专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种多晶硅棒破碎装置及其破碎方法-CN202311072814.1在审
  • 韩秀娟;孙彬;吴锋;徐玲锋;闫家强 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2023-08-24 - 2023-10-27 - B02C19/06
  • 本发明涉及多晶硅生产技术领域,尤其涉及一种多晶硅棒破碎装置及其破碎方法,通过将多晶硅棒加热‑急冷处理,使硅棒获得晶间应力产生裂缝;再将产生裂缝的硅棒固定在固定座上,通过驱动机构将破碎装置套于硅棒上,借助外部供气组件使第一气囊和第二气囊充气后包围的硅棒区域即为待破碎的区域;气压脉冲设备运行,在极短的时间内向顶罩内鼓入高压洁净供气,形成气压脉冲,灌入硅棒裂缝中,将裂缝冲开,进而将硅棒破碎。本发明采用的破碎装置能够减少硅料与人的接触,进而避免硅料受到污染;且破碎过程不需借助机械破碎,减少了杂质离子的引入;利用高压脉冲冲击,灌入硅棒裂缝,将其冲开,同时将隐裂显现并冲开,节约人力。
  • 一种多晶破碎装置及其方法
  • [发明专利]电子级多晶硅用硅芯清洗设备-CN202210632512.4有效
  • 吴家印;徐玲锋;赵金波;张海洋 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2022-06-06 - 2023-08-01 - B08B3/04
  • 本发明公开了电子级多晶硅用硅芯清洗设备,该设备包括清洗工装和控制装置,清洗工装包括支撑杆、第一限位板、固定板,固定板沿其周向方向设置有多个硅芯固定孔,硅芯固定孔的孔径大于硅芯直径,且在硅芯的径向上,固定板靠近硅芯一侧的截面面积小于其远离硅芯一侧的截面面积,硅芯固定孔在第一限位板上的投影位于第一限位板内,且第一限位板上与硅芯固定孔对应的区域为非镂空设置;控制装置,控制装置与清洗工装相连,并控制清洗工装上下移动和/或转动。该设备不仅结构简单,操作方便,而且对硅芯进行固定后可实现硅芯与清洗液的充分接触,能解决清洗过程中存在局部死角的问题,使清洗更加均匀,去污除杂效果更好。
  • 电子多晶硅用硅芯清洗设备
  • [发明专利]电子级多晶硅的尾气处理方法-CN202310349188.X在审
  • 吴锋;徐玲锋;马一雷;田新;蒋文武 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2023-04-03 - 2023-06-30 - C01B3/52
  • 本发明公开了一种电子级多晶硅的尾气处理方法,在淋洗塔中利用淋洗液对尾气进行淋洗,淋洗液包括有机胺,得到分离气体和分离液,分离气体从淋洗塔的顶部排出,分离气体包括氢气,分离液中包括三氯氢硅、四氯化硅、有机胺和氯化胺;将分离液由淋洗塔输入反应器中,使得分离液与通入反应器的高沸物反应,得到待精馏液,待精馏液包括有机胺、三氯氢硅和四氯化硅,高沸物包括Si2Cl6和Si3Cl8中的至少之一;在精馏塔中对待精馏液进行精馏处理,得到精馏气体和精馏后混合液,精馏气体包括三氯氢硅和四氯化硅,精馏后混合液包括有机胺。该方法生产效率高,成本低,可有效去除电子级多晶硅尾气中的杂质。
  • 电子多晶尾气处理方法
  • [发明专利]对电子级多晶硅进行清洗的方法-CN202210376804.6有效
  • 闫家强;蒋文武;徐玲锋;吴鹏 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2022-04-11 - 2023-06-20 - B08B3/02
  • 本发明公开了对电子级多晶硅进行清洗的方法。该方法包括:(1)对硅块进行至少两次水洗;(2)利用混酸溶液对水洗后的硅块进行清洗,混酸溶液包括质量浓度为0.1~1wt%的氢氟酸、质量浓度为1~10wt%的乙酸,以及质量浓度为68~72wt%的硝酸;(3)对酸洗后的硅块依次进行至少三次水洗和至少一次喷淋洗。由此,该方法操作简单、方便,可重复,成本低廉,不仅可以显著提高硅块的稳定清洗效果,降低硅块表面的杂质浓度,使得清洗后的硅块产品的清洁度更高,还可以提高硅块表面形态的均匀性,避免硅块表面斑纹、斑点的产生,提升硅块的整体光泽,使清洗后的硅块产品整体更加圆润,便于下游加工。
  • 电子多晶进行清洗方法
  • [发明专利]多晶硅清洗料篮和多晶硅清洗装置-CN202211370140.9在审
  • 李明峰;吴家印;徐玲锋 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2022-11-03 - 2023-03-14 - B08B3/04
