专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种耐高温电磁屏蔽主动防护机构-CN202310037730.8在审
  • 吴江;郭光锋;王海滨;宋其峰;李尔林 - 杭州航天电子技术有限公司
  • 2023-01-10 - 2023-06-23 - H01R13/648
  • 本发明涉及一种耐高温电磁屏蔽主动防护机构,包括插座法兰盖、外壳和密封盖,外壳内设有密封块,密封块和插座法兰盖、密封块与外壳、密封块和密封盖之间均设有第一屏蔽簧片,插座法兰盖上设有第二屏蔽簧片;本发明的优点:通过插座法兰盖上设置的外壳实现分离后插座的固定,由于密封块和插座法兰盖、密封块与外壳、密封块和密封盖之间设置的第一屏蔽簧片,以及插座法兰盖上设置的第二屏蔽簧片,通过第一屏蔽簧片和第二屏蔽簧片形成屏蔽结构,能将分离后的插座实现物理隔离,继而实现插座插合面电磁屏蔽功能,从而解决了分离电连接器插座不能单独实现电磁屏蔽,填补了目前分离电连接器插座不能单独实现电磁屏蔽的空白。
  • 一种耐高温电磁屏蔽主动防护机构
  • [实用新型]一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备-CN202222882299.0有效
  • 李尔林;翟广龙;王江川 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2022-10-31 - 2023-03-24 - H01L21/66
  • 本实用新型公开了一种干涉终点检测结构及半导体工艺设备,涉及半导体技术领域,干涉终点检测结构的调节支架包括:平行光管固定架和支撑架,支撑架的一端用于与喷嘴可拆卸连接,另一端与平行光管固定架连接;平行光管固定架的一端和支撑架的另一端其中之一设置有球形转动槽,平行光管固定架的一端和支撑架的另一端其中另一设置有球形转动件,球形转动件转动设置在球形转动槽内,用于调节所述光信号接收模块的接收方向;解决现有技术中的干涉终点检测结构的调节支架调节不便,调节过程繁琐,难以一次将光纤的接收方向调整好,经常需要反复多次调节才可以达到调节目标的问题。
  • 一种干涉终点检测结构半导体工艺设备
  • [发明专利]晶圆在边缘刻蚀腔室中定位的定位方法-CN202111405153.0在审
  • 王炳元;王松涛;张德群;李尔林 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-11-24 - 2022-03-08 - H01L21/68
  • 本申请公开了一种晶圆在边缘刻蚀腔室中定位的定位方法,涉及半导体工艺领域。所述定位方法包括:将边缘刻蚀腔室中初始的机械中心点的位置参数输入传输装置,控制传输装置根据位置参数将晶圆传输至边缘刻蚀腔室中;对晶圆进行边缘刻蚀工艺;在晶圆的边缘区域上选取多个不同半径值的采样圆;从每个采样圆上选取多个采样点,并检测各采样点的刻蚀速率;计算每个采样圆上多个采样点的平均刻蚀速率;根据预设函数确定初始的机械中心点与边缘刻蚀腔室中的理想中心点之间的偏移量和偏移方向;将上述偏移量的补偿参数输入传输装置,获得补偿后的机械中心点。本申请能够解决晶圆在边缘刻蚀腔室中出现位置偏差而降低工艺精度、影响产品质量的问题。
  • 边缘刻蚀腔室中定位方法
  • [实用新型]压强和总力测量系统-CN200720130819.5无效
  • 蔡守允;贾宁一;刘兆衡;戴杰;李尔林;蔡志俊;李恩宝 - 水利部交通部电力工业部南京水利科学研究院
  • 2007-12-07 - 2008-08-27 - G01L9/06
  • 本实用新型涉及在水利工程模型试验中进行波压力和脉动压力测量的压强和总力测量系统,该系统可同步采集处理多点压强和多点总力,静态地检测每路传感器的输出信号,也可以动态地检测和显示每路测量信号的数据和跟踪曲线。本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:压强和总力测量系统,包括若干压电式压力传感器,它还包括与各压电式压力传感器对应的差动放大电路、A/D转换电路、稳压电源和计算机;压电式压力传感器的电压信号经差动放大电路、A/D转换电路输入计算机;所述稳压电源为压电式压力传感器和差动放大电路提供稳压电源。
  • 压强测量系统

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