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[发明专利]包括碳化硅层的部件及其制备方法-CN202180012607.X在审
发明人：元钟和;具泍会;黄仁秀;金南注;高明辰;李智训;赵贤俊 -专利权人：株式会社KNJ
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： C04B35/52 文献下载
摘要：本发明涉及一种包括碳化硅层的部件及其制备方法，本发明的制备方法的特征在于，包括：准备石墨母材的步骤；及在所述石墨母材的表面上层压碳化硅层的步骤，在所述层压碳化硅层的步骤中，以使所述碳化硅层的厚度成为所述石墨母材的厚度的0.01倍至1倍的方式层压所述碳化硅层，从而能够提高包括碳化硅层的部件的耐久性。
包括碳化硅部件及其制备方法

[发明专利]触摸板-CN201510412368.3有效
发明人： 李智训;安埈成;尹盛重;金炯中 -专利权人：海帝士科技公司
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明涉及一种触摸板，本发明的触摸板的特征在于，包括：透明基板；触摸电极，由第一单位电极和第二单位电极沿第一轴方向交替连续配置而以锯齿形状的图案形成于所述透明基板上，所述第一轴与所述透明基板的任一边平行，所述第一单位电极相对于所述第一轴沿一侧方向倾斜配置，所述第二单位电极相对于所述第一轴沿另一侧方向倾斜配置；及护膜层，由第一护膜部件和第二护膜部件沿第一轴方向交替连续配置而以锯齿形状的图案形成于所述触摸电极上，所述第一护膜部件在与所述第一单位电极对应的位置上沿与所述第一单位电极交叉的方向倾斜配置，所述第二护膜部件在与所述第二单位电极对应的位置上沿与所述第二单位电极交叉的方向倾斜配置，所述触摸电极的锯齿形状的线和所述护膜层的锯齿形状的线以所述第一轴为中心对称形成。
触摸

[发明专利]触摸屏-CN201510073588.8有效
发明人：金炯中;安埈成;尹盛重;李智训 -专利权人：海帝士科技公司
申请日： 2015-02-11 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及一种触摸屏，本发明的触摸屏包括沿第一轴方向配置并沿与第一轴正交的的第二轴方向隔开排列的多个单位电极线，其特征在于，构成所述单位电极线的两侧面的第一线及第二线分别交替重复有第一边和第二边，并且在第一边与第二边的交汇的部分上，根据第一边与第二边交汇的角度，交替形成有凸部及凹部，所述第一边为相对于第一轴沿第一方向倾斜配置的边，所述第二边为沿着以第一轴为基准与第一方向对称的第二方向倾斜配置的边，在所述凹部形成有沿与所述第一边并排的方向切开所述单位电极线的第一槽部及沿与所述第二边并排的方向切开所述单位电极线的第二槽部。
触摸屏

[发明专利]具有减少摩尔纹的覆盖层的触摸面板、具有触摸面板的液晶显示装置及触摸面板的形成方法-CN201410822388.3有效
发明人： 李智训;安埈成;尹盛重;金炯中 -专利权人：海帝士科技公司
申请日： 2014-12-25 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及一种触摸面板、液晶显示装置及触摸面板的形成方法。本发明的触摸面板，包括：电极层，具有用于触摸传感的电极图案；及覆盖层，形成在所述电极层的上部，并且具有与所述电极图案构成规定的交叉角的图案。此外，本发明的液晶显示装置的特征在于，所述触摸面板附着在上部或形成在内部。
具有减少摩尔覆盖层触摸面板液晶显示装置形成方法

[发明专利]矩阵切换式触摸面板-CN201410827193.8有效
发明人：尹盛重;李智训;金炯中;林佶泽;崔大林;赵允振 -专利权人：海帝士科技公司
申请日： 2014-12-25 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及一种矩阵切换式触摸面板，包括：触摸板，在基板上的可见区域以点阵形式相互隔开配置；和信号线，在所述触摸板之间的隔开空间配置，分别连接触摸板和非可见区域的触摸驱动电路，其中，进一步包括：单位电极，由透明电极材料构成，在基板上的可见区域内排列；触摸板区域，分别设定在与触摸板对应的区域；信号线区域，分别设定在与信号线对应的区域；及透明电极材料的桥，用于将分别配置在所述触摸板区域和所述信号线区域的多个单位电极电连接，从而构成触摸板和信号线，所述单位电极相对于与信号线并行的第一轴以之字形形式排列而构成。
矩阵切换触摸面板

[发明专利]衬底处理设备-CN201310524521.2有效
发明人：李浩喆;崔善弘;李丞浩;李智训;李东奎;李太浣 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备，其包含：腔室，其中具有反应空间；衬底安放部件，其安置在所述腔室的所述反应空间中以使衬底安放在所述衬底安放部件上；感应加热单元，其用以加热所述衬底安放部件；以及至少一个高度调节单元，其用以根据所述衬底安放部件的温度调节区而在所述腔室的外部选择性地调节所述感应加热单元的高度。因此，有可能通过在所述腔室的外部调节所述衬底安放部件与所述感应加热单元之间的距离长度来恒定地控制所述衬底安放部件的温度。
衬底处理设备

[发明专利]衬底处理设备-CN200910008795.X有效
发明人：李浩喆;崔善弘;李丞浩;李智训;李东奎;李太浣 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备，其包含：腔室，其中具有反应空间；衬底安放部件，其安置在所述腔室的所述反应空间中以使衬底安放在所述衬底安放部件上；感应加热单元，其用以加热所述衬底安放部件；以及至少一个高度调节单元，其用以根据所述衬底安放部件的温度调节区而在所述腔室的外部选择性地调节所述感应加热单元的高度。因此，有可能通过在所述腔室的外部调节所述衬底安放部件与所述感应加热单元之间的距离长度来恒定地控制所述衬底安放部件的温度。
衬底处理设备