  • 本发明公开了多晶硅清洗料篮和多晶硅清洗装置。多晶硅清洗料篮包括:主体部,所述主体部包括底部和第一侧壁,所述底部和所述第一侧壁上均设置有多个第一开孔,所述底部和所述第一侧壁限定出容纳空间;多孔柱,所述多孔柱设置在所述容纳空间内,所述多孔柱包括第二侧壁和顶部,所述多孔柱的第二侧壁远离所述顶部的一端固定在所述主体部的底部上,所述多孔柱的所述第二侧壁上设置有多个第二开孔。由此,该料篮中堆放的多晶硅块或粉状料可以与酸液充分接触,料篮中的酸液也可以快速更新,从而更加彻底的清除多晶硅块或粉状料表面的杂质,使多晶硅块或粉状料表面的金属杂质的浓度满足使用要求。
  • 多晶清洗装置
  • [发明专利]切割U形硅棒的方法-CN202211475782.5在审
  • 高召帅;姚旺;王海豹;徐玲锋;王锐娟;张海洋;李祥飞 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-03-07 - B28D5/00
  • 本发明公开了一种切割U形硅棒的方法,该方法包括:U形硅棒包括第一延伸部、第二延伸部和弯曲部;切割线X设在参照线Y的远离弯曲部的一侧,且切割线X与参照线Y平行,切割线X与参照线Y之间的垂直距离为L,L不小于2D;设切割线X与参照线Y之间的U形硅棒的区域为第一切割区域A,从切割线X开始,沿着远离弯曲部的第一方向延伸形成第二切割区域B;分别在第一切割区域A和第二切割区域B内确定n条切割线,并依次沿着n条切割线进行切割,其中,n不小于2的整数;沿着切割线X对U形硅棒进行切割。由此,显著降低了U形硅棒在切割分离过程中的断裂概率,极大提高了U形硅棒的收率,降低了切割分离过程中的操作风险。
  • 切割形硅棒方法
  • [实用新型]物料分选系统-CN202122615702.9有效
  • 吴家印;徐玲锋;仝礼 - 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
  • 2021-10-28 - 2022-04-05 - B07C5/10
  • 本实用新型公开了一种物料分选系统,包括:传输设备、多个图像采集分析设备和用于收集物料的收集组件。多个图像采集分析设备沿平行于传输设备的传输方向间隔排布,图像采集分析设备用于采集所述传输设备上的物料图像并分析计算所述物料的尺寸,每个所述图像采集分析设备所采用的尺寸参考范围均不同;收集组件包括动力组件和多个合格料收集盒,合格料收集盒的数量与图像采集分析设备的数量相同且一一对应,在物料处在相应的尺寸参考范围内时,动力组件将物料收集至对应的合格料收集盒内。根据本实用新型实施例的物料分选系统,既能对物料进行分级筛选,又能避免物料在筛选过程中被污染,使物料在筛选收集后依旧能保持较高的纯度。
  • 物料分选系统
  • [发明专利]一种硅块破碎装置及使用方法、硅块破碎方法及应用方法-CN202110769884.7有效
  • 吴锋;田新;王付刚;徐玲锋;陈卓 - 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
  • 2021-07-08 - 2021-10-08 - B02C19/18
  • 本发明涉及破碎装置技术领域,尤其涉及一种硅块破碎装置,包括:容器,提供待破碎硅棒的容纳空间,且在容纳空间内执行破碎动作;两脉冲电极,在容纳空间内悬挂设置,且悬挂高度及两脉冲电极在水平面内的位置均可调节;容器内设置有高纯水,脉冲电极在高纯水内产生脉冲电弧,高纯水的电阻率为ρ,单位为MΩ.cm,16MΩ.cm≤ρ≤20MΩ.cm。本发明中,在脉冲破碎过程中,硅棒接触的介质为高纯水,避免了人工或机械破碎过程中人或金属材料引入的污染,在电极处形成脉冲电弧,电弧进入多晶硅内部,形成等离子体电弧通道,最终将硅棒破碎为大小尺寸不一的硅块。本发明中还请求保护硅块破碎装置的使用方法,以及一种硅块破碎方法及应用方法。
  • 一种破碎装置使用方法方法应用
  • [发明专利]对多晶硅生产中循环氢进行纯化的方法及系统-CN202010121514.8在审
  • 吴锋;赵培芝;孙江桥;徐玲锋 - 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
  • 2020-02-26 - 2020-06-12 - C01B3/58
  • 本发明公开了对多晶硅生产中循环氢进行纯化的方法及系统。该方法包括:(1)利用活性炭对多晶硅生产中的尾气进行吸附处理,以便得到氢气粗品;(2)利用液氮对所述氢气粗品进行冷凝处理;(3)将冷凝处理后的氢气依次经贵金属催化剂催化、分子筛吸附和过滤器过滤,以便得到初级纯化氢气;(4)利用金属合金对所述初级纯化氢气进行吸附处理,以便得到高纯氢气,其中,所述金属合金包括选自Ti‑Cr‑V‑Zr合金、Ti‑V‑Zr合金、Fe‑Zr‑V合金和Li‑Ba‑Mo合金中的至少一种。该方法不仅工艺简单、流程短,而且提纯效率高,纯化效果好,最终提纯得到的高纯氢气中甲烷和氮气的体积含量均不高于50ppm,可广泛应用于工业生产。
  • 多晶生产循环进行纯化方法系统

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