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[发明专利]肟酯化合物及含有该化合物的聚合引发剂-CN201680033904.1有效
发明人：大石武雄;伊香贺贵之;木村正树;柳泽智史 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2016-09-01 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： C07D209/12 文献下载
摘要：一种肟酯化合物，其由下述通式(I)表示，且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少一个是下述通式(II)所表示的基团。上述肟酯化合物优选通式(I)中的R2、R3、R4及R5中的至少一个是上述通式(II)所表示的基团。另外，优选通式(I)中的R6、R7、R8、R9及R10中的至少一个是吸电子基团。
酯化含有化合物聚合引发

[发明专利]氨基甲酰肟化合物及含有该化合物的聚合引发剂及聚合性组合物-CN202080024832.0在审
发明人：友田和贵;大槻龙也;有吉智幸;冈田光裕;木村正树 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C07C321/30 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供具有高的光产碱效率的化合物。本发明为下述通式(I)所示的氨基甲酰肟化合物。式中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、硝基或氨基甲酰肟基等，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的1个以上为氨基甲酰肟基。氨基甲酸酯基可以在结构中含有由氢原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环、或由氢原子、氧原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环。
氨基甲酰肟化合物含有聚合引发组合

[发明专利]氨基甲酰肟化合物及含有该化合物的聚合引发剂及聚合性组合物-CN202080024046.0在审
发明人：友田和贵;大槻龙也;有吉智幸;冈田光裕;木村正树 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C07C323/32 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供具有高的光产碱效率的化合物。本发明为通式(I)所示的氨基甲酰肟化合物。(式中，A表示碳原子数为6～20的含芳香环的基团，R1表示吸电子性基团，X1表示‑NR2R3等，R2及R3各自独立地表示碳原子数为1～20的脂肪族烃基或碳原子数为6～20的芳香族烃基，R2与R3可以相互连结，形成由氢原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环、或由氢原子、氧原子、氮原子及碳原子构成的碳原子数为2～10的环，n表示0或1。
氨基甲酰肟化合物含有聚合引发组合

[发明专利]氨基甲酰肟化合物以及含有该化合物的聚合引发剂及聚合性组合物-CN202080024419.4在审
发明人：友田和贵;大槻龙也;有吉智幸;冈田光裕;木村正树 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C07D209/80 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供具有高的光产碱效率的化合物。本发明为下述通式(I)所示的氨基甲酰肟化合物。(式中，R1表示氢原子、氰基或碳原子数为1～20的烃基，R2表示氢原子或碳原子数为1～20的烃基，R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9各自独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、硝基、碳原子数为1～20的烃基、或碳原子数为2～20的含杂环的基团等，R3与R4、R6与R7、R7与R8及R8与R9中的至少1组相互连结而形成苯环，n表示0或1。)
氨基甲酰肟化合物以及含有聚合引发组合

[发明专利]磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物-CN201580076280.7有效
发明人：柳泽智史;木村正树;户田瞳;滋野浩一 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2015-03-18 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C07D221/14 文献下载
摘要：本发明提供对365nm波长的光的吸收大且在有机溶剂中的溶解性高、显示出良好的产酸率的磺酸衍生物化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。一种磺酸衍生物化合物，其由下述通式(I)表示。(式(I)中，X表示碳原子数1～14的直链或支链的烷基，R由碳原子数1～18的脂肪族烃基、碳原子数6～20的芳基、碳原子数7～20的芳基烷基、被酰基取代的碳原子数7～20的芳基、碳原子数3～12的脂环式烃基、10‑樟脑基等表示。
衍生物化合物光产酸剂抗蚀剂组合阳离子聚合引发

[发明专利]化合物、组合物、固化物及固化物的制造方法-CN201880061861.7在审
发明人：冈田光裕;三原大树;竹内良智;木村正树 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2018-10-29 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： C07D209/86 文献下载
摘要：本发明的主要目的在于提供例如能够形成电特性优异的固化物的化合物。本发明通过提供下述通式(I)所示的化合物，实现上述目的(通式(I)中的取代基的详细内容参照说明书)。优选下述通式(I)中的R1、R5及R8中的至少1个为具有羟基的基团，优选R1及R8中的至少1个为具有羟基的基团。
化合物组合固化制造方法

