡盘承载晶片承载面减小承载概率

[发明专利]判断晶片是否正常升起的方法及其装置-CN201610210232.9有效
发明人：王京;李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-04-06 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种判断晶片是否正常升起的方法及其装置，涉及半导体工艺技术领域，能够判断晶片是否正常升起，若晶片升起异常，停止后续的机械手取片，并对未正常升起的晶片进行调整，以减少机械手撞击晶片而造成晶片损坏等机械手取片失败的几率。该判断晶片是否正常升起的方法，包括：当支撑所述晶片的多个顶针升起后，测量所述多个顶针中任意两个顶针之间的电阻值，且对应每个顶针至少测量一个所述电阻值，判断全部所述电阻值中是否存在符合预设异常条件的电阻值，若存在，则确认所述晶片未正常升起。本发明主要用于半导体工艺结束后的晶片取片过程中。
判断晶片是否正常升起方法及其装置

[发明专利]静电卡盘装置及晶片或托盘的固定方法-CN201410421884.8有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2014-08-25 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种静电卡盘装置及晶片或托盘的固定方法，所述静电卡盘装置包括绝缘本体、卡盘本体、供电电源、多个第一静电吸附电极与多个第二静电吸附电极，绝缘本体设置在卡盘本体上；所述第一静电吸附电极与所述第二静电吸附电极埋设在所述绝缘本体的内部；所述供电电源直流电压输出端与所述第一静电吸附电极、所述第二静电吸附电极电连接；所述第一静电吸附电极与所述第二静电吸附电极上加载的直流电压的极性相反，所述第一静电吸附电极与所述第二静电吸附电极交替相邻并彼此电绝缘，本发明的静电卡盘装置能有效固定晶片，特别是高绝缘电介质晶片；晶片或托盘的固定方法保证了各种类型的晶片或托盘可靠固定，不会发生“跳片”现象。
静电吸附电极静电卡盘装置托盘晶片绝缘本体供电电源卡盘本体直流电压输出端电介质晶片固定晶片极性相反可靠固定直流电压电绝缘电连接高绝缘加载跳片保证

[发明专利]静电卡盘电源的电流检测装置和电流检测方法-CN201310751989.5在审
发明人：姜宏伟;陈庆;李玉站;白美林 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G01R19/00 文献下载
摘要：本发明提供一种静电卡盘电源的电流检测装置，包括采样电阻，所述采样电阻串联在所述静电卡盘电源的输出端，所述静电卡盘电源的电流检测装置还包括电压检测单元和两个分压单元，两个所述分压单元中的一个连接在所述采样电阻的输入端与参照点之间，两个所述分压单元中的另一个连接在所述采样电阻的输出端与参照点之间，所述电压检测单元用于检测两个分压单元的分压点与参照点之间的电压，其中，两个所述分压单元的分压比均能够调节，以使得两个分压单元的分压比相等。本发明还提供一种静电卡盘电源的电流检测方法。在本发明中，两个所述分压单元的分压比能够调节至相等，从而减少所述分压比的差异对检测电流的影响，提高检测电流的准确性。
静电卡盘电源电流检测装置方法

[实用新型]一种静电卡盘系统-CN201520103626.5有效
发明人： 李玉站 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种静电卡盘系统，该系统包括双电极静电卡盘、电压极性转换电路、直流电源，双电极静电卡盘经电压极性转换电路与直流电源电连接，其中，电压极性转换电路用于将双电极静电卡盘切换成单电极吸附方式或双电极吸附方式，并同时用于切换施加到静电卡盘中埋设的电极上的电压极性。本实用新型通过采用双电极静电卡盘，并在双电极静电卡盘和直流电源之间设置电压极性转换电路，方便地实现了静电卡盘工作模式的转换，为不同晶片的吸附和释放提供了便利。
一种静电卡盘系统

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