专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]太阳能电池传送-CN201080021610.X无效
  • C·特鲁延斯 - 恪纳腾公司
  • 2010-05-04 - 2012-04-25 - H01L31/18
  • 一种衬底传送系统,该传送系统具有至少一条用于接收衬底的带,所述衬底在该带上;以间隔的距离设置于带上的止挡器,所述间隔的距离至少与衬底的宽度同宽,止挡器上升到高于带的高度,所述高度在衬底碰到止挡器时足以阻止衬底滑动;用于移动带的电机;以及用于提供带的非对称加速和减速的运动控制器,以使带减速快于带加速,从而通过连续的加速和减速循环使衬底相对于止挡器对齐。
  • 太阳能电池传送
  • [发明专利]用于产生针对晶片的检查过程的方法和系统-CN201080021084.7有效
  • 熊艳 - 恪纳腾公司
  • 2010-03-08 - 2012-04-18 - H01L21/66
  • 本发明提供了用于产生针对晶片的检查过程的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于会在晶片的设计内的不同部位造成至少一种类型的故障机制的缺陷,分别确定针对所述不同部位的局部属性值。所述方法还包括基于所述局部属性值确定灵敏度,将采用所述灵敏度针对与所述设计内的所述不同部位对应的晶片上的不同部位报告缺陷。另外,所述方法包括基于所确定的所述灵敏度产生针对所述晶片的检查过程。可以基于所述局部属性值产生组,由此把将具有至少近似噪声统计的像素分配到同一组,这对于缺陷检测算法将会是重要的。更好的分段可以导致更好的噪声统计估计。
  • 用于产生针对晶片检查过程方法系统
  • [发明专利]用于检测晶片上的缺陷的系统和方法-CN201080005635.0有效
  • L·陈;J·柯克伍德;M·马哈德凡;J·A·史密斯;L·高;J·黄;T·罗;R·沃林福德 - 恪纳腾公司
  • 2010-01-22 - 2011-12-21 - H01L21/66
  • 本发明提供了一种检测晶片上的缺陷的系统和方法。一种方法包括通过用检查系统使用所述检查系统的第一光学状态和第二光学状态扫描所述晶片来针对晶片产生输出。所述第一光学状态和所述第二光学状态由所述检查系统的至少一个光学参数的不同值来限定。所述方法还包括使用利用所述第一光学状态产生的输出针对所述晶片产生第一图像数据并且使用利用所述第二光学状态产生的输出针对所述晶片产生第二图像数据。另外,所述方法包括组合对应于所述晶片上基本相同位置的所述第一图像数据和所述第二图像数据,由此针对所述晶片产生额外图像数据。所述方法还包括使用所述额外图像数据检测所述晶片上的缺陷。
  • 用于检测晶片缺陷系统方法
  • [发明专利]用于检测掩模版上的缺陷的方法和系统-CN200980144501.4有效
  • P·T-S·帕克;W-T·齐亚;A·G·秦;I·马利克;B·达菲 - 恪纳腾公司
  • 2009-12-02 - 2011-10-05 - H01L21/66
  • 提供用于检测掩模版上的缺陷的系统和方法。一种方法包括使用光刻工艺参数的不同的值,在晶片的第一种区域中印刷单管芯掩模版,并且使用所述参数的标称值,在至少一个第二种区域中印刷单管芯掩模版。所述方法还包括获取所述第一种区域的第一图像和所述至少一个第二种区域的一个或更多个第二图像。此外,所述方法包括分开地比较针对不同的第一种区域所获取的所述第一图像与所述一个或更多个第二图像中的至少一个。所述方法还包括基于所述第一图像的第一部分中变化在与所述至少一个第二图像相比的所述第一图像中大于所述第一图像的第二部分的所述第一部分以及对所述第一图像中的两个或更多个共同的所述第一部分,检测所述掩模版上的缺陷。
  • 用于检测模版缺陷方法系统
  • [发明专利]原位差分谱仪-CN200980116526.3有效
  • M·维茨-依拉凡尼;M·那瑟尔戈德斯;G·赵 - 恪纳腾公司
  • 2009-05-07 - 2011-04-13 - G01J3/00
  • 具有电子束生成器的谱仪,所述电子束生成器用于生成被导向试样的电子束。电子束定位器将所述电子束引导至所述试样上的适当位置上,并且从而产生来自所述试样的二次发射流,其中所述二次发射流包括电子和X射线中的至少一种。二次发射流定位器将所述二次发射流定位到检测器阵列上,所述检测器阵列接收所述二次发射流并且检测所述二次发射流的量和被接收到的位置两者。调制器调制被引导至所述试样上的所述电子束,并且从而在所述试样上的第一位置和第二位置之间扫描所述电子束。提取器与所述调制器和所述检测器阵列两者信号通信。
  • 原位差分谱仪
  • [发明专利]缺陷检测及响应-CN200980106688.9无效
  • G·赵;G·H·扎帕拉克;S·S·H·恩盖;M·维茨-依拉凡尼;A·利维;V·达玛蒂卡利 - 恪纳腾公司
  • 2009-12-15 - 2011-01-26 - H01L21/66
  • 为提高检查吞吐量,可以以一恒定速度在试样上移动红外摄像装置的视场。在该移动的整个过程中,可以向所述试样提供调制并且使用所述红外摄像装置获取红外图像。移动所述视场、提供所述调制以及获取所述红外图像可以是同步的。所述红外图像可以被滤波以生成时间延迟锁相热成像,从而提供缺陷识别。该滤波操作可以决定所述红外摄像装置在扫描方向上的像素数。对于光学调制的情况,可以在移动的整个过程中为所述视场提供暗场区域,由此在滤波期间提供改善的信噪比。局部的缺陷可以由被集成到所述检测系统的激光器修复或由墨水标记以在生产线上稍后修复。
  • 缺陷检测响应

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