[发明专利]组合物及新型化合物-CN201780006082.2在审
发明人：松井依纯;木村正树;铃木智美;冈田光裕 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C08F16/32 文献下载
摘要：一种组合物，其含有具有下述通式(I)所表示的取代基的化合物。(式中，R¹及R²分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、有时还具有取代基的碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团、或者三烷基甲硅烷基，j表示1～3的数，*是指在*部分与相邻的基团键合。)
碳原子数三烷基甲硅烷基烷基新型化合物芳基烷基基团键合卤素原子杂环基团氢原子芳基氰基式中硝基羟基羧基

[发明专利]芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物-CN201580077938.6在审
发明人：柳泽智史;户田瞳;滋野浩一;木村正树 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2015-03-18 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： C07D311/16 文献下载
摘要：提供对基板的腐蚀性低、且光刻特性优异的对光产酸剂和阳离子聚合剂有用的芳香族锍盐化合物、使用其的光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。一种芳香族锍盐化合物，如下述通式(I)所示(式(I)中，R1～R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷基等，R11～R15各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷氧基等，R11～R15中的1个以上不是氢原子，X1‑表示1价的有机磺酸阴离子。)。
芳香族盐化光产酸剂抗蚀剂组合阳离子聚合引发

[发明专利]电子器件模块的安装方法、采用该方法的电子设备的制造方法以及该电子器件模块-CN200680035047.5有效
发明人：小山训裕;山本宗祯;上岛孝纪;中川大;木村正树 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2006-07-28 - 公布日： 2008-09-24 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：提供一种通过利用吸附头来吸附保持而能够高效地进行安装、且能够达到安装状态下的足够的低背化的电子器件模块的安装方法，采用该安装方法的电子设备的制造方法，以及能够实现低背化的电子器件模块。在将表面安装器件2(2a，2b，2c，2d)搭载于电子器件素域1而得到的电子器件模块20的、等于或高于作为最高的表面安装器件的晶体管2(2c)的上端部的位置上，配置吸附表面构成构件12以形成吸附表面12a，用吸附头来吸附该吸附表面，保持电子器件模块，将其搭载于作为安装对象的母板14后，进行消除吸附构成构件的上端部高于搭载于电子器件素域中的最高的表面安装器件上端部的状态的处理。
电子器件模块安装方法采用电子设备制造以及

[发明专利]高频前端模块及天线双工器-CN200680034145.7无效
发明人：原田哲郎;木村正树 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2006-04-11 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： H04B1/44 文献下载
摘要：本发明得到在天线端不配置防浪涌元件、而能够防止浪涌进入LOW侧的接收信号输出端一侧的高频前端模块。高频前端模块具有天线端ANT、天线双工器20、高频开关11G和11D、LC滤波器12G和12D、SAW天线双工器13G和13D。SAW天线双工器13G用弹性表面波滤波器850SAW和900SAW、以及配置在其输入侧的高通滤波器(电容器Ca及电感器La、电容器Cg及电感器Lg)构成，该高通滤波器起到作为防止从天线端ANT进入的浪涌的带防浪涌功能的相位匹配元件的作用。
高频前端模块天线双工器

[发明专利]领圈伸张调整装置-CN02156159.1无效
发明人： 木村正树 -专利权人：朝日纺织机械销售株式会社
申请日： 2002-12-11 - 公布日： 2003-06-25 - 主分类号： A41D27/18 文献下载
摘要：针对洗涤后发生收缩的衬衣领圈需恢复至原始尺寸的问题，提供用较简单的构造取得正确的伸张复原效果的伸张调整装置为本案的目的具体构成为：基台(1)两侧布料的两端安置夹布机构(2a、2b)，其中至少一侧具有可向伸展方向移动的引伸机构，并设有对其伸移长度可以设定的调整机构形成的领圈伸张调整装置，根据洗涤后收缩的衬衣领原始尺寸，通过引张调整机构，以避免过量拉伸地进行设定。
领圈伸张调整装置

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