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[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202310261585.1在审
发明人：西野阳祐;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。在衬底处理方法中，从内槽(110)、外槽(120)、及循环配管(141)排出处理液(第1排液工序S1)。在排出处理液之后，经过新液供给口(185)而对内槽(110)重新供给处理液(第1供给工序S2)。在对内槽(110)重新供给处理液之后，将蓄积在内槽(110)中的处理液排出直到内槽下限水平(LVL)为止(第2排液工序S3)。在将处理液排出直到内槽下限水平(LVL)为止之后，经过新液供给口(185)而对内槽(110)重新供给处理液(第2供给工序S4)。内槽下限水平(LVL)表示比配置在内槽(110)内部的循环液导入口(132)的位置更高的液位，并且表示比配置在内槽(110)内部的新液供给口(185)的位置更高的液位。
衬底处理方法装置

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201880015617.7有效
发明人：山口侑二;基村雅洋;岸田拓也;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：混合酸加热工序，对作为含有磷酸、硝酸及水的混合液的混合酸进行加热；摩尔比调节工序，为了使P/W摩尔比(混合酸中所含的磷酸的摩尔数/混合酸中所含的水的摩尔数)维持在摩尔比上限值与摩尔比下限值之间，通过将水加入至混合酸而使P/W摩尔比下降；以及蚀刻工序，通过将加入有水的混合酸供给至基板而对基板上的金属膜进行蚀刻。
处理方法装置

[发明专利]衬底处理装置-CN202211150585.6在审
发明人：高桥朋宏;内田博章;岸田拓也;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置。在作为第1循环配管(35)的一部分的浓缩用配管(39)，设有具有石英管(47)的石英加热器(41)。第1迂回配管(36)的两端(36A)、(36B)连接在浓缩用配管(39)的上游端及下游端。在第1迂回配管(36)，设有具有非石英管(51)的非石英加热器(45)。控制部(93)在将第1槽(T1)内的磷酸溶液浓缩时，一边将磷酸溶液输送到浓缩用配管(39)，一边使用石英加热器(41)将通过浓缩用配管(39)的磷酸溶液加热。控制部(93)在第1槽(T1)内的磷酸溶液的浓缩完成时，一边将磷酸溶液输送到第1迂回配管(36)，一边使用非石英加热器(45)将通过第1迂回配管(36)的磷酸溶液加热。
衬底处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201710850534.7有效
发明人： 杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法。即使在一次蚀刻处理中溶解的蚀刻对象物的量多的情况下也能使处理槽内的处理液浓度稳定。基板处理装置以向包括规定的药液以及纯水的处理液浸渍基板的方式对该基板进行规定的处理。此外，其具备：处理槽，用于进行规定处理的处理液存储于基板；供给部，用于向处理槽供给所述药液或所述纯水；排出部，用于排出存储于处理槽内的处理液；控制部，用于控制由供给部供给药液或纯水；控制部在执行规定处理时向供给部供给药液或所述纯水。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN202111059078.7在审
发明人：佐佐木光敏;高桥朋宏;佐藤昌治;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将基板加工成更复杂的形状的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是将具有交替层叠的氧化膜(Ma)和氮化膜(Mb)的基板(W)，在处理槽(3)中用含磷酸的蚀刻液(E)蚀刻的方法。在第一处理工序(步骤S2)中，控制参数以使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量成为第一目标值。在第二处理工序(步骤S4)中，控制参数以使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量成为比第一目标值低的第二目标值。参数是使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量变动的参数。第二目标值表示与第一目标值相比，氮化膜(Mb)的蚀刻速度更大且氧化膜(Ma)的蚀刻速度更小的值。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201810161422.5有效
发明人：仓崎浩二;枝光建治;佐藤昌治;武知圭;松村刚至;内田博章;山本滋;高桥朋宏;岩谷浩伸;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202110855316.9在审
发明人：佐佐木光敏;高桥朋宏;佐藤昌治;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够容易地确认气泡供给管的开口的状态的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100B)具备处理槽(110)、气泡供给管(180A)、气体供给管(261A)、物理量检测部(253A)和判定部(12)。处理槽(110)贮留处理液(LQ)并浸渍基板(W)。气泡供给管(180A)具有向处理液(LQ)中供给气体以形成气泡的多个开口(G)。气体供给管(261A)向气泡供给管(180A)供给气体。物理量检测部(253A)通过气体供给管(261A)检测由气泡供给管(180A)的状态引起的物理量。判定部(12)基于物理量判定多个开口(G)的状态。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201710850617.6有效
发明人： 杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置和基板处理方法，该技术在基板处理装置或基板处理方法中，能够将处理槽中的处理液的浓度更可靠地保持为适合在该处理槽中进行的处理的浓度。一种基板处理装置，其是将基板浸渍在混合酸水溶液中而对该基板进行蚀刻处理的基板处理装置，包括：处理槽，贮存有混合酸水溶液；处理液更换部，根据处理槽中的混合酸水溶液的作用期限对混合酸水溶液进行全液更换；检测部，用于检测混合酸水溶液中的纯水浓度；浓度控制部，基于利用检测部检测的纯水浓度对处理槽中的混合酸水溶液供给纯水，从而控制纯水浓度以使该浓度成为规定的目标浓度；以及目标值变更部，用于变更下侧基准值(目标浓度)。
处理装置方法

