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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]蚀刻液组合物、利用其的金属图案的制造方法以及显示装置的制造方法-CN202210611774.2在审
发明人：金炯式;朴种熙;南基龙;闵庚灿;朴镛云;张晌勋;金英民;李东勋;李秉洙;林奎勋;丁荣鲁;李昔准;曺雨辰 -专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明公开了蚀刻液组合物、利用其的金属图案的制造方法以及显示装置的制造方法，根据本发明的一实施例的蚀刻液组合物包含：8重量％以上且15重量％以下的硝酸；3重量％以上且8重量％以下的烷基磺酸；25重量％以上且55重量％以下的有机酸；15重量％以上且25重量％以下的硫酸盐；0.01重量％以上且1.0重量％以下的金属盐；0.5重量％以上且7重量％以下的硝酸盐；以及使得整体组合物的总重量成为100重量％的水。
蚀刻组合利用金属图案制造方法以及显示装置

[发明专利]铟金属氧化物膜蚀刻剂组合物及使用其的图案形成方法-CN202211397523.5在审
发明人： 朴镛云;金童基;李昔准;张晌勋 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2022-11-09 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：提供了一种铟金属氧化物膜蚀刻剂组合物和使用该组合物的图案形成方法。根据本发明的实施例，铟金属氧化物膜蚀刻剂组合物相对于组合物的总重量包含：6重量％至12重量％的硝酸类氧化剂；1.5重量％至7重量％的硫酸氢盐类化合物；0.1重量％至9重量％的环状胺；以及剩余量的水。通过使用蚀刻剂组合物，可以在不损坏金属层或ITO层的情况下形成铟金属氧化物膜图案。
金属氧化物蚀刻组合使用图案形成方法

[发明专利]用于含银金属膜的蚀刻液组合物-CN202210852111.X在审
发明人：南基龙;闵庚灿;朴镛云;张晌勋;李昔准 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明提供一种用于含银(Ag)金属膜的蚀刻液组合物，其包含特定的金属盐化合物。根据本发明的蚀刻液组合物可以抑制鼠咬现象的发生且防止透明导电膜的蚀刻速率由于外部污染源而降低。
用于金属膜蚀刻组合

[发明专利]液晶显示装置用阵列基板的制造方法及用于其的铜系金属膜蚀刻液组合物-CN202010231299.7在审
发明人：郑敬燮;朴镛云;梁圭亨;金相正 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供液晶显示装置用阵列基板的制造方法及用于其的铜系金属膜蚀刻液组合物，上述铜系金属膜蚀刻液组合物包含过氧化氢；含氟化合物或无机酸；唑化合物；有机酸；柠檬酸盐；硫酸盐和磷酸盐中的一种以上；多元醇型表面活性剂；以及水，上述液晶显示装置用阵列基板的制造方法是通过利用上述蚀刻液组合物蚀刻铜系金属膜从而形成源电极/漏电极，能够在不损伤氧化物半导体层的情况下将铜系金属膜一并蚀刻。
液晶显示装置阵列制造方法用于金属膜蚀刻组合

[发明专利]铟氧化膜及钼膜用蚀刻组合物-CN201710157742.9有效
发明人：郑敬燮;朴镛云 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铟氧化膜、钼膜、或铟氧化膜与钼膜的多层膜用蚀刻组合物，包含硝酸、环状胺化合物、含氟化合物和有机酸，且相对于组合物的总重量以0.1～5.0重量％的量包含上述有机酸。本发明的蚀刻组合物对于用作液晶显示装置用阵列基板的像素电极的铟氧化膜及钼膜的蚀刻性能优异，能够将对于下部金属的损伤最小化，且能够在蚀刻多层膜时抑制上部尖端产生，从而能够提高液晶显示装置的驱动特性。
氧化钼膜用蚀刻组合

[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法以及金属图案形成方法-CN201811297108.6在审
发明人：金镇成;金炼卓;朴镛云 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明提供银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法以及金属图案形成方法，所述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物的总重量，包含：1至10重量％的(A)无机酸；30至70重量％的(B)有机酸；0.1至10重量％的(C)过氧化物；0.01至1重量％的(D)在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物；0.01至1重量％的(E)三氮唑化合物；以及(F)余量的水。
蚀刻液组合物银薄膜蚀刻金属图案三氮唑化合物水溶性化合物过氧化物氮原子无机酸有机酸羧基

[发明专利]蚀刻剂组合物、液晶显示器阵列基板制作方法和阵列基板-CN201610121947.7有效
发明人：郑敬燮;权五柄;金相泰;朴镛云;梁圭亨;李恩远;李智娟;崔容硕 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2016-03-03 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：公开了蚀刻剂组合物、用于液晶显示器的阵列基板的制作方法和阵列基板。根据本发明，在制作阵列基板时，使铜基金属层能够被一步蚀刻，并且，当蚀刻厚金属层时，即使在增加加工片材数时，也能够控制侧面蚀刻并能够保持蚀刻速率。
蚀刻组合液晶显示器阵列制作方法

[发明专利]铜系金属膜用蚀刻组合物-CN201710157059.5有效
发明人：郑敬燮;权五柄;朴镛云 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂和两种以上有机酸混合物，上述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。在蚀刻本发明的液晶显示装置用阵列基板的制造中所使用的铜系金属膜时，即使铜金属的厚度增加，也能够均等地调节纵向及横向蚀刻速度而形成微细图案的铜系金属配线。
金属膜蚀刻组合

[发明专利]氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法-CN201510951854.2有效
发明人：权五柄;郑敬燮;金相泰;朴镛云;李恩远;李智娟;崔容硕 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2015-12-17 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： C09K13/08 文献下载
摘要：本发明涉及氧化铟层蚀刻液组合物和利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法，更具体地说，涉及不包括硫酸盐或乙酸盐、而是包括硝酸、唑类化合物、含氟化合物和水的氧化铟层蚀刻液组合物，以及利用其制造液晶显示装置的阵列基板的方法。
氧化蚀刻组合利用制造液晶显示装置阵列方法

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