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[实用新型]用于沉积的掩模-CN201320464581.5有效
发明人：洪宰敏;朴商赫;郑祐永;权昰娜;姜锡昊;李政烈 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本实用新型的用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模包含具有贯穿地形成的掩模对准标记的掩模元件，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和在所述掩模元件的一个表面上形成的不平整区域，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面具有突起和凹陷。根据本实用新型的实施方式，可通过增加形成在基板和掩模上的对准标记的识别率，而防止掩模对准中发生的偏差。结果，可通过降低有机发光二极管(OLED)显示装置的次品率而降低制造成本。
用于沉积

[发明专利]用于沉积的掩模和对准它的方法-CN201310328944.7在审
发明人：洪宰敏;朴商赫;郑祐永;权昰娜;姜锡昊;李政烈 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：根据本发明的用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模包含具有贯穿地形成的掩模对准标记的掩模元件，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和在所述掩模元件的一个表面上形成的不平整区域，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面具有突起和凹陷。根据本发明的实施方式，可通过增加形成在基板和掩模上的对准标记的识别率，而防止掩模对准中发生的偏差。结果，可通过降低有机发光二极管(OLED)显示装置的次品率而降低制造成本。
用于沉积对准方法