[发明专利]处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统-CN202110300578.9在审
发明人：高桥朋宏;武知圭;内田博章;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能使用来处理衬底的处理液的浓度快速达到目标值的处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统。处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2)，对贮存在第1贮存槽(210)的处理液(LQ)供给促进水分从加热后的处理液(LQ)中蒸发的气体(GA)；及步骤(S3)，从第1贮存槽(210)中排出水蒸气及气体(GA)。处理液(LQ)是含有磷酸的液体。
处理调温方法衬底装置系统

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201980079317.X在审
发明人： 杉冈真治;岸田拓也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：具备：内槽(341)；设于内槽(341)的外周部的外槽(343)；将内槽(341)和外槽(343)连接的第1配管(50)；对从第1配管(50)通过的磷酸水溶液进行加热的加热器(52)；设在第1配管(50)中的加热器(52)与内槽(341)之间的开闭阀(513)；将第1配管(50)中的加热器(52)和内槽(341)之间的配管部与外槽(343)连接的第2配管(60)；以及设在第2配管(60)的开闭阀(61)。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置、以及基板处理方法-CN201980077527.5在审
发明人：松井浩彬;木村隆一;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于，在基板处理装置中容易地进行对基板实施的处理的定制。为了达成该目的，基板处理装置具备两个以上药液处理部、存储部以及控制部。各药液处理部包括处理槽和供液部。处理槽利用处理液对基板实施处理。供液部向处理槽供给处理液。存储部针对各药液处理部存储基板的每单位处理量的处理液的供给量的数值信息。控制部具有获取部、识别部、算出部以及供给控制部。算出部基于数值信息中的与由识别部识别出的一个药液处理部对应的基板的每单位处理量的处理液的供给量的数值、以及由获取部获取的处理量信息，算出向一个药液处理部的处理槽供给的处理液的供给量的数值。供给控制部根据由算出部算出的数值，利用供液部将处理液供给至处理槽。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法-CN202010482294.1在审
发明人：岩田敬次;森田明;高桥朋宏;枝光建治;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法。本发明的课题在于根据处理的进展来调节处理液的循环流量。基板处理装置(1)具有：处理槽(11)，其使基板W浸渍于处理液；溢流槽(12)，其对从处理槽溢出的处理液进行回收；循环配管(13)，其将处理槽(11)与溢流槽(12)连接而使处理液循环；旁通配管(20)，其绕过设置于循环配管(13)的管线上加热器(16)和过滤器(17)而与循环配管(13)并行地连接；和开闭阀(21)，其对旁通配管(20)进行开闭，在硅浓度增高的蚀刻初期等将开闭阀(21)打开，使处理槽(11)中的处理液的流量增加。
处理装置系统方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201880068938.3在审
发明人： 杉冈真治;木村隆一;久保靖 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-10-10 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：基板处理装置，其通过在包含一种以上的药液及纯水的处理液中浸渍基板从而对该基板进行规定的处理，所述基板处理装置具备：处理槽，其贮留有用于对基板进行规定的处理的处理液；处理液更换部，当处理槽中的处理液的使用期到期时，对处理液进行更换；检测部，其对处理液中的纯水或其他的规定成分的浓度进行检测；浓度控制部，其在使用期到期之前的期间，将浓度控制在适于规定的处理的浓度范围内；和延期部，其将利用处理液更换部进行的处理液的更换延期至规定的处理的开始时。此外，在通过延期部而处理液的更换被延期的期间，浓度控制部也将浓度控制在适于规定的处理的浓度范围内。
处理装置方法

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