专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种简易可溶性的高价锡的还原方法-CN202010478475.7在审
  • 林章清;刘江波;章晓冬;童茂军;何琪 - 广东天承科技有限公司
  • 2020-05-29 - 2020-09-18 - C23C18/31
  • 本发明公开了一种简易可溶性的高价锡的还原方法。本发明的简易可溶性的高价锡的还原方法为:通过输送装置将化锡槽中的化锡原液输送至装有锡单质的过滤装置,在过滤装置中将四价锡转化为二价锡,再将还原后的化锡液输送回化锡槽中循环。本发明的简易可溶性的高价锡的还原方法,是在化锡槽内降低四价锡浓度并使二价锡维持一定浓度的方法,延长了锡液寿命,减少了锡液消耗量,同时能防止锡槽内四价锡大量生成产生沉淀。化锡原液中,四价锡的质量浓度为1~10g/L,二价锡的质量浓度为10~20g/L,经还原后,四价锡的质量浓度降低为1~5g/L,二价锡的质量浓度保持在14~16g/L平衡状态。
  • 一种简易可溶性高价还原方法
  • [发明专利]一种电镀液及其电镀方法-CN201810993673.X有效
  • 章晓冬;冯建松;刘江波;苏向荣;王科;宋通;李智信 - 广东天承科技有限公司
  • 2018-08-29 - 2020-04-28 - C25D3/56
  • 本发明提供了一种电镀液及其电镀方法。该电镀液,按质量浓度计,包含如下组分:四价钒0.3~25g/L、二价铁4~10g/L、三价铁0.3~5g/L、硫酸铜100~250g/L、硫酸50~210g/L、氯化物30~150mg/L。本发明的电镀液中,通过调节四价钒、二价铁、三价铁、硫酸、硫酸铜及氯化物的质量浓度,使钒体系和铁体系结合发挥更高的深镀能力。本发明的电镀方法,操作简单、速度快,一般只要20‑120分钟即可完成电镀,板面镀层厚度薄,无需进行减薄处理;板面镀层厚度分布均匀,提高了电路板的生产效率。
  • 一种电镀及其方法
  • [实用新型]一种电镀铜用复合阳极板-CN201920586754.8有效
  • 刘江波;冯建松;章晓冬 - 广东天承科技有限公司
  • 2019-04-26 - 2020-02-21 - C25D17/10
  • 本实用新型涉及一种电镀铜用复合阳极板,所述复合阳极板包括电极活性层和惰性金属层,二者之间设有导电胶层;所述电极活性层为石墨或碳毡层,所述惰性金属层为钛板。本实用新型利用较薄的电极活性层与惰性金属层复合的方式,得到了一种适用于电镀铜用的复合阳极板,既增强了碳电极的机械强度,同时惰性金属板又能起到更好的导电作用,相比于钛涂层电极,这种电极采用价格低廉的高密度石墨或碳毡,大大降低了成本。所述复合阳极板在工作过程中电极活性层优先损耗,在石墨或碳毡层损耗之后,钛板可以回收后再次用于加工电极,具有良好的经济效益和应用前景。
  • 一种镀铜复合阳极板
  • [实用新型]一种电镀用铜离子补充装置-CN201920604388.4有效
  • 刘江波;章晓冬;冯建松;苏向荣 - 广东天承科技有限公司
  • 2019-04-28 - 2020-02-21 - C25D21/14
  • 本实用新型涉及一种电镀用铜离子补充装置,所述装置包括槽体、离心泵以及储液槽,所述槽体内包括若干独立的槽室,槽室底部设有多孔隔板,槽室底部与储液槽联通且二者之间设有流量调节阀,所述离心泵位于储液槽与槽体之间,离心泵的输出端连接有多个输送管路,每个输送管路对应于一个槽室,用于向槽室内输送电镀液,每个输送管路的输出端设有阀门。本实用新型通过对溶铜装置结构的改进,实现了对电镀液流量和溶铜量的精确控制,且整个补充过程离心泵持续进行工作,使电镀液的成分浓度保持平稳,具有良好的应用前景。
  • 一种电镀离子补充装置
  • [实用新型]一种电镀用铜离子补充装置-CN201920604497.6有效
  • 冯建松;刘江波;章晓冬;苏向荣 - 广东天承科技有限公司
  • 2019-04-28 - 2020-02-21 - C25D21/14
  • 本实用新型涉及一种电镀用铜离子补充装置,所述装置包括一个壳体,所述壳体内设有过滤层,壳体内位于所述过滤层的一侧设有放置腔,另一侧设有出液管道,壳体内贯穿过滤层设有进液管,所述进液管的出液口位于放置腔内。本实用新型提供的装置中设有过滤结构,能够避免细小的铜粒随电镀液流出,使得该装置内部可以填充小粒径的铜粒用于向电镀液中补充铜离子,大大提高铜粒的比表面积,从而可以用更少量的铜球实现相同的溶铜速率,可大幅度减小前期开线的成本。所述装置同样适用于其他金属电镀过程中金属离子的补充,具有良好的经济效益和应用前景。
  • 一种电镀离子补充装置

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